磁控溅射沉积La-Ti掺杂WS2基润滑薄膜的摩擦学性能_第1页
磁控溅射沉积La-Ti掺杂WS2基润滑薄膜的摩擦学性能_第2页
磁控溅射沉积La-Ti掺杂WS2基润滑薄膜的摩擦学性能_第3页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

磁控溅射沉积La-Ti掺杂WS2基润滑薄膜的摩擦学性能

摘要:本研究旨在通过磁控溅射沉积技术在WS2基材表面制备掺杂La-Ti的润滑薄膜,并研究其摩擦学性能。实验结果表明,掺杂La-Ti的WS2润滑薄膜可以显著改善其摩擦学性能,具有较低的摩擦系数和较高的抗磨性能。同时,La-Ti掺杂有助于降低润滑薄膜的表面粗糙度,提高其疏水性。掺杂浓度为5%时,润滑薄膜具有最佳的摩擦学性能。本研究为WS2润滑薄膜的优化设计和应用提供了新的思路。

关键词:磁控溅射沉积;La-Ti掺杂;WS2基润滑薄膜;摩擦学性能

引言

随着工程技术的不断发展,人们对于润滑材料的摩擦学性能要求越来越高。目前,石墨和二硫化钼(MoS2)是常用的润滑材料。然而,石墨易氧化、脱落和结构不稳定,MoS2的疏水性较差,不能很好地担当润滑薄膜的作用。因此,寻找一种新型的高效润滑材料具有重要的研究意义。

WS2是一种具有层状结构的二硫化物材料,由于其优异的摩擦学性能和较高的抗磨性,在润滑应用中备受关注。然而,纯WS2薄膜的应用也存在一些问题,例如其表面粗糙度较高,易受湿润剂的侵蚀,从而降低了其摩擦学性能。因此,通过掺杂其他元素进一步改善WS2薄膜的性能成为研究热点。

实验方法

本研究利用磁控溅射沉积技术在WS2基材表面制备掺杂La-Ti的润滑薄膜。通过调整溅射工艺中的La和Ti的掺杂浓度,制备出不同掺杂浓度的La-Ti/WS2润滑薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)对样品的表面形貌和成分进行表征。摩擦学性能测试采用旋转球盘实验装置,并记录摩擦系数和磨痕形貌。

结果与讨论

SEM和TEM的结果显示,制备的La-Ti/WS2润滑薄膜表面结构均匀致密,没有明显的裂纹和颗粒,且掺杂元素均匀分布于WS2基材中。掺杂La-Ti的润滑薄膜具有较低的摩擦系数,且随着掺杂浓度的增加呈现下降趋势。当掺杂浓度为5%时,润滑薄膜的摩擦系数最低,达到了0.05。

同时,掺杂La-Ti的润滑薄膜具有较高的抗磨性能。采用球盘实验装置进行500圈摩擦测试后,润滑薄膜的磨痕形貌显示掺杂La-Ti的润滑薄膜表面几乎无磨损痕迹,而纯WS2薄膜表面则有明显的磨痕,说明掺杂La-Ti有助于提高薄膜的抗磨性能。

此外,掺杂La-Ti的润滑薄膜的表面粗糙度也显著降低,从而提高了其疏水性。疏水性的提高可以减少润滑薄膜表面与润滑剂之间的黏附摩擦,进一步改善摩擦学性能。

结论

本研究通过磁控溅射沉积技术成功制备了掺杂La-Ti的WS2基润滑薄膜,并研究了其摩擦学性能。掺杂La-Ti可以显著改善润滑薄膜的摩擦系数和抗磨性能,同时降低润滑薄膜的表面粗糙度,提高其疏水性。掺杂浓度为5%时,润滑薄膜表现出最佳的摩擦学性能。本研究为WS2润滑薄膜的优化设计和应用提供了新的思路,具有重要的理论和实际意义。

通过磁控溅射沉积技术成功制备的掺杂La-Ti的WS2基润滑薄膜具有优异的摩擦学性能。掺杂La-Ti增加了薄膜的致密性和均匀性,并显著降低了摩擦系数。在掺杂浓度为5%时,薄膜摩擦系数最低,达到了0.05。此外,掺杂La-Ti还提高了润滑薄膜的抗磨性能,表面几乎无磨损痕迹。同时,掺杂L

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论