纳米银导电膜及其TP制作工艺介绍

0纳米银导电膜及其TP制作工艺介绍TouchWord11报告目录纳米银导电膜1纳米银TP制作工艺22

一、纳米银导电膜纳米银线纳米银线是采用化学法生长的直径为25~300nm，长度10~200um的纳米材料。纳米银线除具有银优良的导电性之外，由于纳米级别的尺寸效应，还具有优异的透光性、耐曲挠性。因此被视为是最有可能替代传统ITO透明电极的材料，为实现柔性、可弯折LED显示、触摸屏等提供了可能，并已有大量的研究将其应用于薄膜太阳能电池。此外由于银纳米线的大长径比效应，使其在导电胶、导热胶等方面的应用中也具有突出的优势。3

一、纳米银导电膜纳米银导电膜是指采用精密涂布的方法，在透明有机薄膜材料上涂布透明纳米银丝墨水并经固化处理而得到的高技术产品。纳米银丝墨水涂布密度不同，膜的导电性能和透光性能也不同。纳米银导电膜由于具备良好的导电性能和透光性能，特别适用于触摸屏的制作。与ITO导电膜相比，纳米银导电膜有以下优越性：1、生产效率高，价格相对较低；2、面阻值低，可做到50欧姆以下，特别在大尺寸

触摸屏制作上有很大优势，为实现超大尺寸触摸屏和大尺寸单边走线提供了可能性。3、耐曲挠性好，为实现柔性、可弯折触摸屏提供

了可能。

4纳米银TP可通过激光镭射和黄光两种工艺制作，制作流程如下：二、纳米银TP制作工艺1、激光镭射工艺流程开料银胶印刷银胶烘烤Ag&NWLaser老化大片组合2、黄光工艺流程开料压干膜曝光显影老化Ag

LaserSenorTest大片组合senor外形冲切银胶烘烤银胶印刷蚀刻&剥膜FPC绑定BondingTestCG贴合终检FinalTestsenor外形冲切SenorTestFPC绑定BondingTestCG贴合终检FinalTest5三、制程难点1、镭射工艺制程难点①纳米银导电膜与银胶之间的搭配性，需保证搭接处的导电性和附着性。②银胶印刷质量管控，需保证印刷厚度均匀性，无杂物、透空点等。③Ag&NW同步镭射工艺调试，特别是大尺寸触摸屏涉及到屡次拼接，需同时保证外观和功能OK。2、黄光工艺制程难点①纳米银、干膜与蚀刻液三者之间的搭配性，需保证干膜与纳米银的附着性、解析度以及蚀刻液对纳米银、干膜的蚀刻性。②纳米银导电膜与银胶之间的搭配性，需保证搭接处的导电性和附着性。

6四、具体专案分析1、专案信息联想15.6″，投入NW+NW和ITO+NW两种结构样品，NW方阻为100±30Ω，Tx、Rx均为双边走线。2、良率及问题点

问题点：①银胶附着力差，做百格测试NG。②Ag&NWLaser良率低。3、纳米银激光镭射工艺与ITO印刷工艺效率比照

4、可行性分析纳米银激光镭射工艺与ITO印刷工艺相比，有材料本钱低、生产效率高、人力及机台需求少的优势，在提升良率和客户认可的前提下有非常好的可行性。

纳米银激光镭射工艺评估专案结构投入产出良率MCF-156-0751-20NW+NW30pcs7pcs43.30%ITO+NW30pcs16pcs23.30%工艺方式老化耐酸印刷固化蚀刻银胶印刷固化线路镭射大片线路产出效率上线下线上线下线纳米银镭射40s/pcs0035s/pcs145s/pcs100s/pcs220s/min175s/minITO印刷80s/pcs30s/pcs10s/pcs35s/pcs108s/pcs63s/pcs263s/min218s/min71、寻找与纳米银匹配性好的银胶。2、管控好银胶印刷