单晶硅项目环评报告书

银笛〔扬州〕微电子年产300万单晶硅抛光片、60万硅外延片工程环境影响报告书〔简本〕银笛〔扬州〕微电子20239月名目1总论51.1任务由来51.2评价目的错误！未定义书签。1.3编制依据错误！未定义书签。1.4评价原则错误！未定义书签。1.5评价重点错误！未定义书签。1.6评价因子错误！未定义书签。1.7评价等级错误！未定义书签。1.8评价范围错误！未定义书签。1.9评价工作技术路线错误！未定义书签。2 建设工程四周地区环境概况

错误！未定义书签。2.1自然环境概况错误！未定义书签。2.2社会环境状况错误！未定义书签。2.3经济开发区总体规划错误！未定义书签。2.4开发区环境功能区划错误！未定义书签。2.5评价标准错误！未定义书签。2.6建设工程环境保护目标错误！未定义书签。3工程分析错误！未定义书签。3.1本工程概况73.2生产工艺流程及原辅料能源消耗103.3主要生产、公用及贮运设备173.4公用工程183.5污染源分析错误！未定义书签。4污染防治措施25银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书6大气污染防治措施评述水污染防治措施评述噪声污染防治措施评述固体〔废液〕污染防治措施评述非正常排放防范措施绿化排污口标准化设置环保投资及“三同时”清洁生产与循环经济分析产业政策相符性分析清洁生产循环经济环境质量现状评价大气环境质量现状监测与评价地表水环境质量现状监测及评价环境影响推想及评价大气环境影响推想及评价地表水环境影响分析声环境影响分析固废环境影响分析施工期环境影响分析与防治施工期环境影响分析施工期环境影响防治总量把握分析总量把握要求

2527303031313333353535363838384040404040错误！未定义书签。41错误！未定义书签。9.2总量把握原则9.2总量把握原则错误！未定义书签。9.3总量把握因子419.4总量把握指标419.5总量平衡方案41环境风险评价 4310.1风险评价等级确实定错误！未定义书签。10.2风险识别错误！未定义书签。10.3源项分析错误！未定义书签。10.4事故防范4310.5结论错误！未定义书签。工程厂址可行性分析 4511.1工程选址与规划相容性4511工程选址与评价区域的环境质量现状的相容性分析 45本工程实施后对四周环境的影响 46公众参与建设工程环评公众参与公示公众意见问卷调查环境经济损益分析经济效益分析社会效益分析环境效益分析环境治理与监控打算环境治理环境监控打算排污口标准化设置

结论与建议结论建议

总论任务由来加坡银笛科技〔控股〕私人股份，经过多年的攻关，攻克了功率场控器件用高CMOS技产品认定中心的认定。加坡银笛科技〔控股〕私人股份已在上海金桥出口加工区投资建设了外延片的生产基地，由于现目前国内半导体材料市场严峻供不应求，为了满足国内外半〔扬州300万硅抛光片、604~126~8英寸的硅外延片。本工程的建设有利于加速集成电路芯片主要材料的国产化进程。境保护治理条例》的有关规定，应当在工程工程可行性争论阶段对该工程进展环境影响评价。为此，银笛〔扬州〕2023年8月托付苏州工业园区东方环境保护科学争论所担当该工程环境影响报告书的编制工作。我单位承受托付后，即认真争论该工程的有关资料，并踏勘现场的社会、自然环境状况，调查、收集有关工程现有状况及拟建工程资料，通过对工程所在区域的环境特征和本工程的工程推想建成后对四周水气声环境的影响程度和范围，并提出防治污染措施，减缓建设工程对四周环境的影响，为建成后的环境治理供给科学依据。主要环境保护目标

2-1环境保护目标环境要素环境要素大气环境水环境环境保护对象蒲村〔待拆迁〕长江仪征与仪化水源取水口扬州水厂取水口方位南南距离〔m〕1002023规模100户—环境功能二类区东1202350万吨/天Ⅲ类水体西8000声环境声环境厂界四周厂界3类区3(a)

本工程概况本工程名称、建设地点、建设性质、投资总额、环保投资工程名称：银笛〔扬州〕微电子年产300万单晶硅抛光片、60万硅外延片工程建设地点：江苏省仪征经济开发区区建设性质：外商投资建8000576万元(b)本工程建设内容银笛〔扬州〕微电子向仪征市高技术开发区提诞生产、办公用房及生产设施的建设要求，仪征市经济开发区按要求建筑厂房及相应的设施，然后租赁给银笛(扬州)微电子有限公司使用。租用厂房面积约48680㎡，包括外延片生产厂房、抛光片生产厂房、综合动力站、化学品库、办公楼、门卫等。设施主要包括供水系统、循环冷却水系统、纯水系统、变配电系统、应急电源、通信信息及生命安全系统、空调净化系统、压缩空气系统、制冷及供热系统、环保设施〔废水处理站、废气处理设施、消防设施、劳动保护安全设施以及室外工程等。3-13-2。序年运行时数8520h序年运行时数8520h工程名称产品名称号 设计力气/〔车间或生产线〕 及规格1单晶硅抛光片4英寸6英寸8英寸40万片150万片80万片2硅外延片12英寸合计6英寸8英寸30万片300万片30万片30万片合计60万片3-2公用及关心工程类别建设名称设计力气备注承受防腐蚀环氧树脂地面，主要存放硫酸、甲类化学品仓库200m2硝酸、双氧水、盐酸、氢氟酸、氨酸和氢氧化钠溶液等仓库4000m2主要存放原料单晶硅棒、硅衬底材料和成类别 建设名称

设计力气 备注品给水排水供电公用工程循环冷却系统

102.1万t/a65.93万t/a5452.8万度110t/h400t/h

存放各类酸碱废液和固体废弃物326由专业公司建站制造，供给氢气、氮气等SiHCl3钢瓶柜各2个，PH、BH各一个326仪征经济开发区给水管网供给厂处理由开发区的110KV变电所供给使用纯水箱等组成的冷却循环系统。供汽绿化废气处理环保工程 废水处理

