镀膜机的基本结构-课件

介绍Optorun光学镀膜设备介绍Optorun光学镀膜设备1设备型号讲解设备型号举例：OTFC

1300

DBI设备种类大小配置设备种类分为OTFC和Gener真空室大小分为600、900、1300、1550、1800、2350配置说明：

C:冷凝泵

D:扩散泵

B:电子枪

I:离子源设备型号讲解设备型号举例：OTFC1300DB2设备机构总成真空腔体抽气以及排气系统真空测量仪器全自动蒸发控制系统真空室加热、基板系统基板高速旋转机构电子束蒸发系统RF射频离子源高精度光学监控系统石英晶振以及速率监控系统真空压力自动控制系统冷却水压缩空气系统冷凝器设备机构总成真空腔体3

一、真空腔体一、真空腔体41.观察基板窗口观察基板窗口成膜时通过观察窗可了解真空室内的情况观察蒸发源1.观察基板窗口观察基板窗口成膜时通过观察窗可了52.遥控盒功能MASKNO下降、EX抬起SHUTTER

IB:离子源挡板开关

EB1:电子枪1挡板开关

EB2:电子枪2挡板开关HEARTH

HEARTH1:左坩埚台旋转

HEARTH2:右坩埚台旋转DOMEROTATION

工件盘顺时针方向旋转工件盘逆时针方向旋转2.遥控盒功能MASK63.真空室内部3.真空室内部74.坩埚种类点坩埚环形坩埚4.坩埚种类点坩埚环形坩埚8确认坩埚位置标准确认坩埚台中心、坩埚、电子束蒸发源是否在一条直线上松开联轴器螺丝，调整编码器位置，直到补偿数字为0，然后锁紧螺丝确认坩埚位置标准确认坩埚台中心、坩埚、电子束95.电子枪原理及作用电子束蒸发示意图电子枪是加速电子轰击靶并发光的一种装置，它发射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的电子束，电子受栅极电位的影响，在阳极加速电压下形成汇聚的电子束，在磁场作用下电子束得到进一步聚焦并偏转180°或270°射入装有镀膜料的坩埚中，其动能变成热能使蒸镀材料蒸发沉积于基片上形成薄膜5.电子枪原理及作用电子束蒸发示意图电子枪是10电子枪总装图

真空室电子枪

1电子枪

2高压导入端子

扫描控制器电子枪电控柜低压导入端子

控制系统电子枪总装图真空室电子枪111电子枪种类电子束蒸发源种类:电子束偏转角度180°，运行轨迹为“C”的C型枪电子束偏转角度270°，运行轨迹为“e”的e型枪e

型枪C型枪e型枪U字形灯丝c型枪蚊香形灯丝电子枪种类电子束蒸发源种类:e型枪C型枪e型枪U12镀膜前确认上、下犄角是否平行，水平标准标准松开此螺丝调节犄角平行度松开螺丝后犄角下方垫铜片，确保犄角的水平镀膜前确认上、下犄角是否平行，水平标准标准松开此螺丝13镀膜前电子枪注意事项确认坩埚挡板高度是否80mm坩埚挡板打开角度90左右坩埚挡板架子需要包铝箔镀膜之前用吸尘器吸取灰尘，确保真空室内部清洁80mm挡板角度打开90左右铝箔包住镀膜前电子枪注意事项确认坩埚挡板高度是否80mm80mm挡板146.离子源的作用离子源辅助电子束示意图1.清洁基片表面2.夯实膜层，使其致密3.提高膜牢固度6.离子源的作用离子源辅助电子束示意图1.清洁基15离子源种类RF离子源GL离子源中和器离子源种类RF离子源GL离子源中和器16镀膜前离子源注意事项用角度仪确认离子源的水平及内外角度确认坩埚挡板高度离子源挡板打开角度离子源挡板架子需要包铝箔确认地线是否连接（共三根）接地线镀膜前离子源注意事项用角度仪确认离子源的水平及内外角度接地线177.辅正板（MASK）的作用mask通过辅正板遮挡部分蒸发材料，调整整片伞架的均匀性，使所有基板物理厚度一致。调节MASK升降速度的快慢7.辅正板（MASK）的作用mask通过辅正板遮挡部分蒸发18镀膜前MASK注意事项MASK设定角度18°。当角度不是18°时调节此螺丝确认MASK支杆是否卡在MASK槽上镀膜前MASK注意事项MASK设定角度18°。当角度不是1198.石英晶振以及速率监控系统XTC/3膜厚控制仪水晶holder水晶探头水晶旋转机构

