电子化学品行业系列报告之三：靶材行业：充分受益下游行业产业链转移靶材行业将在电子化学品中率先突破

201711122017

评级：增 维持评 行业深度研

市场数据(人民币市场数据(人民币300

国金行 沪深

行业观点国内政策扶持明显，下游产业迎来发展黄金期，产业链向国内转移是大势所趋；产业链转移带动上游材料同步发展，上游材料进口替代空间大；技国内目前龙头企业的技术已经达到了国际先进水平，与国际龙头公司相比缺乏和下游公司共同研发的经验，认证难度也相对较大。随着我国溅射靶材的市场规模将进一步扩大，在全球市场中有望获得更多客户的认可，市场2016105规模年复合增长率可达到13%。高纯靶材市场中，半导体靶材占12%，平34%18.5%30%，其生产工艺的难202225亿元。2017年相关报告相关报告2.《多重利好支撑油价持续上涨，各农药品3.《精细化工品系列报告之二：受益于光纤4.《中东地缘局势支撑油价，吡虫啉价格再5.《采暖季限产对化工子行业的供需影响分析之一？？？？？？ ——...》42%201813座晶圆厂建成投产，国内晶圆产能95%，国内靶材市场需求也会相应大幅增加。国产半导体靶材的市场占比将会显著提升。随着国产溅射靶材的技术成熟，尤其是国产溅射靶材具备较高的性价比优势，并且符合溅射靶材国产化的政策导向，我国溅射靶材的市场规模将进一步扩大，在全球市场中有望获OLED对薄膜的使用量会大幅增加，相应的靶材需求量就会大幅增加。2016年全球3880亿元。蒲强分析师SAC执业编号：S1130516090001蒲强分析师SAC执业编号：S1130516090001郭一凡分析师SAC执业编号：S1130517050005霍堃陈铖何雄联系人联系人联系人投资建议：受下游平面显示、半导体行业迅速发展和国内政策支持双重推动，我们认为靶材是目前国内相比于其他电子化学品最先打入下游核心产业链的子行业。重点推荐半导体靶材龙头公司江丰电子、有研新材，平面显示靶材龙头公司隆华节能、阿石创。风险提示

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内容目录投资逻 靶材行业简 靶材的分类及应 靶材的制备方 靶材行业的生产的技术壁 溅射靶材产业链及市场容 靶材上游产业主要被国外垄 高纯铝是我国靶材上游材料的突破 半导体靶材：是国内技术最为领先的半导体材 平面显示靶材：柔性显示的推广将加速扩大靶材市场空间 太阳能靶材：主要应用于薄膜太阳能电池 国内靶材发展现状和未来发展空 受政策和需求双重推动，国内靶材行业发展空间巨 与下游企业的共同研发和认证过程是目前国内靶材行业发展的最大挑 投资建 风险提 图表目录图表1：溅射靶材工作原 图表2：溅射靶材种 图表3：下游产业结构变 图表4：集成电路产业中高纯金属靶材及其应 图表5：平面显示行业镀膜工 图表7：溅射靶材生产工艺流 图表8：靶材的晶粒晶向控 图表9：溅射靶材产业 图表10：高纯金属铝进口为 图表12：全球半导体用溅射靶材市场（亿美元 图表13：国内半导体芯片用靶材市场（亿元 图表14：国内在建的12吋晶圆制造 图表15：国内平板显示产业市场（亿元 图表16：国内触控屏产品出货量（亿片 图表17：全球平板显示用靶材市场规模（亿美元 图表18：国内平板显示用溅射靶材市场爆发（亿元 图表19：国内累计光伏装机容量

-2图表20：全球太阳能电池用溅射靶材市场（亿美元 图表21：国内太阳能电池用溅射靶材市场（亿元 图表22：全球主要溅射靶材企 图表23：国内溅射靶材主要上市公 图表24：近年来行业相关政

