2023年光刻产业ASML分析报告

2023年光刻产业ASML分析报告2023年6月目录一光刻工艺是晶圆制造最核心环节光刻产业链协同进展成为光刻机突破关键因子 1、光刻定义晶体管尺寸，光刻工艺合计占芯片本钱近30% 6〔1〕2023年全球半导体市场规模达4090亿美元，成为数码产业的基石 6〔2〕半导体产业链分为设计、制造、封测三大环节，设备成为半导体产业支柱 7〔3〕14nm及以下先进制程应用广泛且不断进步，光刻、刻蚀、沉积设备成为投资重点 82、区分于其他晶圆制造设备，光刻机独有自身产业链概念 10区分于晶圆制造其他工艺，光刻机组件及配套设施简单，形成自身产业链概念............................................................................................................................................10随着制程精度提升，光刻机简单程度提高，贯穿光刻产业链成为ASML垄断光刻市场的关键 11日、美配套光刻胶、光刻气体等材料和设备紧紧追随ASML产品迭代 12ASML技术效劳基地落户无锡，进一步完善自身在中国市场的产业链掩盖 13二、ASML通过光刻产业链垄断全球光刻机市场 141、ASML成立之前：光刻机马上进入准分子激光时代，美国三雄称霸光刻市场 15〔1〕i-line与步进投影为光刻主流技术 15〔2〕美国三雄统治1980年之前的光刻机市场日本佳能尼康抓住产业转移时机接棒 162、1984-2023：PAS5500帮助公司立足全球光刻市场 17ASML成立于1984年，脱胎于飞利浦试验室 17凭借PAS5500系列获得突破，开拓兴市场，与日本厂商差距缩小 183、2023-2023：双工作台技术提升效率，先发浸没式系统战胜尼康、佳能.19Twinscan双工件台系统将生产效率提升35%，精度提升10% 19ASML领先突破浸没式系统，自此引领全球光刻市场 21利用浸没式系统持稳固竞争优势 22乐观改进浸没式系统，推动制程极限至7/5nm 234、2023-至今：打通EUV光刻产业链，成为全球EUV光刻机独家供给商 24〔1〕13.5nm引领下一代光源，技术面临巨大挑战 24〔2〕EUV光刻机：顶级科学与顶级制造的结合 25〔3〕2023年首发EUV光刻机，目前成为全球唯一一家EUV光刻机供给商 26EUV成功来源于ASML光刻机上游产业链的贯穿 26EUV设备在下游市场供不应求 27ASML光刻机已经掩盖EUV销量、价格节节攀升 28三、02专项加码关键技术突破，外乡光刻产业链构建正值时 291、光刻机组件：“02专项”强化国产物镜、光源、浸没式系统等高端光刻组件................................................................................................................................31国科周密：担当光刻机“心脏”建设，浸没式曝光系统已通过“02专项”验收 31科益虹源：估量2023年帮助整机单位完成28nm浸没式DUV光源 32启尔机电：全球第三家拥有光刻机浸没式系统研发力量公司 33华卓精科：双工作台技术打破ASML垄断 34福晶科技：全球非线性光学晶体龙头，已具备向ASML供货力量 352、配套光刻胶：ArFi、EUV光刻胶初见锋芒，南大光电领衔国内公司加速 36南大光电：国内高端光刻胶稀缺标的，ArF光刻胶研发领跑国内 38晶瑞股份：掩盖四大泛半导体领域，KrF光刻胶完成中试 39雅克科技：并购切入面板光刻胶及辅材领域，大基金注资5.5亿元 41容大感光：建设千吨级IC用光刻胶产线 42上海阳：购置ASML光刻机，i-line、KrF、ArF光刻胶多管齐下 43北京科华：EUV光刻胶已通过02专项验收 443、配套光刻气：打算区分率范围，华特气体、凯美特气完善国内光刻气链条................................................................................................................................45华特气体：全球第四家获得ASML光刻气认证公司 46凯美特气：布局稀有气体，完善国内光刻激光器保护气体链条 474、配套光罩：光罩占半导体材料市场份额13%，高世代光罩实现突破 48菲利华：G8代大尺寸石英基板打破国外公司技术垄断 49清溢光电：国内光罩领域龙头，客户资源丰富 515、配套设备：涂胶显影设备为光刻必要环节，检测设备成为提升良率关键................................................................................................................................52芯源微：国内涂胶显影设备龙头，打破TEL国内垄断 52精测电子：半导体前、后道检测布局双管齐下，半导体订单密集落地 54睿励科学：膜厚设备进入三星、长江存储和上海华力 56赛腾股份：收购Optima切入半导体前道检测赛道 57四、外乡光刻产业链协同进展，上海微电子下一代光刻机突破在即..........................................................................................................591、晶圆前道光刻机制程达90nm，封装、LED、面板光刻机市占率较高 592、国产光刻链的打通助力上海微电子下一代光刻机突破 62五、主要风险 641、半导体行业周期波动 642、光刻产业链研发不及预期 643、国外技术管制 64光刻环节是晶圆制造中最核心工艺，占晶圆制造耗时40%-50%，占芯片本钱30%。作为光刻工艺的核心设备，光刻机构造简单、本钱极23%DUV和EUV光源、浸没式系统等核心组件和光刻胶、光刻气、光罩、涂胶显影设备、检测设备等诸多配套设施的协同进展。ASML：浸没式系统和EUV光刻成为公司进展史上两大关键里程ASMLDUV全球市占率达93%，EUV全球市占率达100%。2023年，ASML收入132.4亿美元，净利润29.0亿美元，收入排名全球半导体设备厂商其次。复盘其三十余年历史，浸没式工艺技术的突破和EUV产业链的贯穿成为ASML战胜尼康等日本厂商的两大关键性节点。打通光刻产业链成为国产光刻机追赶ASML的关键。ASML有大约5000790ASML总开支的66%，其中德国蔡司、美国Cymer等厂商几乎垄断全球高端物镜、极紫外光源等技术。受《瓦森纳协议》等国外技术管制影响，国产高端光刻机无法像ASML一样通过全球合作、并购突破，只能依托外乡光刻组件和配套设施产业链自主研发实现突破。02专项强化国内光刻产业链进展，高端光刻机突破在即：在“02专项”的大力支持下，国科周密、启尔机电、华卓精科纷纷在物镜、浸没式系统和双工作台上通过02专项验收，福晶科技局部产品供货ASML。配套设施方面，华特气体、凯美特气实现光刻气突破，南大电，菲利华打破光罩领域国外垄断，精测电子、睿励科学、赛腾股份微电子90nm以内的下一代光刻机突破在即。一、光刻工艺是晶圆制造最核心环节，光刻