10万吨，有开发区的供气管网供给。冷却塔、加压泵和冷冻机组成。侧进展种草植树，绿化面积51979m2，绿化到达38.8%对工程中产生的各种废气承受技术可行、经济合理的治理措气体清洗器处理，各种废气均达标排放州污水处理厂处理，经处理达标后，统一排入长江仪征段依据规定对产生的固体废物进展处置(c)地。

占地面积、厂区布置占地面积：本工程总占地面积133334m2，所占土地为仪征经济开发区区高技术产业用厂区布置：厂区包括生产用房、办公楼、关心生活设施、甲类化学品仓库、仓库、成品仓库、气体供给站、综合动力站及进展预留用地等(d) 职工人数、工作制度220160人。355248520小时。银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书11生产工艺流程及原辅料能源消耗生产工艺流程一、单晶硅抛光片制作单晶硅棒固定水 切片

S1W1

水 纯水洗分档检测

A：W11B：W12氮气快速退火

研磨剂 粗抛光

S13氧气水磨片剂水

倒角分档检测研磨纯水洗清洗

S2W2S3S4W3G1S5

水精磨剂水

纯水洗精抛光纯水洗RCA清洗检测

W13S14W14W15~21S15~19G9~13B：碱液氮气

RCA清洗磨片检测腐蚀A/B

W4~10S6~10G2~6A：G7、8S11B：S12

水 纯水洗检测包装出货

W223-1单晶硅抛光片工艺流程及产污节点图生产工艺流程具体介绍如下：固定：将单晶硅棒固定在加工台上。水和硅渣。300~500℃，硅片外表和氧气发生反响，使硅片外表形成二氧化硅保护层。光阻层的平坦度。此过程中产生的硅粉承受水淋，产生废水和硅渣。分档检测：为保证硅片的规格和质量，对其进展检测。此处会产生废品。度与平行度，到达一个抛光过程可以处理的规格。此过程产生废磨片剂。生有机废气和废有机溶剂。RCA清洗：通过多道清洗去除硅片外表的颗粒物质和金属离子。具体工艺流程如下：硫酸、双氧水SPM清洗水纯水洗氢氟酸DHF清洗水纯水洗GSW4GSW5氨水、双氧水水水水APM清洗纯水洗热水洗纯水洗GSW6W7W8盐酸、双氧水水氟化氢水HPM清洗纯水洗DHF清洗纯水洗GSW9GSW103-2RCA清洗工艺流程及产污节点图2 2 4 2 SPMHSOHOSPM溶液，SPM溶液具有很强的氧化力气CO和HOSPM2 2 4 2 DHF清洗：用确定浓度的氢氟酸去除硅片外表的自然氧化膜，而附着在自然氧化膜上的金属也被溶解到清洗液中，同时DHF抑制了氧化膜的形成。此过程产生氟化氢和废氢氟酸。4 2 2 2 APM清洗：APMNHOH溶液、HOHO氧化作用生成氧化膜〔约6nm呈亲水性，该氧化膜又被NH4OH4 2 2 2 2 HPMHClHOHPM2 DHF清洗：去除上一道工序在硅外表产生的氧化膜。RCARCA清洗。腐蚀A/B学腐蚀去除。腐蚀A是酸性腐蚀，用混酸溶液去除损伤层，产生氟化氢、NOX和废混酸；腐蚀B是碱性腐蚀，用氢氧化钠溶液去除损伤层，产生废碱液。本工程一局部硅片承受腐蚀A，一局部承受腐蚀B。分档监测：对硅片进展损伤检测，存在损伤的硅片重进展腐蚀。粗抛光：使用一次研磨剂去除损伤层，一般去除量在10~20um。此处产生粗抛废液。精抛光：使用精磨剂改善硅片外表的微粗糙程度，一般去除量1um以下，从而的到高平坦度硅片。产生精抛废液。检测：检查硅片是否符合要求，如不符合则从进展抛光或RCA清洗。检测：查看硅片外表是否清洁，外表如不清洁则从刷洗，直至清洁。包装：将单晶硅抛光片进展包装。二、硅外延片制作纯水洗检测纯水洗检测外延生长水 W23HCl+N、H、2 2SiHCl、PH、3 3BH、N、石2 6 2

