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文档简介

1、 国防科学技术大学研究生院学位论文探测器平面上莫尔干涉条纹的分布受光栅栅距、入射光波长、光斑尺寸、光束入射角等多个参数的影响。本节将依据方程(2.30就透射式光栅干涉仪中光路参数变化对条纹的影响进行数值分析。若透射式光栅干涉仪光路处于理想情况,即两束单色平面波P和Q都位于%z平面内,且对称z轴入射光栅G,则光束入射角分别为嵋e一磊;随一蠹“蒌辇;篙一童|孽鍪;要*一型女§一毯。法商霪冀粪鍪囊萎嚣囊鬟管一鐾i喜。§醅!塑霾霪递一囊“lj萋蠢菱篓鳕“薹伊席;冀饕垂霞嘉羹囊藜囊馥霎鋈麓鍪薹蘩翼商一§嚣群划:霆囊羹利瓣羹嚣囊鬟羹g,;l!需翟龠捌望t喜焉璧革j骝翟枨竖稽孳

2、奄一i÷童露。毳磊塑萝砻燮垂霪翘鸶蓄;j洼币凑曛m伟嘴遨,张捌眇ii;镕l摧蠕淆i耐聪肄诗,羊庸审瓣鞲竿如稻掠比较分析可以看出,在大量程、纳米级的位移测量方法中,目前仅有激光干涉仪和光栅测量法可以胜任。对于使用激光干涉仪还是光栅测量法,国内外的专家学者以及工程技术人员都在进行不断的探讨,本文并不想过多地参与讨论,主要工作重点还是放在大量程纳米级光栅位移测量的理论和方法上。§1.3光栅位移测量技术的现状和发展趋势人类对光栅的研究,已经有一百多年的历史。光栅技术,也被称为莫尔(Moi砖技术。莫尔一词来源于法语,最初用于表示光线通过重叠的丝绸时产生的明暗现象,后来被用于表示两块网

3、格或光栅重叠时产生的条纹。1874年,Lord Raylei曲首次描述了两块光栅重叠时形成的莫尔条纹,并于1887年指出了莫尔条纹可用于检测栅线的均匀性。但直到1945年,Tolenaar给出了莫尔条纹的几何解释后,莫尔技术才被用于位移测量。1953年英国Femmti公司的爱丁堡实验室设计了第一个利用莫尔条纹进行测量位移的样机。进入20世纪60年代以后,随着光栅刻制技术和电子技术的发展,莫尔技术得到了广泛应用nw。莫尔技术可分为两类:一类是几何莫尔术儿舳1(Geome竹Moir6,另一类是奠尔干涉术。”18叩3(Mo酯Inte疵rome衄。几何莫尔术一般由两块粗光栅叠合在一起来实现,可用简单的几何光学进行分析;莫尔干涉术是利用光栅的衍射效应来实现的,必须用衍射理论来分析。莫尔干涉术是光学干涉术和几何莫

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