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文档简介
1、会计学1TFTLCD面板玻璃减薄工艺流程面板玻璃减薄工艺流程(n y li chn)及不良简介及不良简介第一页,共26页。减薄的作用1减薄工艺简介2常见的减薄不良32第1页/共25页第二页,共26页。1.减少占有的空间2.使Glass达到一定(ydng)的柔性3第2页/共25页第三页,共26页。用酸碱对Glass进行刻蚀,从而达到减薄的目的。防止酸碱溶液从边缘处进入液晶盒内,破坏封框胶,进入Cell内部,影响产品性能。获得光亮、平整的表面。封胶减薄研磨4第3页/共25页第四页,共26页。 封胶工艺封胶工艺防止强酸破坏防止强酸破坏Cell封框胶以及进入封框胶以及进入Cell内部内部1. 加盖遮光
2、垫 2.涂胶 3.擦胶 4. UV固化固化UV胶胶破坏破坏TFT结结构构 一般在这之前还会进行(jnxng)检查。 涂胶后静置1min。 清除(qngch)多的UV胶。 UV固化后检查(jinch)5第4页/共25页第五页,共26页。UV固化UV灯GLS边框胶涂胶后检查(jinch)涂胶加盖遮光垫6第5页/共25页第六页,共26页。原理(yunl)及方式单片直立单片直立(zh l)喷洒喷洒瀑布瀑布(pb)流流多片直立浸泡多片直立浸泡原理原理12346HF+SiO2-H2SiF6+2H2O液体+固体(玻璃)-液体7第6页/共25页第七页,共26页。单片直立单片直立(zh l)喷洒喷洒瀑布瀑布(p
3、b)流流多片直立浸泡多片直立浸泡优点:优点:1.可以同时间处理多片玻璃。缺点:缺点:1.装置大型。2.外围产生沉淀物,白色粉沫,容易粘附在Glass上。优点:优点:1.可以可以(ky)满足两面不同蚀刻要求。多片缺点:满足两面不同蚀刻要求。多片缺点:1.蚀刻表面易产生凹点。蚀刻表面易产生凹点。优点:优点: 1.表面最光滑,甚至可以不用抛光8第7页/共25页第八页,共26页。Text in here蚀刻蚀刻(shk)清洗清洗(qngx)清洗清洗Slimming9第8页/共25页第九页,共26页。10其余组件(z jin): 供酸装置 HF酸浓度计 温度控制器 洗气装置Loader单元单元预清洗单元
4、蚀刻单元清洗单元干燥单元Unloader单元 第9页/共25页第十页,共26页。111.反应时间与玻璃(b l)质量损失的关系图1.反应时间与玻璃质量(zhling)损失之间的关系第10页/共25页第十一页,共26页。122.反应(fnyng)速率与反应(fnyng)温度的关系图2.玻璃(b l)在HF酸中反应速率与反应温度之间的关系第11页/共25页第十二页,共26页。133.反应速率(sl)与HF酸浓度的关系图3.玻璃在HF酸中反应速率与HF酸浓度(nngd)之间的关系说明: (HF)2是HF酸溶液中的最主要活性成分,因为以氢键形式存在的HF键比HF分子中的HF键更脆弱,与SiO2反应时更
5、容易断裂。第12页/共25页第十三页,共26页。14DI浸泡碱浸泡酸浸泡DI浸泡a. 5-10% NaOHb. 45鼓泡C. 10mina. 3% HClb. 或常温C. 1mina. DI水b. 常温C. 5mina. DI水b. 常温C. 5min清洗第13页/共25页第十四页,共26页。清洗(qngx)外观(wigun)检查Polishing外观(wigun)检查RejectItemItem自动研磨自动研磨手动研磨手动研磨PicturePicture适应产品适应产品无破损产品无破损产品所有产品所有产品可修复不良可修复不良不良率高发,严重不良不良率高发,严重不良不良率较低的轻微不良不良率较
6、低的轻微不良CAPACAPAQ-panelQ-panel抛光,效率高抛光,效率高针对单点不良修复,效率低针对单点不良修复,效率低研磨研磨15第14页/共25页第十五页,共26页。16减薄工艺自身(zshn)不良1.不可擦拭脏污2.薄化不匀薄化不匀第15页/共25页第十六页,共26页。17玻璃(b l)本身含有杂质.1. 除胶未干净除胶未干净(gnjng),有残留,有残留2. PT等未清洗干净等未清洗干净(gnjng)1. 设备故障(Conveyer)2.瀑布流分叉(瀑布流蚀刻方式)3.Nozzle堵塞(喷淋式蚀刻方式) 玻璃被蚀刻时玻璃被蚀刻时局部蚀刻不一致局部蚀刻不一致工艺设备工艺设备玻璃表
7、面玻璃表面玻璃本身玻璃本身第16页/共25页第十七页,共26页。18Slimming前发生轻微ScratchSlimming后Scratch程度加重Human eye invisibleSlimming第17页/共25页第十八页,共26页。191.Lift Pin 凹点第18页/共25页第十九页,共26页。202.Robot吸盘(xpn)凹点第19页/共25页第二十页,共26页。213.轮印第20页/共25页第二十一页,共26页。22现象: ADS产品做完B-ITO后,产品与BOX接触的位置ITO被严重腐蚀 ,类似产品表面水干燥后残留的印记。原因: BOX在Slimming车间长期周转,sli
8、mming车间内酸气长期在BOX表面附着(fzhu),从而使BOX表面呈现酸性1.水渍(shu z)酸印第21页/共25页第二十二页,共26页。231.电阻(dinz)超标原因(yunyn): 酸残留第22页/共25页第二十三页,共26页。玻璃基板表面蚀刻状况确认玻璃基板表面蚀刻状况确认TFT端子部腐蚀状况的确认端子部腐蚀状况的确认牢固度确认牢固度确认将其放入冷热交替的冷热槽将其放入冷热交替的冷热槽中中对对LCM进行显示检查和进行显示检查和显微显微镜镜Glass外观外观检查检查高温高高温高湿湿的老化槽内进行的持续老的老化槽内进行的持续老化。化。 SEM对对TFT端子部的表面和断面的端子部的表面和断面的观察分析观察分析对对LCM进行冲击进行冲击和跌落
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