G14S20S21英、石墨硫酸、双氧水SPM清洗G15S22水纯水洗W24氨水碱清洗G16S23水纯水洗测试检验W25S24真空包装3-3硅外延生产工艺流程及产污节点图外延炉石英管清洗外延炉石英管清洗水洗混酸S23纯水 W263-4外延炉石英管清洗工序及产污节点图生产工艺流程具体介绍如下：纯水洗：简洁清洗，去除硅衬底材料外表的外表杂质。外延生长：外延炉经氯化氢和氮气吹扫清洗后，通入SiHCl3和H2，为了满足硅片的电学性能，还要掺入50ppm的特种气体PH3或B2H6，红外加热至1100~1200℃下，通过化学气相沉积法在硅衬底材料上生长一层与衬底材料具有一样晶格排列的单晶硅，形成单晶硅外延片。有99%的SiHCl、PH、BH参与反响。此工序产生的废气主要是氯化氢，还有一些没有反响的PH、BH3 3 2 6 3 2 6SiHCl；外延炉的石墨基座和石英夹套需要定期更换，产生废石英和废石墨。具体反响如下：3SiHCl H 10012Si3HCl3 22PH 1001202P3H 3 2BH 1001202B3H 2 6 2SPM清洗：去除硅片外表的杂质。此处产生硫酸雾和废硫酸。碱洗：去除上一道工序在硅片外表形成的氧化膜。杂质颗粒等是否符合相应的指标。此处会产生一些废品。真空包装：通过工艺真空系统对产品进展真空包装。外延炉石英管清洗：在外延生长中会在外延炉的石英管上沉积一些杂质。主要原辅料及能源消耗主要原辅料、能源消耗见表3-3。3-3主要原辅料及能源消耗类别类别名称研磨剂重要组份、规格、指标99.99%Si70%水SiO210%，无机碱水89%SiO210%年耗量存贮量来源及运输单晶硅棒2023t167t60t6t精磨剂40t4t单晶硅延片精磨剂10.2t1t≧45%ZrO≦33%2磨片剂SiO≦20%2101t9tFe2O≦0.5%于国内购输为主。3溶剂2C6H5CH3TiO≦2%56%24%4t0.4t固形分20%HNO63%54L5LHSO98%3750L312L工艺真空85.8万m3压缩空气87万m3活性炭1.5t颖水自来水HO1022045t——水网电电5452.8万度——电网燃料燃气自然气85.2万m3——气网类别名称类别名称HF7.2%年耗量存贮量来源及运输混酸HNO341.2%280t1tCHCOOH318.1%氢氟酸盐酸HF49%HCl35%HO2 2HO2 231%80t12t290t1t1t25t324NaOHNaOH氨水NaOH 48%NaOH 3%499.999%NHOH28%单晶硅抛光片SiHCl3HCl和硅外石英〔配件〕 SiO2延片石墨〔配件〕CPH3BH2 6H268t25t180t12t7.5t0.1t0.5t0.0002t0.0002t36万m36t2.1t3t6万片0.055t0.055t0.01t0.05t0.0002t0.0002tN299.99999%以上99.99999%90万m32工程主要的生产、公用、贮运设备见表3-5。3-5主要设备清单类型设备名称规格型号数量〔台、套〕产地抛光机SILTEC99美国生产双面抛光机SPEEDFAM10美国抛光机STRASBAUGH10美国类型 设备名称规格型号 数量〔台、套〕产地内圆切片机QP－613IDSAWER 10美国磨片机OKAMOTO 12日本双工位热氧化炉OxidationFurnace 3美国全自动硅片清洗机DNS 4美国清洗机VerteqCobra 2美国清洗机AKRION 2美国外延炉ASM-EPSilon2023 6美国外延炉Epipro5000 6DASEpitaxy美国尾气处理器Scrubber2德国外延膜测厚仪ECO/RS2美国生产电阻测试仪RESMAP1782美国外表颗粒度检测仪WITS-CR822美国干预显微镜MX502日本烘箱T67602德国硅片清洗系统BoldCleanBench2美国硅片甩干机SRD-870/8802美国特种气体柜Uni-tech6美国电阻率测试仪SSM4902美国燃气热水锅炉2.8MW2进口公用纯水设备160t/h1进口循环冷却水系统4000kW1国产公用工程供电110KV153600kwh。供水工程供水由开发区的给水管网供给，开发区内建有日供水力气20万吨的自来水厂二座。供热10万吨有开发区的供热管网供给。纯水制备110t/2099.8t/，产生的浓水和反冲洗水642t/d作为清下水排放，其超纯水制备工艺流程如下：加絮凝剂自来水自来水原水箱原水泵机械过滤器活性炭吸附热交换器清洗装置pH加阻垢剂Ⅱ级高压泵Ⅰ级高压泵5μ保安过滤水箱水泵循环冷却系统冷却器真空脱气装置中间水箱中间水泵氮封纯水箱生产工艺用水超过滤器器抛光树脂床纯水泵3-5超纯水制备工艺流程图排水工程承受雨污分流、清污分流的排水体制。废水包括生产废水1808.3t/d、生活污水49t/d和清洁排水648t/d。生产废水经过有效预处理到达接收标准后与生活污水通过开发区管网排入真州污水处理厂集中处理，达标后排入长江仪征段。清洁排水通过雨水管网排入四周河流。氢气、氮气的供给生产工艺中需要的氢气、氮气由大宗气体供给商在本厂区建筑配套气站，供给氢气和氮气。氢气制备原理：通过水电解便可得到一般氢气，经过催化除氧，吸附枯燥和过滤除尘后获得高纯氢气；氮气制备原理：变压吸附制氮承受碳分子筛为吸附剂。确定的压力下，碳分子筛对空气中B减压脱附，完成氧氮分别，得到所需纯度的氮气。污染源强及污染物排放量分析〔1〕大气污染物产生及排放状况工程在生产过程中排放的大气污染物主要包括生产工艺废气：甲苯、异丙醇、HF、HCl、HSO、NOx、NH、SiHCl、PH、BH。2 4 3 3 3 2 6有组织排放废气工程在生产过程中产生的有组织排放废气的种类与产生环节见表3-6。4#特种废气G144#特种废气G14、3FH、BH外延生长32 6排气筒废气类别废气编号污染物名称产生环节1#有机废气G1甲苯、异丙醇清洗G2、G9、G15H2SO4RCA清洗2#酸性废气G13、G17HFRCAA英管清洗G5、G12HClRCA清洗G8、G18NOx腐蚀A、外延炉石英管清洗3#碱性废气G4、G11、G16NH3RCA清洗、碱清洗〔扬州吸附，去除效率到达80%；酸性废气用碱液进展喷淋吸取，去除率为≥90%；对碱性废气承受酸95%以上；对特种废气HCl、SiHCl、PH、BH废气承受湿式外3 3 2 6延气体清洗器去除，SiHCl3、HCl、B2H6的去除效率≥99%。拟建工程大气污染物三本帐状况见表3-7。银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书252 43332 62 43332 6污染物产生量削减量排放量甲苯0.1020.0820.020异丙醇0.2390.1910.048HF6.1345.5210.613HCl17.73217.5060.226HSO0.8180.7360.082NOx11.58710.4281.159NH4.9844.7350.249SiHCl0.1200.1190.001PHBH2×10-62×10-62×10-81.98×10-61.98×10-62×10-8无组织排放废气3 3 2 拟建工程所用的氢氟酸承受0.5L的PVC瓶存储；盐酸、硝酸、硫酸、氢氧化钠溶液承受0.5L3L3L4L的PVCHCl、SiHCl、PH和BH用钢瓶柜存储，钢瓶柜自带减压装置、阀门盘。工程的生产车间设计为密闭的车间，废气收集效率较高，到达99%。实际物料装运、使用、贮存和废气收集过程中废3-83 3 2 123412345HFHClNOx污染源位置HSO各清洗区2 4NH3污染物产生量t/a面源面积m2面源高度m0.09601~90.008801~90.171201~90.012801~90.39601~9水污染物产生及排放状况工程各类废水的来源、类别及排放量详见3-9。3-9废水种类及水量状况序号类别编号水量t/d1切片倒角废水W1、W262研磨废水W31073抛光废水W13、W142144酸性废水438.55碱性废水W1253.56含氟废水296.37含氨废水5518一般废水W22、W231129废气洗涤水W273010生活污水W314911清下水648依据仪征经济开发区环境影响评价与环境保护规划，拟建工程所排生产废水应在厂内处理达标后统一排入长江仪征段。3-10。3-10拟建工程水污物三本帐一览表单位t/a种类污染物名称产生量厂内削减量厂内排放量进入环境的量COD92.3548.36283.99239.560SS130.19860.78569.41313.187废水氟化物21.02314.6046.4196.419NH3-N12.2460.81111.4359.890TP0.0690.0000.0690.009清洁排水COD11.502011.50211.502噪声污染产生及排放状况本工程噪声主要来源于各类机械设备，如冷冻机、废气塔、空压机、锅炉风机、真空泵等。3-11。序号设备名称1冷冻机序号设备名称1冷冻机所在车间工段dB〔A〕75~85界距离m49治理措施降噪效果2冷却塔70~75综合动力站片车间片车间片车间70选用技术厂界噪声达3废气塔85~9068、低噪声到《工业企业设备；承受厂界噪声标4空调机组70~7561准》降噪等措(GB12348-90)5水泵70~75综合动力站90施；厂区内3类标准6空压机80~85综合动力站49绿化的要求7锅炉风机80~85综合动力站908真空泵80~85综合动力站49对噪声实行的主要防治措施为：选用技术先进低噪声的设备、对设备进展隔声减震、消声吸声等措施，使厂界噪声到达《工业企业厂界噪声标准》(GB12348-90)3类标准的要求。固体废物产生及排放状况建设工程产生的固体废物种类主要包括硅片外表处理产生的废有机溶剂、废活性炭、外表处理废物〔包括废硫酸、废氢氟酸、废盐酸、废混酸和废碱、污水处理产生的含氟污泥、废氨水、废研磨剂、废抛光剂、单晶硅渣、废石墨、废石英以及生活垃圾等，具体产生与排放处置状况见表3-17。工程中实行的固体废物处理措施为：废有机溶剂、废活性炭、废硫酸、废氢氟酸、废盐酸、废混酸、废碱和含氟污泥，属于国家规定的危急废物，托付具有相应处理资质的单位进展处置；废氨水、废研磨剂、废抛光剂、单晶硅渣、废石墨、废石英等可由有关单位回收利用；生活垃圾等依据环卫部门的有关要求进展处置。12名称废有机溶剂12名称废有机溶剂S5废硫酸S6、S15、S20废氢氟酸S7S10S16、HW42HW173.830液液处置方式3HW1796液单位处理由相应的单位置求处理合计1956.5S19、S21、S244 废盐酸S9、S18、S21HW1720液5 废混酸S11、S26HW17300液6 废碱液S12HW17111液7 废活性炭HW062固8 含氟污泥HW32620固9 废氨水S8、S17、S20188固10 废研磨剂141液11 废抛光剂170液12 单晶硅渣71固13 废石墨0.5固14 废石英0.1固15 废品125固16 生活垃圾78.1固44.1(a)