-3本篇报告是我们新材料系列报告的第三篇。前两篇报告我们分别对平面显示材料和半导体材料两个大行业的整理状况进行了回顾和展靶材行业是目前我国技术最领先的电子化学品子行业之一，国内龙头公司的生产技术已经达到了世界先进水品，并且获得了顶级下游公司的认证，产品成功进入生产线。随着平面显示和半导体产业链向国内转移，产业必定由利润率较低的封装产业向利润率较高的中游制造产业转移；平面显示和半导体对靶材需求量巨大，进口替代空间广投资逻辑一、靶材行业将是平面显示和半导体产业链转移过程中最先受益的上游材料子行业。国内政策扶持明显，平面显示和集成电路产业迎来发展黄金期，产业链向国内转移是大势所趋。近些年国家利好政策频出，扶持力度大。在资本的带动下，实现技术突破是国内半导体发展的主要方向。国内消费市场占比增加，强大市场需求推动产业链转移；晶圆制造产业带动产业链由下游向中上游转移；国内经济形势良好，政策资金助力产产业链转移带动上游材料同步发展，制造环节材料进口替代空间大。随着产业链向国内转移，产业必定由利润率较低的封装产业向利润率较高的中游制造产业转移；无论是平面显示还是半导体产业，对靶材需求量巨大，进口替代技术优势明显，靶材将是国产电子化学品材料中最先受益的子行业。相比于其他电子化学品材料，国内靶材龙头企业率先实现了技术突破，获得了台积电、中芯国际、京东方等国内外大企业的认证，在电子化学品材料的国产化进国内目前龙头企业的技术已经达到了国际先进水平，与国际龙头公司相比缺乏和下游公司共同研发的经验，认证难度也相对较大。随着我国溅射靶材的市场规模将进一步扩大，在全球市场中有望获得更多客户的认可，市场份额进二、靶材行业发展迅速，进口替代空间大

-420161055160亿美元，高纯溅射靶材市场规模年复合增长率可达到13%。高纯靶材市场中，半导体靶材占12%，平板34%，太阳能电池占18.5%，记录媒体占30%，2017年～2020年间6226座设于中国，占全球42%201813121056.91254万片/月。若上述在建产能投产，相当于国95%，国内靶材市场需求也会相应大幅增国产半导体靶材的市场占比将会显著提升。随着国产溅射靶材的技术成熟，尤其是国产溅射靶材具备较高的性价比优势，并且符合溅射靶材国产化的政策导向，我国溅射靶材的市场规模将进一步扩大，在全球市场中有望获得更多平面显示溅射靶材市场随着柔性显示的推广增速将进一步加快。膜材料是实现柔性的关键，而靶材是电子薄膜材料主OLED对薄膜的使用量会大幅增加，相应的靶材需求量就会大幅增加。我国平板显示产业迅速发展，全球平板显示产业重心逐渐向中国大陆转移，我国成为全球主要LCD面板生产大国，并相继形成了以京东方、华星光电、深天马等为代表的市场影响力较大的LCD面板本土品牌。2016年全球平面显示溅射靶材市场达到38亿美元80亿元。太阳能光伏靶材市场随着薄膜电池产量增加将持续扩大。太阳能光伏产业的快速发展也给太阳能电池用溅射靶材市场带来了巨大的成长空间，2015年全球太阳能电池用溅18.5201421.7%。目前国内太阳能电池主要以硅片涂覆型太阳能电池为主，薄膜电池的产量较小，因此溅射靶材市场规模仍较小，20157.5亿元。全球太阳能电池行业仍然处于产业上升阶段，随着国内薄膜电池生产线的投产，我国太阳能电三、投资建议：江丰电子（300666）国内高纯溅射靶材行业龙头，已进入中芯国际、台积电、格罗方德、京东方和华星光电等半导体和

-5隆华节能（300263）子公司四丰电子在钼靶材领域处于行业龙头地位，下游客户包括京东方、天马公司、信利公司等，201710.5代面板产线的首批高纯钼靶订单（京东方B9线ITO靶材也已4次现场审核。阿石创（300706）溅射靶材主要应用于平板显示、光学元器LED、平板显示和半导体分立器等，下游客户包括蓝思科技、有研新材（600206）的高端高纯、超高纯金属靶材的研发水平和产业化能力均处于国内领导地位，2016年有研亿金钴靶材获得台积电验证通过，打破了台积电二十年来半导体用钴

-6溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定分类标准产品类别按形状分类长靶、方靶、圆靶、不规则靶按化学成分分类金属靶材（纯金属铝、钛、铜、钽等）、合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）按应用领域分类息存储靶材、工具改性靶材、电子器件靶材、其他靶材靶材主要应用在半导体、平面显示、太阳能电池等领域。其主要性能表现在纯度、杂质含量、密度、均匀性、尺寸等方面。因应用领域不同靶材对金属材料的选择和性能要求存在着一定的差异，通常来说半导体靶材纯度最高，制

