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文档简介

控制流程图装置操作压力控制示例：1.控制范围装置操作压力（冷高分压力）控制PIC7021：（12～14.6）MPa。2.控制目标1）操作压力PIC7021≤14.6MPa。2）设定压力波动不超过±0.5MPa。3.相关参数冷高压分离器顶部压力指示PI7020A；新氢压力低保护控制PIC7030A；循环氢排放流量控制FIC7037；高信号选择开关PY7021C；高信号选择开关FY7037。4.控制方式1）装置操作压力控制PIC7021，正作用，采用分程控制，与新氢压力低保护控制PIC7030A、循环氢排放流量控制FIC7037组成复杂控制回路。2）PIC7021输出0%～50%，新氢二返一控制阀阀位0%～100%；PIC7021输出50%～100%，循环氢排放阀阀位0%～100%。3）正常操作时，PIC7021输出在0%～50%，对新氢二返一控制阀进行调节，改变进入装置的新氢量。当压力较高，PIC7021输出达到50%～100%，此时打开循环氢排放阀以降低压力。压力控制PIC7021输出正常调整影响因素调整方法装置压力波动PIC7021通过分程控制达到稳定压力的目的

异常调整现象原因处理方法装置压力快速下降新氢中断关闭排废氢阀门，装置改反应分馏大循环排废氢阀FV7037故障打开FV7037改用副线阀控制，联系仪表处理新氢二返一控制阀故障全开调节阀改用副线阀控制，联系仪表处理装置压力快速下降排废氢阀FV7037故障关闭FV7037改用副线阀控制，联系仪表处理新氢二返一控

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