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限时训练101、在一定条件下，下列物质不能与二氧化硅反应的是焦炭 纯碱 碳酸钙 氢氟酸 硝酸 氢氧化钠 硝酸钙A B C D2、下列试剂可用带玻璃塞的玻璃瓶存放的是ANaOH溶液 BNa2SiO3溶液 C盐酸 D氢氟酸3、下列反应不能一步完成的是ASiO2Na2SiO3 BSiO2H2SiO3 CNa2CO3Na2SiO3 DH2SiO3SiO24、下列叙述正确的是A. 相同条件下，M2和O2的混合气体与等休积的N2所含原子数不相等B. 等物质的量的甲基（-CH3）与羟基(-OH)所含电子数相等C. 常温常压下28 g CO与22.4 L O2所含分子数相等D. 16 g CH4与18 g NH+4所含质子数相等5、对相同状况下的12C18O和14N2两种气体，下列说法正确的是A若质量相等，则质子数相等B若原子数相等，则中子数相等C若分子数相等，则体积相等D若体积相等，则密度相等6、某氯化镁溶液的密度为1.18g/cm3，其中镁离子的质量分数为5.1%，300mL该溶液中Cl离子的物质的量约等于A0.37mol B0.63mol C0.74mol D1.5mol7、下列离子方程式不正确的是A硅酸钠溶液与澄清石灰水反应：SiO32Ca2=CaSiO3B向澄清的石灰水中通入过量的CO2：CO2OH=HCO3C向小苏打溶液中加入过量的石灰水：2HCO3Ca22OH=CaCO32H2OCO32D向水玻璃中加入过量盐酸：2HSiO32=H2SiO38、以下各组物质反应时，所得产物与各物质的多少无关的是AlCl3NH3H2O Na2CO3HCl CO2NaOH Na2CO3(s)SiO2Na2SiO3HClA B C D9、某无色溶液中加入过量盐酸有沉淀产生，过滤后向滤液中加入过量氨水又有沉淀产生，下列溶液中符合此条件的是 AMg2+、Al3+、K+ BSiO32-、AlO2-、K+ CAg+、Cu2+、Na+ DAg+、Ba2+、 Na+ 10、三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是ANF3是氧化剂，H2O是还原剂 B还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1C若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子 DNF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体11、硅单质及其化合物应用范围很广。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅.粗硅与干燥的氯气在450500反应制得SiCl4.SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在11001200反应制得纯硅已知SiCl4沸点为57.6，能与H2O强烈反应（1）第步制备粗硅的化学反应方程式为 。（2）以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。回答下列问题：装置A中g管的作用是 ；装置C中的试剂是 ；装置E中的h瓶需要冷却的理由是_；装置E中h瓶收集到的粗产物可通过 （填实验操作）得到高纯度四氯化硅。（3）整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是 ；H2还原SiCl4过程中若混O2，可能引起的后果是 。12、物质A是一种重要的半导体材料，化合物C可用于制造高性能的现代通讯材料光导纤维，C与烧碱反应生成化合物D。(1) 在元素周期表中，A位于第 周期 族，与A同族但相对原子质量比A小的元素B 的原子结构示意图为 。(2) C易与某种酸发生化学反应，反应的化学方程式是 。(3) 将C与纯碱混合高温熔融时也生成D，同时还生成E；将全部的E与全部的D在足量的水中混合后，又发生化学反应生成化合物F。 分别写出生成D和F的化学反应方程式： ； 。 要将纯碱高温熔化，下列坩埚中可选用的是 (填字母序号)。A普通玻璃坩埚 B石英玻璃坩埚 C瓷坩埚 D铁坩埚选择题答案栏：题 号12345678910答 案限时10答案题 号12345678910答 案BCBBCDCBBD11、（1）SiO22CSi2CO（2）平衡压强；浓硫酸；使SiCl4 冷凝；蒸馏（3）H2SiO3（或H4SiO4）和HCl；爆炸