-7半导体靶材是晶圆制造重要的原材料，主要以铜靶、铝靶、钛靶和钽靶等为主。半导体芯片行业历经半个世纪，目前仍遵循着“摩尔定律”向前发展。在晶圆制造方面，芯片尺寸不断减小（28纳米以下不断增大以进一步降低成本（目前12英寸是主流。在集成电路领域主要应用在晶圆制造和先进封装过程中。为了满足半导体芯片高精度、小尺寸的需求，99.9995%（5N5）99.9999%应用靶材材料主要用途晶圆制造Al、AlSi、AlCu、AlSiCuW、Ti、WtiCu、CuAl、CuMn等，Ta、Ru等W、WSi、Ti、Co、NiPtTi、Ta、TiAl铝互联铜互联化物接触金属栅先进封装AlCu、Ag、Au、Ti、Cu、MoNi、NiV、WtiAlCu、Ti、Cu、Ni、NiVCu、Ti、Ta、Wti等凸点下金属层重布线层通孔平板显示镀膜用溅射靶材主要品种有：铝、铝合金、钼、铬、铜、铜合金、、钛、铌和氧化铟锡（ITO）等。平面显示面板的生产工艺中，屏显玻璃基ITOLCD面板、PDPOLEDITO玻璃进行加工处理、经过镀膜形成电极，再与防护屏等部件组装加工而成。此外，为了实现平板显示产品的抗反射、消影等功能，还可以在镀膜环节中增加相应膜层的镀膜。平面99.999%（5N）以上。

-8太阳能电池用溅射靶材主要品种有铝、铜、钼、铬、氧化铟锡（ITO、氧化铝锌（AZO）等。太阳能电池主要包括晶体太阳能电池和薄膜太阳能电池。目前，PVD4N以上。其中，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。溅射靶材在制备技术上按生产工艺可分为熔融铸造法和粉末冶金法两大类。在靶材制备过程中，在严格控制纯度、致密度、晶粒度、结晶取向的基础上，

-9熔融铸造法是制备磁控溅射靶材的基本方法之一，常用的熔炼方法有真空Al、Ti、Ni、Cu、Co、Ta、Ag、Pt等具有良好的塑性，直接在原有铸锭基础上进一步熔铸后，进行锻造、轧制和热处理等热机械化处理技术进行微观组织控制和坯料成型。与粉末冶金法相比，熔融铸造法生产的靶材产品杂质含量低，致密度高，但材料内部对于难熔金属靶材、熔点和密度相差较大的多种金属合金靶材、无机非金属靶材、复合靶材的制备而言，熔融铸造法无能为力，需要采用粉末冶金法。粉末冶金工艺首先进行粉体材料的预处理，包括采用粒度和形貌合适的高纯金属粉末进行均匀化混合、造粒等，再选择合适的烧结工艺，包括冷等静压（CIP的低孔隙率，并控制晶粒度；制备过程严格控制杂质元素的引入。粉末冶金工高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较

-10寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的金属精密加工和外形控制直接影响下游客户的使用效果。用于靶材溅射的机台十分精密，对溅射靶材的尺寸要求很高，这对靶材厂商的金属加工精度和加工质量提出了很高的要求，如表面平整度等。例如，靶材粗糙化处理可使靶材表面布满丰富的凸起尖端，这些凸起尖端的电势将大大提高，从而击穿介质随着薄膜技术的发展、芯片性能的提升，对配套溅射靶材在纯度、微观结6080年代行业重心转向日本，90年代又转向韩国、台湾。因而在靶材生产方面，日、美靶材企业得以与Intel、IBM等微电子巨头一起调试工艺，推进薄膜制备技术发展，具有很大的技术和品牌优势。与之相比，虽然近年来半导体产业加速向我国转移，国内半导体产业正在迎来黄金期，但总体而言我国半导体行业尤其是中上游的电子化学品、化学材料产业仍处于起步阶段。而我国一些靶材生产商这也要求国内靶材厂商对客户实际需要进行深刻、透彻的研究，与使用方一起完善工艺。随着国内下游半导体、平面显示产业的发展，电子化学品需求量巨大，进口替代空间广阔，国内靶材企业有很大的发展空间。溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环