污染防治措施大气污染防治措施评述大气污染源依据工程分析，拟建工程的主要大气污染源有：单晶硅抛光片制作产生的甲苯、异丙醇、HFHClNH3NOxNH3HClSiHCl3和微量的PH3、B2H6；外延炉的石英管清洗产生HF、NOx。大气污染防治措施及可行性分析银笛〔扬州〕微电子依据同类型企业废气治理措施的阅历，对工程中的各种废气实行了技术可行、经济合理、可操作性较强的治理方案。废气处理主要工艺具体如下：有机废气清洗工序产生的有机废气甲苯、异丙醇通过集气罩、风管导入吸附设备，利用活性炭的表面吸附力去除甲苯、异丙醇，净化后的废气通过排气筒直接排入大气。甲苯和异丙醇的去除率可80%4-1。集气罩风管集气罩风管吸附设备引风机排放4-1有机废气处理系统流程图酸、碱废气酸性或碱性废气通过集气罩收集，由抽风机将其抽至填充式废气洗涤塔，用稀碱液或稀酸液进展喷淋吸取处理，净化后的废气通过排气筒直接排入大气，所产生的废气洗涤水进入废气洗涤循环水池，该水池中的排污水进入废水处理系统进展处理。酸、碱废气系统处理力气分别为80000m3/h，15000m3/h。4-2。洗涤液废气 支风管 主风管 洗涤塔 引风机 排放进入废水处理系统 废气洗涤循环水池4-2酸、碱废气处理系统流程图洗涤塔承受气液逆向吸取方式处理，即吸取液雾撒而下形成小水滴，气体由塔底向上逆流而上，使气体充分接触。承受具疏松外表的填充滤料，较大的外表积，可使气体、液体停留时间延长，提高吸取效率。净化后的废气通过排气筒排入大气。酸性废气HHClNO、硫酸雾90%，碱性废气〔NH3〕95%以上。特种废气对外延生产工序产生的特种废气HClSiHCl3

以及微量的PH3

和BH2 65段水喷淋和水洗方式对外延尾气进展充分的水洗和稀释，将其中绝大局部的HCl、SiHCl3

、BH 和微2 6量的PH 溶解于水，经过水洗后的尾气在设备中被大量的空气稀释，再3通过管道向室外高空排放；废气洗涤水进入废水处理设施处理。湿式外延清洗器设有手动的旋转刮板装置，用于清理尾气入气口处的附着物粘附在入气口的管壁造成堵塞；并承受氮气密封装置，将入气口清理装置的尾气与外界隔离，确保没有尾气泄漏；通过水流量表和调整阀，用于水流量调整，以满足使用；承受不锈钢做骨架，增加强度和仿腐蚀力气；其他均承受透亮PVC材料，抗腐蚀和阻燃力气强，同时还便于观测内部的工作状况；设备构造简洁、防爆、牢靠性高。特种废气HCl、SiHCl

