• 现行
  • 正在执行有效
  • 2017-08-23 颁布
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【正版授权-英语版】 IEC 62880-1:2017 EN Semiconductor devices - Stress migration test standard - Part 1: Copper stress migration test standard_第1页
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基本信息:

  • 标准号:IEC 62880-1:2017 EN
  • 标准名称:半导体器件-应力迁移试验标准-第1部分:铜应力迁移试验标准
  • 英文名称:Semiconductor devices - Stress migration test standard - Part 1: Copper stress migration test standard
  • 标准状态:现行
  • 发布日期:2017-08-23

文档简介

1.**测试范围**:该标准适用于半导体器件的铜应力迁移测试。这是一种模拟高温和长时间使用条件下,金属连接可能发生的问题的测试方法。

2.**测试原理**:测试过程中,将半导体器件置于特定的环境条件下,例如高温和高湿度环境中,并施加一定的机械压力,使铜连接暴露于这些条件下。一段时间后,观察铜连接是否出现迁移或腐蚀现象。

3.**测试方法**:该标准提供了两种主要的测试方法:显微镜观察法和电导率测试法。显微镜观察法可以直接观察铜连接的变化,而电导率测试法则可以评估铜连接的导电性能。

4.**测试结果**:如果铜迁移或腐蚀现象明显,则该器件可能不符合预期性能要求,需要进行进一步调查和评估。

5.**测试周期和环境条件**:该标准规定了测试周期和环境条件的具体要求,以确保测试结果的准确性和可靠性。

6.**测试报告**:测试完成后,应提供详细的测试报告,包括测试结果、照片和任何其他相关数据,以供制造商和用户参考。

IEC62880-1:2017EN标准为半导体器件的铜应力迁移测试提供了详细的指南和要求,以确保产品的质量和可靠性。在进行相关测试时,制

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