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文档简介

ColorFilter

基础培训资料Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第1页。第一章CF的基本原理和结构CF(ColorFilter)是用来实现彩色显示的主要器件,在色光中存在三种最基本的色光,它们的颜色分别为红色、绿色和蓝色。这三种色光以不同比例混合,几乎可以得到自然界中的一切色光;而且这三种色光具有独立性,其中一种原色不能由另外的原色光混合而成,由此,我们称红、绿、蓝为色光三原色。在TFT-LCD中,ARRAY基板上每个TFT控制一个亚像素(也叫子像素,Sub-pixel)上方的液晶分子的扭曲程度,以此来调整亚像素的透光量;每三个亚像素分别透过红光、绿光和蓝光,并合成一个显示像素(Pixel)。由于每个像素透过的红光、绿光和蓝光的比例都是不同的,因此合成的颜色也是不同的,从而形成彩色显示。液晶盒的基本结构见下图所示:其中CF的基本构成为BM层,RGB色层,OverCoat层,ITO导电层及支撑盒厚的隔垫物。Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第2页。玻璃基板配向膜偏光片玻璃基板偏光片液晶层彩色层薄膜晶体管黑矩阵保护层ITO导电膜第一章CF的基本原理和结构Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第3页。第二章CF制法分类和工艺流程彩膜的制造工艺一般有染色法、电沉积法、印刷法、喷墨法和颜料分散法。各工艺的简单流程如下图所示:染色法电沉积法印刷法颜料分散法GelatinhνITOResisthν感光性colorResisthν喷墨法Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第4页。比较项目染色法电沉积法印刷法喷墨法颜料分散法着色剂染料颜料颜料染料/颜料颜料成膜膜厚1.0~2.5㎛1.5~2.5㎛1.0~3.0㎛1.0~2.5㎛1.5~2.5㎛分辨率10~20㎛10~20㎛50~80㎛10~20㎛10~20㎛色特性非常优秀普通优秀优秀优秀耐热性普通优秀优秀普通优秀耐光性普通非常优秀非常优秀普通非常优秀耐化学性

不好优秀优秀优秀优秀平坦性优秀非常优秀不好普通优秀大型化的可能性优秀普通不好不好优秀第二章CF制法分类和工艺流程各种制法的特点比较见下表。Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第5页。现在国际上被广泛使用的是颜料分散法。依据不同显示模式颜料分散法的工艺流程也有所区别,见下表所示:第二章CF制法分类和工艺流程ModeProcessFlowChartTNMVAPVAIPSFFSBMRGBITOPSBMRGBITOPSRibBMRGBOCPSITOEtchingRearITOBMRGBOCPSRearITOBMRGBOCPSColor-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第6页。第二章CF制法分类和工艺流程Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第7页。第二章CF制法分类和工艺流程Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第8页。TN模式的制造工艺是最基础的,下面详细介绍其工艺流程:第二章CF制法分类和工艺流程曝光PW玻璃清洗显影R光阻涂布RPR+PRBM光阻涂布显影G光阻涂布GPR曝光曝光显影B光阻涂布BPR曝光显影O/CO/CSputteringITOPS光阻涂布PSPR曝光显影CF成品Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第9页。第二章CF制法分类和工艺流程ITEMMainProcessConditionControlItemCleaningType:Brush,CJ,UV;Flow;Pressure;ParticleNumberCoatingCoatingType:SpinorSpin/SlitorSlit;CoatingSpeed;FilmThickness&UniformityPreBakeTemperature;Time;PRStiffnessExposureGap;Dose;Temperature;Accuracy,TotalPitchDeveloperChemicalType&Concentration:KOH,Na2CO3;

Temperature;Time;PRresidualPostBakeTemperature;Time;AdhesiveForceBetweenGlassandPRSputteringTemperature;Pressure;Power;VacuumlevelFilmThickness;Transmittance;ResistanceColor-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第10页。No设备中文名称1Coater涂布机2Exposure曝光机3Sputter溅射机4

Cleaner清洗机5Developer显影机6DeveloperConcentrationAdjustUnit显影液浓度调整装置7HP/CP热盘/冷盘(前烘设备)8PostBake后烘设备9Repair维修机10PatternRepair图形修正机11Rework再加工设备12ReworkMarking再加工记数器13Titler打标机14UVAsher紫外灰化设备15EximerUV紫外清洗设备16GlassCornerCut玻璃加工机17CassetteCleaner玻璃载盒清洗机18MaskCleaner掩膜板清洗机第三章CF主要设备介绍:Process装置Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第11页。No设备中文名称19ThinfilmDifferenceMeasurement薄膜段差計20FilmThicknessConveyor膜厚检查传送机21CD&TP精密测长机22AOI全数检查机23Review,Micro外观检查机24MaskInspection掩膜板检查机25MCPD/OD显微分光光度计26PSInspection隔垫物高度检查机27SheetResistance方块电阻测量器28Macro,VisualInspection目视检查机29OrientationFlatInspection方向别平坦度检查机30GlassCrackInspection玻璃裂痕检查机31Stocker,loader,Unloader,AGV玻璃载荷搬送系统32Unpack(DensPack)拆包机33Conveyor,Robot玻璃搬送系统34CassetteMGV玻璃载荷手动搬送车35SheetMGV玻璃手动搬送车36Cassette,WireCassette玻璃载荷第三章CF主要设备介绍:检测和物流装置Color-Filter-基础培训资料全文共13页,当前为第12页。No设备No设备37AFM(原子力显微镜)55SCRATCHTESTER38FE-SEM(场发射扫描电镜)56光学显微镜39FIB-SEM(聚焦粒子束扫描电镜)57実体燎微鏡40EDX(x荧光光谱仪)58实验用表面粗糙器41恒温恒湿器59实验用膜厚测定器42低温试验器60SmallMCPD43热处理器61顕微IR44热处理器(N2)62电子天平45熱衝擊实验机63HeaterPHH-20146Xeweatermeter64接触角测定器47UVLamp(254nm)65MULTIHOTPLATE48曝光机66XenonFadeMeter49DYNAMIC硬度计67Refrigerator50IONSPUT

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