BH

99%PH的1%。

3 2 6 3上述各种废气治理措施是半导体、IC企业普遍承受、阅历较成熟的方案。只要加强治理、严格依据废气治理措施进展运营，本工程中产生的废气污染物在满足达标排放的前提下，会尽可能的削减向四周环境的排放量，使其对大气环境的影响得到合理的把握与减缓。水污染防治措施评述废水处理工艺拟建工程废水设施建设遵循雨污分流、清污分流、分质处理的原则。依据工程中废水来源、废水水质的不同，将废水按种类分为切片倒角废水、研磨废水、抛光废水、酸性废水、碱性废水、含氟废水、含氨废水、一般清洗水、废气洗涤水、生活污水和清下水〔包括锅炉排水、纯水制备产生的浓水、空调系统排水〕。其中生产工艺废水产生量为1778.3t/d，废气洗涤水为30t/d，生活污水49t/d。拟建工程所排总量为1857.3t/d，废水中的主要污染因子为：COD、SS、氟化物、NH3-N、TP。依据建设工程的实际状况，并结合开发区的总体规划与环境保护规划，拟建工程对所产生的各种废水实行的处理排放方案为：①含氟废水含氟废水来源于单晶硅抛光片的清洗工序、外延炉石英管的清洗。含氟废水排至生产废水处理站相应的集水池。含氟废水承受化学沉淀法进展处理。废水先进入混凝反响槽，在凝反响槽内投加HSO、PAC、PCM、Ca(OH)，然后进入沉淀池进展固液分别。废水再进入进入废水调2 4 2节池。沉淀池污泥经污泥浓缩，用污泥泵送至污泥脱水机干化后运至指定地点填埋。②酸碱废水酸碱废水主要来自于各清洗工序、废气洗涤水，此类废水排至生产废水处理站的废水调整池中。由于酸碱废水中主要成分是无机酸、碱，故承受化学中和法处理。在反响槽中投加NaOH〔或Ca(OH)、HSO使废水pH6-9。2 2 4③切片倒角废水、研磨废水、抛光废水切片倒角用水喷淋硅粉产生的切片倒角废水；研磨废水主要来源于研磨清洗工序；抛光废,然后排至生产废水处理站的废水调整池中，再用泵送入混凝反响槽进展沉淀处理。④一般废水一般废水来自抛光片的最终一道清洗和外延片的第一道清洗水，此类废水较为清洁，直接排至混合废水调整池中，与其他废水一起处理。⑤生活污水依据开发区的要求，建设后的生活污水经化粪池简洁处理后，进入真州污水处理厂集中处理。经过废水处理设施处理过的废水到达真州污水处理厂的接收标准，与生活污水接入真州污水处理厂处理到达《城镇污水处理厂排放标准〔JB18198-2023〕表1中一级B级标准后，统一银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书排入长江仪征段，废水排放标准见表4-1。4-1地表水水质标准及废水排放标准真州污水处理厂自建废水站排放真州污水处理厂排放标工程的接收标准mg/L标准值mg/L准限值mg/LPH(无量纲)6—96-96-9COD500≤20060SS400≤20020TP8.0≤50.5NH3-N35≤3515氟化物20≤1010废水处理设施总排出口设有氟化物、PH值的自动监控仪表，并设有常规化学器，定时检测水中有害成分，监控生产废水处理效果。4-3。含氟废水Ca(OH)、2

P1HF调整池

研磨废水抛光废水HSO 、

混凝反响槽2 4PACPAM酸性废水碱性废水一般废水

沉淀槽28废水调整池

沉淀池银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书32污泥处理回用处理系统和废水处理系统产生的污泥自流到污泥槽进展污泥的浓缩脱水，脱水的对象是污泥中的空隙水，浓缩的目的是为了削减污泥体积。浓缩后的污泥由泵送入到厢式压滤机，脱水的泥饼装袋后托付处理。污泥浓缩池、贮泥罐、厢式压滤机产生的滤液经过滤液储池收集后泵入综合废水调整池。真州污水处理厂概况真州污水处理厂一期工程设计规模为2.5万t/d,主要接纳生活污水和工业废水。真州污水处202310月建成投入试运行。真州污水处理厂效劳范围主要包括仪征主城区、汽车工业园、扬州化学工业园〔管道路以东、仪征经济开发区〔包括船舶工业园〕等范围。真州污水处理厂废水处理工艺承受改进的A2/O工艺，污泥处理承受一体化带式浓缩脱水4-4。真州污水处理厂尾水处理到达《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2023)中的一级B标准后排入长江仪征段。进进水粗 水格 泵栅 房

