前清洗工艺设备

太阳电池发电原理、结构与分类Rena

inTex结构与功能典型前清洗设备介绍典型前清洗设备介绍RENAINTEX链式前清洗设备RENAINTEX结构与功能制绒（RENAInTex）工艺步骤：制绒→碱洗→酸洗→吹干Etchbath&Dryer1Rinse1AlkalineRinseRinse2AcidicRinseRinse3Dryer2RENAInTex前清洗设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。Etchbath：刻蚀槽，用于制绒。所用溶液为HF+HNO3，主要工艺参数：Firstfill

volume:480L;Bath

processtemperature:7±2℃concentrationsof

chemical:HF(154g/L)&HNO3(358g/L);Quality:100.0Kg;Setpointrecirculation

flow:140.0L/min;

制绒过程中根据腐蚀深度，可对温度作适当修正。越高的温度对应越快的反应速度，故如果腐蚀不够则可适当提高反应温度，反之亦然。一般每0.1℃对应约0.1µm的腐蚀厚度。当药液寿命（Quality）到后，需更换整槽药液。刻蚀槽的作用：1.去除硅片表面的机械损伤层；2.形成无规则绒面。AlkalineRinse：碱洗槽。所用溶液为KOH，主要工艺参数：Firstfillconcentrationof

chemical:5%;

Bathlifetime:250hours;Bath

processtemperature:20±4℃当药液寿命（Bathlifetime）到后，需更换整槽药液。碱洗槽的作用：1.洗去硅片表面多孔硅；2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。AcidicRinse：酸洗槽。所用溶液为HCl+HF，主要工艺参数：Firstfillconcentrationof

chemical:HCl(10%)&HF(5%);

Bath

lifetime:250hours;Bath

processtemperature:20±2℃当药液寿命（Bathlifetime）到后，需更换整槽药液。酸洗槽的作用：1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液；2.HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干；3.HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除硅片表面金属离子。

Rinse1~3：水洗（喷淋）槽，水洗槽与槽之间相互联通。水洗槽中液面高度Rinse3＞Rinse2＞Rinse1。进水口在Rinse3处。Dryer1和Dryer2为风刀，通过调节风刀的角度和吹风的压力，使硅片被迅速吹干。滚轮分三段设定速度，其中converyor1≤converyor2≤converyor3，否则前快后慢，易在设备中因为叠片而造成碎片。滚轮速度（即制绒时间）根据需要的腐蚀深度来进行设置，生产过程中可根据测试结果来进行滚轮速度修正。一般滚轮速度慢，则反应时间增加，腐蚀深度加深，反之亦然。(注:前清洗速度最好不要超过1.2m/min，速度过快，一方面硅片清洗或吹不干