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文档简介

太阳电池发电原理、结构与分类Rena

inTex结构与功能典型前清洗设备介绍典型前清洗设备介绍RENAINTEX链式前清洗设备RENAINTEX结构与功能制绒(RENAInTex)工艺步骤:制绒→碱洗→酸洗→吹干Etchbath&Dryer1Rinse1AlkalineRinseRinse2AcidicRinseRinse3Dryer2RENAInTex前清洗设备的主体分为以下七个槽,此外还有滚轮、排风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。Etchbath:刻蚀槽,用于制绒。所用溶液为HF+HNO3,主要工艺参数:Firstfill

volume:480L;Bath

processtemperature:7±2℃concentrationsof

chemical:HF(154g/L)&HNO3(358g/L);Quality:100.0Kg;Setpointrecirculation

flow:140.0L/min;

制绒过程中根据腐蚀深度,可对温度作适当修正。越高的温度对应越快的反应速度,故如果腐蚀不够则可适当提高反应温度,反之亦然。一般每0.1℃对应约0.1µm的腐蚀厚度。当药液寿命(Quality)到后,需更换整槽药液。刻蚀槽的作用:1.去除硅片表面的机械损伤层;2.形成无规则绒面。AlkalineRinse:碱洗槽。所用溶液为KOH,主要工艺参数:Firstfillconcentrationof

chemical:5%;

Bathlifetime:250hours;Bath

processtemperature:20±4℃当药液寿命(Bathlifetime)到后,需更换整槽药液。碱洗槽的作用:1.洗去硅片表面多孔硅;2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。AcidicRinse:酸洗槽。所用溶液为HCl+HF,主要工艺参数:Firstfillconcentrationof

chemical:HCl(10%)&HF(5%);

Bath

lifetime:250hours;Bath

processtemperature:20±2℃当药液寿命(Bathlifetime)到后,需更换整槽药液。酸洗槽的作用:1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液;2.HF可去除硅片表面氧化层(SiO2),形成疏水表面,便于吹干;3.HCl中的Cl-有携带金属离子的能力,可以用于去除硅片表面金属离子。

Rinse1~3:水洗(喷淋)槽,水洗槽与槽之间相互联通。水洗槽中液面高度Rinse3>Rinse2>Rinse1。进水口在Rinse3处。Dryer1和Dryer2为风刀,通过调节风刀的角度和吹风的压力,使硅片被迅速吹干。滚轮分三段设定速度,其中converyor1≤converyor2≤converyor3,否则前快后慢,易在设备中因为叠片而造成碎片。滚轮速度(即制绒时间)根据需要的腐蚀深度来进行设置,生产过程中可根据测试结果来进行滚轮速度修正。一般滚轮速度慢,则反应时间增加,腐蚀深度加深,反之亦然。(注:前清洗速度最好不要超过1.2m/min,速度过快,一方面硅片清洗或吹不干

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