细 沉格 砂栅 池回流 沉渣外运剩余污泥

鼓风机房曝气池

二沉池污泥泵房

紫外线杀毒接 排触 江消 泵毒

出水至长江仪征段储泥 浓缩脱水间 泥饼外运4-4真州污水处理厂废水处理工艺流程图其工艺主要特点如下:①污染物去除效率高,运行稳定;②承受A2/O工艺,可将经过一级物理处理后的污水、通过厌氧、缺氧、好氧的三个生物处理过程，将水中的BOD、COD、SS、氨氮、磷酸盐同时去除；③污泥沉降性能好；④能较好的耐受冲击负荷；⑤出水水质稳定。建设工程在污水收集范围之内。建设工程废水排放量为1857.3t/d,仅为污水处理厂一期规模的14.3%，在其处理力气之内。本工程废水经厂区自建废水处理设施处理后各项污染物浓度均低于接收标准限值。目前仪征经济开发区的污水管网正在乐观建设中，打算在建设工程投产前将全部完工并投入使用，本工程建设期为一年，与污水处理厂处理废水及仪征经济开发区污水管网建设能够连接。因此从接收水量、接收标准、时间和管网布设等方面综合考虑，本工程废水排入真州污水处理厂是可行的。噪声污染防治措施评述①选用低噪声设备；②设置减振、隔振根底：对有振动的设备设置减振台、隔振根底以减少噪声产生和传递；③隔声、吸音处理：对空压机组、冷冻机组产生高噪声的设备，设置隔音门窗，墙面实行吸音板。以削减噪声的对外传播。此外，承受封闭式厂房、隔声墙壁，隔声墙壁、隔声窗等措施隔离噪音，利用建筑物隔声减轻污染；同时在厂区加强绿化也可降低噪声对装置区外的影响。经上述治理后可有效的削减各类噪声源在厂区内外的集中，降低噪声对环境造成的污染，厂区四周环境噪声根本能到达《工业企业厂界噪声标准》中的Ⅲ类标准。固体〔废液〕污染防治措施评述建设工程产生的固体废物种类主要包括硅片外表处理产生的废有机溶剂、废活性炭、外表处理废物〔废硫酸、废氢氟酸、废盐酸、废混酸和废碱、污水处理产生的含氟污泥、废氨水、1961t/a。本工程依据各种固体废物的产生来源、组成及性质，比照《国家危急废物名录/方案如下：危急废物:对属于国家规定危急废物之列的固体废物，必需托付有资质的处置单位进行妥当处理。其中废有机溶剂、废活性炭、废硫酸、废氢氟酸、废盐酸、废混酸、废碱、含氟污泥属于危急废物，应依据危急废物处置的有关规定，托付具有相应资质的单位进展无害化处理。一般固体废物：废氨水、废研磨剂、废抛光剂、单晶硅渣、废石墨、废石英等具有确定再利用价值的废物，由相应的废品回收部门进展收购；对员工办公与生活中产生的生活垃圾，在厂内定点收集储存，依据当地环境保护和卫生治理部门的要求统一处置。/处理率到达了100%，没有直接外排。非正常排放防范措施对废水处理装置进水水质进展常规监测，准时调整运行参数，确保稳定达标。加强安全治理，建立岗位责任制，避开因治理不当、操作失误等，造成不达标排放。对水泵、阀门等定期检修维护，防止跑、冒、滴、漏。对各种化学药品的储存与使用，要严守治理制度与操作要求，严防泄露、着火等意外事故，消退安全隐患制定定时巡检制度，对污水、废气处理设施非正常状况准时觉察、准时处理，尽量削减污染物外排。绿化2 绿化在防治污染保护环境方面起着特别作用。绿色植物具有吸附尘埃、吸取CO、NO、SO2、净化空气、减弱噪声、调整温度湿度、改善小气候的功能。因此，在加强“三废”治理的同2 1：绿化原则2 2 在厂区绿化设计中，主要以乔、灌木以及草地相结合的自然式布局为主，其主要优点为：利用多种植物在空间上的协作，可以充分吸取尘埃，吸取CO、NO、SO2 2 乔木、灌木、草地组合遵循以下几放面的协调与统一：树木的大小乔木与灌木均有大小之分，各种树又表现不同的高矮尺度。乔、灌木的妥当搭配，可使树丛具有丰富的层次感。在配置中要综合考虑整体中各树木的平、立面关系，不同高度的树木做到错落有致。常绿与落叶常绿树可以稳定地保持厂区四季绿貌。落叶树一般季相特色比较明显，尤其是花木和一些结合它们的高矮尺度合理组合。树木的栽植树木栽植有孤植、对植、列植、从植和群植、林植等多种。其中以列植、从植和群植方式为主，在具体应用中依据具体状况结合起来应用。草地的配置厂区绿化中铺植草坪是一项重要的、具有普遍意义的绿化工程。厂区中暴露的地面〔道路除外〕应全部用草皮掩盖。绿化方案厂区绿化承受集中与分散相结合的方式进展。厂区空地较多，承受集中绿化方式，大片空地以装饰性草坪为主。该类草种的选择，野牛草、羊胡子草等。在草坪中间孤植、对植、列植、从植一些高大的乔木，主要起点缀作用，可以承受开花乔木并具有显着颜色效果的树种，如合欢、玉兰、泡桐、木棉、巨紫荆等都是乔木观花树种；着色率较高的树种有：紫薇、红枫、紫叶李、枫香、三角枫、黄栌、银杏、柿树、黄连木、乌桕、池杉、重阳木、石楠、白蜡等。道路两旁绿化以种植行道树为主，考虑在道路两侧种植高大乔木。形成行列式的林香樟等为骨干，辅之以女贞、广玉兰等常绿乔木。中层可选用珊瑚、紫薇、月季等开花灌木，地层草坪绿化。厂外主干道种植钻天扬、白桦、云杉。车间人行道两侧承受侧柏、小叶黄杨等绿篱辅之以夹竹桃、紫薇等灌木及草本花卉等植物。，种植四时花草，沿步行小道两侧设植绿篱，花卉在整个厂区中的应用不如树木和草坪那样广泛，规划时又分为花坛、花境、花台等几种方式。一般用一、二年生草花和宿根性花卉，不同花卉应彼此参差穿插，疏密相间，并留意景观的层次要求。、广玉兰等常绿乔木为主，辅之以梧桐、紫荆、金丝桃等，低层以结缕等草皮绿化。绿化面积建设工程绿化面积约占总占地面积的38.8%。排污口标准化设置废水排放口标准化设置本建工程废水包括生活污水和生产废水，生活污水排入污水厂，生产废水经自建污水处[苏环控〔97〕122号]，建设工程厂区的排水体制必需实施“雨污分流”制，公司设一个废水总排放口，一个雨水排放口。同时排污口必需进展标准化建设，便于采样、监测，并设置排污口标志。废气排气筒〔烟囱〕标准化设置建设工程废气排放口必需进展标准化建设，按要求装好标志牌，废气排气筒高度应符合国家大气污染物排放标准的有关规定。固定噪声污染源标准化标志牌设置固定噪声污染源对边界影响最大处，应设置噪声监测点，依据上述原则并兼顾厂界外形在边界上设置噪声监测点同时设置标志牌。固体废物贮存〔处置〕场所标准化设置露天贮存工业固体废物的，应当设置专用的贮存设施或堆放场地；并依据实际状况实行苫布遮盖或适时洒水等，以防二次扬尘污染。固体废物贮存〔处置〕场所应在醒目处设置标志牌。环保投资及“三同时”4-24-3。污染源环保设施名称污染源环保设施名称100效果废水处理系统隔声、承受低噪树木、草坪等到达标准要求200达标排放设备自带主体工程同时建成100厂界达标固体废物绿化101504零排放绿化率为38.8%满足有关要求与废水处理设施同步设施同步排污口整治流量计、COD在线监测仪、排污口标志生产废水管网4管网建设8576与废水、废气等处理设施同步与厂区基建同步序号 名称