-11化学纯度是影响薄膜材料性能的关键因素，高纯金属原材料是靶材生产制造的基础。高纯金属提纯分为化学提纯和物理提纯，在实际应用中，通常使用我国虽然拥有丰富的有色金属矿产资源，但我国高纯金属制备技术与国外相比仍存在一定差距，高纯金属有较大比重需从国外进口。全球范围内，高纯金属产业集中度较高，美、日等国家的高纯金属生产商依托先进的提纯技术在高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的，集成电路产业是目前200820092011年起，全球半导体市场进入平稳增长期。半导体材料的市场规模也随着整个半导国内高纯金属产业在靶材上游率先取得突破。200499%以上的高纯铝只能从美国和日本进口。近年来随着技术的发展，我国也出现了一些高纯铝生产企业，有新疆众和、包头铝业、霍煤鸿骏、山西关铝、宜都东阳光铝、中铝贵州、神火铝业等，与美、日企业的差距正在缩小。2016年我国国11.8万吨，生产的高纯铝甚至部分返销国外。在市场需求和政策鼓励下，国内半导体市场保持着平稳较快发展，国内半导体材料产业、靶材产业规模也日益扩大，其增速高于全球增速，在全球市场中所占份额逐渐提升。得益于中国大陆晶圆厂建设的迅猛势头，中国已经成为201614

-1212亿美元。我们预测5年，国内高纯溅射靶材市场13%25亿元。国内靶材市场将在2020年翻倍。根据国际半导体设备与材料产业协会(SEMI)2017年～2020年间投产的62座半导体晶圆厂中，有26座设于中国，占全球总数的42%201813121056.912954万片/95%，国产半导体靶材的市场占比将会显著提升。随着国产溅射靶材的技术成熟，尤其是国产溅射靶材具备较高的性价比优势，并且符合溅射靶材国产化的政策导向，我国溅射靶材的市场规模将进一步扩大，在全球市场中有望获得更多客户序号公司工厂代码工艺产能（KW/M)德科码FAB华力微FAB晋华集成FAB晶合集成FAB武汉新芯中芯国际FAB中芯国际FAB中芯国际FAB中芯国际FAB平面显示靶材：平板显示产业也是高纯溅射靶材的主要应用领域之一。平板显示器主要包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP、有机发光二极管显示器代平板显示产业的基础环节，几乎所有类型的平板显示器件都会使用大量的镀PVD镀膜材料主要为溅射靶材。柔性显示材料进一步扩大靶材的需求空间。膜材料是实现柔性的关键，而OLED对薄膜的使用量会大幅增加，相应的靶材需求量就会大幅增加。2016年全球平面显示溅射靶材市场达到38

-13802011年以来，随着国内外平板显示厂商纷纷在中国大陆建立生产基地以及政府政策导向和产业扶植下，我国平板显示产业迅速发展，全球平板显示产业LCD面板生产大国，并相继形成LCD面板本土品牌。IHSMARKIT2018年中国将成为全球最大的平板显示器件35%。触控显示产品是平板显示行业应用领域的重要组成部分，触摸屏提供了更为直观、便捷的人机交互界面，被广泛应用于智能手机、平板电脑等电子设备ITO、Mo、Al、Si等多种溅射靶材。目前，以智能手机和平板电脑为代表的智能终端产品基本迈入成熟期，但未来几年智能终端市场仍将在替换性需求的拉动下保持增长的态势。我国是全球智能手机最主要的生产国和消费国之一，随着智能手机的普及以及受生产技术水平、市场消费习惯等多种因素影响，近年来我国智能手机产量增长较快。据工信部统计，20162113.6%，159.9%74.7%。智能终端平板显示面板行业的快速增长为靶材厂商提供了广阔的成长空间。平面显示行业用靶材市场增幅明显，呈现出爆发式增长。基于产品价格、采购国产化等因素的考虑，LCD厂商对材料国产化存在迫切需求。我国面板厂商开始有选PVD镀膜材料产品的快速发展提供了有利的市场条件。

