• 现行
  • 正在执行有效
  • 2010-07-09 颁布
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【正版授权】 ISO 14237:2010 EN Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials_第1页
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基本信息：

  • 标准号：ISO 14237:2010 EN
  • 标准名称：表面化学分析 二次离子质谱法 利用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
  • 英文名称：Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
  • 标准状态：现行
  • 发布日期：2010-07-09

文档简介

ISO14237:2010表面化学分析-副离子质谱分析-利用均匀掺杂材料测定硼原子浓度

ISO14237:2010是关于表面化学分析的标准，特别是关于副离子质谱分析（SIMS）的技术规范。SIMS是通过用高能离子束（如He或H）轰击样品表面，使样品中的原子被激发并产生副离子，然后通过质谱仪分析这些副离子来研究样品的化学组成。

具体到本标准，它涉及到使用均匀掺杂材料来测定硅中的硼原子浓度。均匀掺杂材料是指材料中的硼元素均匀分布在整个材料中，通过SIMS方法测量硅中的硼原子浓度，可以提供有关材料制备过程中掺杂过程的详细信息，对于材料科学和相关工业领域（如半导体制造）具有重要意义。

要使用SIMS方法测定硼原子浓度，需要选择适当的仪器和样品制备方法，如选择合适的离子束源、真空系统、样品台、检测器和数据采集系统等。此外，还需要对SIMS数据进行分析和处理，以获得准确的硼原子浓度结果。需要注意的是，SIMS方法也存在一定的局限性，如对样品表面的损伤、对某些元素的灵敏度较低等，因此在实际应用中需要结合其他分析方法进行综合评估。

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