4-3“三同时”验收表验收内容 处理效果生产废水经厂内废水处理站经过有效预处

到达污水厂的接收治设施 标准处理。有机废气承受活性炭吸附，去除效率到达80%；酸、碱废气承受填充式洗涤塔进展净大气污染化处理，去除率到达90%、95%；特性废气满足有关标准要求。防治设施要求，排气筒高度满足要求。噪声污染防治措施通过建筑物阻隔、绿化等减声降噪。固体废物治理措施

零排放

圾依据环卫部门要求处置。在厂内四周、道路两侧、生产厂房、宿舍等绿化面积51979四周种植树木、铺设草坪等。满足相关治理部门

的要求，具有可操作中的软、硬件要求。性清洁生产与循环经济分析产业政策相符性分析银笛〔扬州〕微电子是加坡银笛科技〔控股〕私人股份在仪征市经济开发区区投资8000万美金建立的，制作单晶硅抛光片和硅外延片，依据《国民经济行业分类》〔GB/T4757-2023，本工程属于C4061电子元件及组件制造。〔2023年修订〕中“鼓舞外商投资产业名目”制造业中其次十局部第10条“半导体、元器件专用材料开发、生产”与国家发改委、科技部、商务部《当前优先进展的高技术产业化重点领域指南〔2023年度〕信息中的第18项“电子材料”中的相关内容；符合省经贸委2023年《江苏省工商领域鼓舞投资的产业、产品和技术导向名目》中制造业类第十九项电子及通信设备制造业第3项和苏发改投资发[2023]198号《江苏省鼓舞投资产业指导名目》中制造业类第八项电子及通信设备制造业第4项的内容；符2023年第40号《产业构造调整指导名目〔2023年本〕鼓舞类其次23条“型电子元器件制造”的内容。综上所述，本工程的建设符合国家的相关产业政策。清洁生产清洁生产是对企业提出要求，从原料、生产、产品和效劳全过程，削减和节约原材料、能源，淘汰有毒材料；不断实行改进设计工艺、承受先进的工艺技术与设备、改善治理、综合利用等措施，从源头削减污染，提高资源利用效率，削减或者避开生产、效劳和产品使用过程中污染物的产生和排放，以减免或者消退对人类安康和环境的危害。本工程为半导体单晶硅抛光片、硅外延片生产，具有特种工艺，特种原材料和特种设备的特点，为此对工程的清洁生产进展分析和提出存在的问题。生产工艺与设备a、本工程为单晶硅抛光片、硅外延片生产。单晶硅棒经切、磨、抛、清洗而成，在进展机械抛光的同时，用化学方法做外表处理，即消退应力，又保证硅片外表平坦度，再经过超纯清洗技术去除硅片加工过程中产生的外表污染；硅外延片则以每台外延炉为单元组成生产流程，硅衬外延片。生产工艺流程简洁，各生产制程配料合理，技术稳定，在保证产品质量的前提下，做到了生产工艺的清洁性。b、特种气体三氯硅烷、磷化氢、乙硼烷、氯化氢存于进口钢瓶柜，氢气、氮气、高纯氮由大宗气体供给商在厂区内建站制造，这些气体通过气体管道、安排阀供给，使用量相对较少，不与人体和环境接触，具有泄漏警报装置。c、关心材料主要是硫酸、盐酸、硝酸、氢氟酸、混酸、双氧水、氢氧化钠溶液和氨水等清洗液，清洗方式承受浸渍清洗，清洗液均屡次重复使用，定期更换并分类用专用容器存放，收集后托付有资质的单位处理。d、工程选用的生产设备均为进口设备，计算机程序把握，使用清洁能源，氧化炉和外延炉承受电加热的方法，湿式外延气体清洗器、酸碱废气洗涤塔的净化效率较高，成套设备及使用均通过国际或欧洲相关机构的认证和培训，运行安全牢靠。单位产品的物耗和排放工程生产单位产品的能耗、物耗和单位产物量见表5-1。5-1单位产品的能耗和产污序号工程单晶硅抛光片硅外延片1生产规模2原材料消耗0.67kg/片0.675kg/片3颖水耗0.246t/片0.196t/片4废水0.181t/片0.145t/片清洁生产保障措施清洁生产是要求从原材料、生产工艺到产品效劳的全过程把握，彻底转变单纯的末端治理的污染防治模式，因此，必需建立完善牢靠的保障体系，把清洁生产治理放在首要位置，才能保障保证清洁生产的落实，因此建议银笛〔扬州〕微电子实行以下清洁生产保障措施：成立清洁生产治理机构，建立奖惩考核目标责任制度。清洁生产治理机构应负责整个公司各个生产环节的清洁生产治理工作，制定清洁生产治理规程和奖惩考核目标，把把握使用化学物品、节能、降耗纳入到生产治理目标中。开展清洁生产审计工作，由公司总经理任审计小组组长，为开展清洁生产审计工作奠定良好根底。审计小组应制定并实施削减能源，水和原材料使用，消退或削减产品和生产过程中有害物质的使用，削减各种废物排放量。加强业务培训和宣传教育工作，使每个职工树立节能意识，环保意识，保障清洁生产的目的顺当实施。循环经济循环经济主要遵循“减量化、再利用、资源化”三大原则，本工程以科技进步为动力，以清洁审查为载体，以提高资源能源的利用效率、削减废物排放为主要目的，努力构建全的循环经济进展体系。本工程对生产中排放的废气实行分类的收集方式，确保负压操作，对酸、碱废气承受填充洗涤塔处理；特种废气承受专用的湿式外延气体清洗器处理，在保证各污染物达标排放的前提下，尽量降低向四周环境排放的污染物总量。在清洗方式上承受淋洗、喷洗的方法，酸、碱废气的喷淋液屡次重复利用，循环冷却系统的水循环利用，大大节约颖水用量。本工程使用的硫酸、盐酸、氢氟酸、硝酸、双氧水、氨水和氢氧化钠溶液等清洗液重复利用。工程产生的危急废物全部托付处理，一般固废最大限度的利用，各种固体废物取向明确。源头上削减污染物的产生，亦可削减后续污染治理费用，符合循环经济的要求。综上所述，建设工程符合清洁生产以及循环经济的要求。66.1(a)

