材料科学中的信息技术应用基础 课件 第5讲 Origin绘图功能

计算机在材料科学中的应用第5讲本节内容：（信息技术在材料科学数据与图形处理中的应用）Origin软件在材料科学中的应用（上机）Origin绘图功能例2-12.采用Nb5+、Ti4+、Y3+和Zn2+四种离子分别对NASICON陶瓷进行Zr位掺杂，采用网络分析仪测试了四个试样的介电常数，请绘制介电常数实部的点线图。TSCcontentDensity(g·cm-3)Porosity(%)10%2.2125.820%2.4121.230%2.5219.440%2.7115.8例2-13.现采用等离子喷涂的方法制备了TSC/NASICON复合涂层，并测试了不同TSC含量下涂层的密度和气孔率如表2-16所示。请绘制TSC/NASICON复合涂层密度和气孔率随含量变化的双Y图。表2-16TSC/NASICON复合涂层的密度和气孔率例2-14.现采用高温固相法制备了Na3Zr1.6Ti0.4Si2PO12陶瓷和Na3Zr1.8Ti0.2Si2PO12陶瓷，并采用X射线衍射仪对其进行了物相检测，采用Jade软件对其结果进行了分析，发现PDF#84-1200卡片能够与其峰位较好地拟合。请绘制陶瓷的XRD谱图，插入标准卡，标出杂质峰。例2-15

采用等离子喷涂的方法制备热障涂层时，采用spraywatch测温测速设备监测不同工艺条件下飞行粒子的温度和速度，并测试了在这些工艺条件下涂层的气孔率，如表2-17所示。请绘制在不同工艺条件下飞行粒子的温度和速度以及涂层气孔率的三维图。T/℃v/(m/s)气孔率/%2843.18180.189.22853.9183.4110.52689.39182.3614.52692.23182.6713.83213.31228.626.83279.93225.837.83263.78229.57.93264.172316.13413.69400.935.23418.87405.865.13420.1402.225.13523.83450.675.13245.39380.884.23242.03387.914.63250.7399.734.6表2-17不同工艺条件下飞行粒子的温度和速度例2-16.采用Excel软件模拟了不同厚度下材料的计算反射率，请绘制反射率随频率和厚度变化的三维地形图。ReζReζ2423.2112794.312653.3215034.334793.4117994.515023.6519894.627003.7822014.829883.9925234.8910774.0327894.9112304.22

例2-17.在等离子喷涂制备涂层中，飞行粒子经过熔化、飞行、撞击基板、扁平和堆垛一系列微观过程形成最终的涂层。大量学者研究了粒子扁平率与雷诺数之间的对应关系，并得到了相应的模型，其中应用较多的有ξ=1.04Re^0.2、ξ=0.83Re^0.21和ξ=1.2941Re^0.2三种模型。本次实验采用狭缝收集法获得了一系列飞行粒子扁平率和雷诺数之间的对应关系如表2-18所示。请将实验数据与文献模型绘制到一张图中，并进行对比。表2-18粒子扁平率与雷诺数间的测试数据掺杂量Nba(Å)Tia(Å)Ya(Å)Nbb(Å)Tib(Å)Yb(Å)Nbc(Å)Tic(Å)Yc(Å)Nbβ(°)Tiβ(°)Yβ(°)0.115.71115.6415.6119.1129.0859.0329.2349.2339.221123.82123.82123.530.215.74515.68815.5779.1529.0789.0289.2549.2489.201124.12123.85123.310.315.78815.72115.5449.1589.0999.0279.2899.2579.199124.23124.07123.180.415.75415.67815.7719.1549.1019.0149.2669.2229.203124.21124.02123.11例2-18.采用Jade软件计算了不同含量Nb5+、Ti4+和Y3+四种离子掺杂NASICON陶瓷的点阵常数，具体参数如表2-19所示。请将点阵常数和体积随掺杂量变化的曲线绘制出来，并在Origin软件中融合四图。表2-19不同含量