香港中文大学(深圳)《快速成型与快速制模》2023-2024学年第一学期期末试卷_第1页
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学校________________班级____________姓名____________考场____________准考证号学校________________班级____________姓名____________考场____________准考证号…………密…………封…………线…………内…………不…………要…………答…………题…………第1页,共3页香港中文大学(深圳)

《快速成型与快速制模》2023-2024学年第一学期期末试卷题号一二三四总分得分批阅人一、单选题(本大题共20个小题,每小题1分,共20分.在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的.)1、材料的磁性是其重要的物理性能之一。对于铁磁性材料,以下描述正确的是()A.铁磁性材料在居里温度以上会转变为顺磁性B.铁磁性材料的磁化强度与外加磁场强度成正比C.铁磁性材料的磁导率是一个常数D.所有金属都是铁磁性材料2、一种金属间化合物在高温下具有良好的强度和稳定性。以下哪种元素组合最有可能形成这种高性能的金属间化合物?()A.铝-钛B.铁-镍C.铜-锌D.镁-铝3、对于高分子材料,其性能受到分子量及分子量分布的影响。一般来说,分子量增大,材料的强度通常会()A.降低B.不变C.先升高后降低D.升高4、在研究一种新型金属材料的力学性能时,发现其抗拉强度远高于传统材料。以下哪种微观结构特征最有可能是导致这种高强度的原因?()A.细小均匀的晶粒B.大量的位错C.粗大的晶界D.较多的夹杂物5、在研究材料的光学性能时,折射率是一个重要参数。对于透明材料,折射率越大,其以下哪种性能越好?()A.透光性B.反射性C.散射性D.吸收性6、在分析材料的耐磨涂层性能时,发现涂层与基体之间的结合强度对其耐磨性有重要影响。以下哪种方法可以提高涂层与基体的结合强度?()A.增加涂层厚度B.对基体进行预处理C.降低涂层的硬度D.改变涂层的成分7、在磁性材料中,根据磁化特性的不同可以分为软磁材料和硬磁材料。软磁材料通常具有()A.高矫顽力和高剩磁B.低矫顽力和低剩磁C.高矫顽力和低剩磁D.低矫顽力和高剩磁8、对于一种耐磨涂层材料,要提高其与基体的结合强度,以下哪种方法较为有效?()A.增加涂层厚度B.进行预处理C.优化涂层成分D.以上都可以9、在材料的加工过程中,经常会用到冷加工和热加工两种方法。如果对一种金属进行冷加工,以下哪种性能的变化最为显著?()A.强度B.塑性C.韧性D.导电性10、功能陶瓷材料具有多种特殊的功能,如压电陶瓷、热敏陶瓷等。对于压电陶瓷,其主要的功能特点是什么?()A.能够将压力转化为电能B.电阻随温度变化而显著变化C.具有高的介电常数D.硬度高、耐磨性好11、对于一种用于污水处理的吸附材料,要提高其吸附容量和选择性,以下哪种改性方法可能最为有效?()A.表面官能团化B.构建多孔结构C.负载金属离子D.以上都是12、一种新型的隔热材料在高温下具有很低的热导率。以下哪种微观结构特征最有可能是导致其低导热性能的原因?()A.大量封闭气孔B.层状结构C.纤维状结构D.纳米孔隙13、材料的阻尼性能是指材料在振动过程中消耗能量的能力,那么影响材料阻尼性能的主要因素有哪些?()A.材料的化学成分、微观结构B.温度、频率、应变幅值C.材料的制备工艺、热处理条件D.以上都是14、在高分子材料的聚合反应中,逐步聚合和链式聚合的反应机理不同。逐步聚合通常()A.反应速度快B.分子量分布窄C.单体转化率高D.以上都是15、对于磁性材料,磁畴的大小和分布对材料的磁性有重要影响。以下哪种方法可以观察磁畴结构?()A.扫描电子显微镜B.透射电子显微镜C.磁力显微镜D.光学显微镜16、一种高分子共混材料的性能不理想。为了改善其性能,可以通过以下哪种方法?()A.调整共混比例B.加入相容剂C.改变加工工艺D.以上都可以17、在材料的拉伸试验中,真应力和工程应力的计算方法不同。在材料发生颈缩后,真应力()A.小于工程应力B.等于工程应力C.大于工程应力D.与工程应力无关18、在研究金属材料的晶体结构时,面心立方晶格的原子配位数是12,而体心立方晶格的原子配位数是8。以下关于这两种晶格结构特点的描述,正确的是()A.面心立方晶格的致密度高于体心立方晶格B.体心立方晶格的塑性优于面心立方晶格C.面心立方晶格的硬度大于体心立方晶格D.体心立方晶格的熔点高于面心立方晶格19、对于一种用于储能飞轮的复合材料,要提高其能量存储密度,以下哪种设计策略最为关键?()A.提高转速B.增加飞轮质量C.优化材料的强度和密度D.改进制造工艺20、高分子材料的加工方法有很多种,那么常见的高分子材料加工方法有哪些?()A.挤出成型、注塑成型、吹塑成型B.压延成型、模压成型、传递成型C.发泡成型、热成型、旋转成型D.以上都是二、简答题(本大题共5个小题,共25分)1、(本题5分)论述高分子材料的粘弹性表现,解释蠕变和应力松弛现象,分析影响其粘弹性的因素,并举例说明在实际中的应用。2、(本题5分)解释什么是材料的扩散,论述扩散的机制和影响扩散的因素,分析扩散在材料加工和性能改善中的作用。3、(本题5分)详细阐述材料的光学性能,包括光的反射、折射、吸收和透射等,说明这些性能与材料结构和成分的关系,分析影响光学性能的因素及应用。4、(本题5分)解释金属材料的氢脆现象,探讨氢脆产生的条件和预防措施。5、(本题5分)详细论述陶瓷材料抗弯强度的测试方法和影响因素,解释为什么陶瓷材料的抗弯强度通常低于其抗压强度,并提出提高陶瓷抗弯强度的途径。三、计算题(本大题共5个小题,共25分)1、(本题5分)已知一种磁性材料的磁滞损耗为50焦耳/立方米,在一个体积为0.05立方米的磁芯中,计算一个周期内的磁滞损耗能量。2、(本题5分)一块塑料板,长50cm,宽30cm,厚5mm,材料的比热容为1500J/(kg·K),质量为2kg,从20℃加热到80℃,计算吸收的热量。3、(本题5分)某种陶瓷材料的硬度为2000HV,压头为金刚石圆锥,试验力为1500N,计算压痕表面积。4、(本题5分)一种液晶材料的电光系数为10^-2米/伏,外加电压为5伏,液晶盒厚度为10微米,计算光的透过率变化。5、(本题5分)一块平行四边形的铜板,底为8厘米,高为5厘米,厚度为1.5毫米,铜的密度为8.9克/立方厘米,计算质量。四、论述题(本大题共3个小题,共30分)1、(本题10分)全面论述材料的光学薄膜的性能优化和制备工艺改进,探讨光学薄膜的光学常数、厚度均匀性等性能指标的优化方法,研究制备工艺的创新和

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