环境质量现状评价大气环境质量现状监测与评价大气环境质量现状〔1〕监测布点、监测工程在以建设工程所在地为中心的评价范围内，按环境功能区与主导风向相结合的布点原则，3个大气监测点，监测点位、监测工程及所属功能区见表12-2。监测点点位名称方位m监测点点位名称方位m监测工程所在环境功能二类区SO、NO、PMHCl二类区2210化物、NH、异丙醇、甲苯3二类区编号G1建设工程所在地——G2蒲心村南100G3园区管委会西偏北1700〔2〕监测结果通过监测结果的统计分析，可得知各监测点PM 、NO、SO、氟化物、氨、氯化氢小时浓10 2 2度值和日平均浓度值都没有消灭超标现象；硫酸雾、异丙醇、甲苯均未检出，G3〔园区管委会〕监测点的氟化物也未检出。6.2 地表水环境质量现状监测及评价地表水环境质量断面和监测点布设断面监测点布设为：长江断面为每断面布设3个测点，分别离北岸50m、100m、250m。取0.5m。Ⅰ水体 ⅡⅢ水质现状监测结果

6-2地表水现状调查断面布设断面位置真州污水处理厂排口上游500m真州污水处理厂排口下游1000m真州污水处理厂排口下游2023m长江仪征段水质尚可，长江〔Ⅰ～Ⅲ断面〕评价江段各断面除SS外其余各监测指标：pH、COD、氨氮、氟化物标准指数P均小于1，均到达了《地表水环境质量〔GB3838-2023〕Ⅲ类ij水质标准限值，能满足地表水Ⅲ类水体功能要求。环境噪声现状评价监测布点83-1。监测结果监测结果与标准值比照评价说明，目前四周声环境质量较好，各测点昼夜监测值均达标。环境影响推想及评价大气环境影响推想2 有风气象条件下，正常工况和非正常工况下各污染物〔NO、NH2 对四周环境的影响很小。在各类稳定度下颗粒物、氯化氢、氨、氮氧化物、氟化物的最大落地浓度均小于标准限值。静小风气象条件下，正常工况和非正常工况下各污染物〔烟尘、NO2、NH3、氟化物、氯化氢〕排放对四周环境的影响虽然大于有风气象条件，但各稳定度下NO2、NH3、氟化物、氯化氢的最大落地浓度均小于标准限值，对四周环境影响较小。无组织排放的氟化氢、氯化氢、硫酸雾、氨气、氮氧化物的厂界浓度达标。无组织排放的100米。地表水环境影响推想在正常状况下，不会对长江仪征段水质产生大的影响。事故排放：由于事故时废水均进入事故池，不会排入水体，因此不会对地表水环境产生不利影响。声环境影响推想建设工程厂界各推想点的昼间、夜间噪声推想值均可到达《工业企业厂界噪声标准》中相应标准的要求。因此待工程建成后，其四周噪声能够到达标准要求。响。

固废环境影响分析建设工程产生的固废〔液〕均得到妥当处置，不向环境排放，因此不会对环境产生有害影总量把握分析总量把握因子依据《江苏省排放污染物总量把握暂行规定》的要求，结合建设工程的具体特征，确定本工程的总量把握因子为：大气污染总量把握因子：NOx、甲苯、异丙醇、硫酸雾、氯化氢、氟化氢、氨气、三氯硅烷、磷化氢、乙硼烷；废水总量把握因子：COD、SS、NH3-N、TP、氟化物；固体废物总量把握因子：工业固体废物。总量把握指标依据工程分析核算结果，结合总量把握的根本原则和要求，该工程废水污染物排放的总量10-1。种类污染物产生量自身削减量厂内排放量进入环境量建议申请量废气3种类污染物产生量自身削减量厂内排放量进入环境量建议申请量废气3332 6废水3清洁排水甲苯0.1020.082——0.0200.020异丙醇0.2390.191——0.0480.048HF6.1345.521——0.6130.613HCl17.73217.506——0.2260.226HSO2 40.8180.736——0.0820.082NOx11.58710.428——1.1591.159NH4.9844.735——0.2490.249SiHClPHBH0.1202×10-62×10-60.1192×10-81.98×10-6——————0.0011.98×10-62×10-80.0011.98×10-62×10-8COD92.3548.36283.99239.56039.560SS130.19860.78569.41313.18713.187氟化物21.02314.6046.4196.4196.419NH-N12.2460.81111.4359.8909.890TP0.0690.0000.0690.0090.009COD11.5020——11.50211.502总量平衡方案本工程为建工程，污染物总量把握首先考虑落实个工程污染治理措施，实现污染物达标排放，然后在技术经济合理条件下，尽可能削减污染物对四周环境的排放量。工程排放的污染物总量应向当地环保主管部门申请，有环保部门在区域内进展调剂，确保区域内的污染物排放总量平衡。依据仪征经济开发区的规划状况，COD、SS、NH3-N、TP纳入真州污水处理厂排放总量之中，氟化物和大气污染排放指标向当地环保部门申请，在区域内平衡调剂。银笛〔扬州〕微电子将承受环保部门的污染物排放总量的安排与监控。银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书银笛〔扬州〕微电子建设工程环境影响报告书43环境风险评价风险评价结论本工程使用的特种废气PH3、B2H6、HCl其有用量很少，存储量也很少，承受特总气体柜存储；对于氢氟酸、硫酸、盐酸、硝酸、混酸、氨水和氢氧化钠溶液承受合理的存储方式存放于化学品仓库中。依据相关导则判定，本工程不够成重大危急源，进展二级评价。本工程的风险类型可能是火灾、爆炸、泄露，此类事故发生的风险值远小于化工企业风险统计值，因此本工程的风险是可承受的。事故防范事故防范措施合理布置总平面和工艺布局，主体建筑划分为办公区、抛光生产区、外延生产区、综合动力站、仓库和关心生活设施。厂区设置环行通道，建筑物间距满足规划要求，保持充分缓冲空间和人物隔离距离。易爆区域的防范对具有爆炸危急的区域〔气体交接区、为期处理间等〕设有防暴与泄爆面积和安全的250化学药品的防范集中使用化学液的抛光片、外延片清洗间需设紧急喷淋洗眼器及安全冲淋装置。使用品运输、储存、使用制度和操作规程的规定，配备现场急救设备、药品，从事生产人员均培训持证上岗。特种