-14太阳能电池主要包括晶体太阳能电池和薄膜太阳能电池，PVD工艺主要应用于薄膜太阳能电池中。晶体太阳能电池转化效率较高、性能稳定，且各个产业环节比较成熟，占据了太阳能电池市场的主导地位。与晶体太阳能电池相比，薄膜太阳能电池材料用量大大减少，从而大幅降低了制造成本和产品21世纪以来，全球光伏产业迅速发展。近年来，随着国家对环境保护、节能减排方面的重视，我国太阳能光伏产业在全球太阳能光伏产业发展的带动下飞速发展。太阳能光伏产业的快速发展也给太阳能电池用溅射靶材市场带来了巨大的成长空间，2015年全球太阳能电池用溅射靶材市场规模达18.5亿美元，比2014年增长21.7%。目前国内太阳能电池主要以片涂覆型太阳能电池为主，薄膜电池的产量较小，因此溅射靶材市场规模仍较小，20157.5美国、日本企业仍然占有全球主要市场份额。溅射镀膜技术起源于国外，所需要的溅射材料——靶材也起源发展于国外。高纯溅射靶材伴随着半导体工业的发展而兴起，是典型的技术密集型产业，以美、日企业为代表的国外企业占强势地位。日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯、住友化学、爱发科等占80%的份额，技术领先国内。

-15名称地区公司介绍霍尼韦尔美国靶、铜靶等。日矿金属日本东曹日本普莱克斯美国住友化学日本中国大陆设有9（）营。爱发科真空技术株式会日本电池等领域，此外爱发科还可以生产ITO靶材。国产靶材已经成为半导体上游材料最先掌握国际先进技术的领域。国内市场中，高纯溅射靶材产业虽然起步较晚，具有规模化生产能力和较强研发能力的厂商数量仍然偏少，但是不过近年来随着国家政策和资金的支持，已有个别龙头企业在某些领域突破专业技术门槛，并依托有利的产业政策导向和产品价格优势逐渐在国内靶材市场上占据一定份额，与国外企业的差距正在缩小，主企业名称简介有研新材主要研发、生产和销售微电子光电子用薄膜新材料和生物医用新材料，产品包括靶材、蒸镀材料、口腔正畸器材和医疗用介钽靶等。江丰电子PVD射靶材和蒸镀材料两个系列产品，产品已在平板显示、光学元阿石创PVD射靶材和蒸镀材料两个系列产品，产品已在平板显示、光学元隆华节能收购四丰电子,四丰电子是一家专业从事TFT-LCD/AMOLEDIC来源：wind

-16溅射靶材以及集成电路、平面显示等下游行业属于国家重点鼓励发展的战略性新兴产业。近年来，为推动溅射靶材等中上游产业发展，增强我国产业创新能力和国际竞争力，国家先后出台了多项专项政策和鼓励措施。国家产业政策、研发专项基金的陆续发布和落实，为溅射靶材及其下游行业的快速发展营颁布时间颁布单位政策名称2014-发改委、工信部2014-发改委、工信部《2014-2016动计划》2014-工信部2015-国务院20252016-工信部《有色金属工业发展规划2020）2016-工信部《产业技术创新能力发展规划2020）2016-财政部、科技部2016-国务院划》2017-工信部(2017半导体制造业需求的急速扩增为未来行业发展提供了广阔的空间。溅射靶材是电子及信息产业、液晶显示器、光学等行业必不可少的原材料，随着半导体、平板显示、太阳能电池等下游产业的持续扩张，新型终端应用领域的不断半导体产业链整体向国内转移为上下游协同发展奠定了基础。基于我国平稳较快的经济发展形势和国内半导体，平板显示等终端消费市场的持续增长，我国逐渐受到跨国企业的亲睐，众多世界知名企业纷纷加大对中国的投资力度，不断将生产制造体系向中国转移，产业链向国内转移已是大势所趋。目前，靶材尽管我国龙头企业的生产技术已经达到了国际先进水平，如何根据下游企业的需求进行产品的配套研发是未来发展的关键。在溅射靶材产业中，美、日等发达国家经过几十年的发展技术已十分成熟，且在掌握核心技术以后，执行非常严格的保密和专利授权措施，对新进入行业的企业设定了较高的技术门槛。国内溅射靶材产业起步较晚，行业内高端技术人才也较为稀缺，如何做到上下游一体化，上游配合下游生产，下游支持上游研发，将成为未来国产靶材发展的关键认证周期长是靶材企业面临的最严峻挑战。提高高纯