石英晶体振荡法监控膜厚，主要是利用石英晶体的两个效应，压电效应和质量负荷效应，通过测定固有谐振频率或与固有谐振频率有关的参数变化来监控沉积薄膜的厚度。石英晶体的频率飘移与附加上的质量的关系：附加上的质量增加，振荡频率降低

质量=密度X面积X厚度8.石英晶振以及速率监控系统XTC/209.光学监控系统光量曲线光控电源及数据处理器分光器及投光器监控片玻璃实时监测光反射率（或透射率）的变化，并将实时反射率（或透射率）数据提供给主机，从而实现薄膜的光学厚度控制。电脑(相当于人体大脑)根据光学膜厚计提供的反射率实时变化曲线，在反射率变化到事先设定的停止位置的一瞬间停止材料蒸镀，从而得到所需要的膜厚。监控片罩壳9.光学监控系统光量曲线光控电源及数据处理器分光2110.加热丝侧壁加热真空室门加热监控片及工件盘加热温度对膜层原子或分子提供额外能量补充，在膜层折射率、应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较大差异升温优点：排除基片表面的剩余气体分子，增加基片与沉积分子之间的结合力促使膜层物理吸附向化学吸附转化，增加分子之间相互作用，使膜层紧密，附着力增加，提高机械强度减少蒸汽分子再结晶温度与基片温度之间的差异，提高膜层致密度，增加硬度，消除内应力温度过高弊端：使膜层结构变化或膜料分解10.加热丝侧壁加热真空室门加热监控片及工件盘2211.真空室内部相关部件百叶窗冷凝管主阀盖工件盘（DOME）防止膜料污染到真空室11.真空室内部相关部件百叶窗冷凝管主阀盖23

二、OTFC电控柜总图光控投光器电源光控数据处理器触摸屏RF离子源控制器电子枪控制器真空显示器膜厚控制仪电脑显示器及主机二、OTFC电控柜总图光控投光器电源光24Gener电控柜总图GL离子源控制器紧急停止按钮监控片和工件盘的加热丝电流充氧压力控制器其它部分与OTFC电控柜相同Gener电控柜总图GL离子源控制器紧急停止按钮25光学监控系统1[HOM2-N]分光器将Fiber接受到的光分光后、转变成电信号。[HOM2-L]投光器卤素灯投光器。投光的同時输出参考信号。[HOM2-F]Fiber将投光器投出的光送LensUnlt。接受到的光送到分光器。[HOM2-N1][HOM2-L2][HOM2-F9C]光学监控系统1[HOM2-N]分光器[HOM2-26光学监控系统2[HOM-P]投光器用电源投光器用的电源。在前面表示Lamp电压、电流、使用时间。[HOM2-D]数据处理器从分光器发出的光量电信号、从投光器发出的参考信号的光量値（电圧）输送到PC。[HOM2-U]LensUnlt把光投到监控玻璃、接受反射光。[HOM2-P][HOM2-D1][HOM2-U14]光学监控系统2[HOM-P]投光器用电源[HOM27离子源总装图AMVG-600RUN2MatchingBoxMassFlowController3lineOISC-ⅡIonsourceController中和器电源离子源直流电源AX-300Ⅲ中和器射频电源AX-1000ⅢRFGenerator离子源射频电源OIS-TwoRFIonSource(17cm)RFN-3ANeutralizerAM-200RUNMatchingBoxPC气体控制器离子源总装图AMVG-600RUN2MassFl28目前，我司使用的冷冻机有两种，Telemark和Polycold

在一个完全封闭的环境下，通过压缩机制造循环，并使用特殊配方的介质，从而使电能转化为热能，达到制冷和化霜的功能。目前，我司使用的冷冻机有两种，Telemark和Polyco29

电子枪控制器电子枪控制器30离子源控制器离子源控制器31真空计种类BPG:热电离真空计PEG:冷电离真空计SC2：管道真空计SC1：爱发科真空计真空计种类BPG:热电离真空计PEG:冷电离真空计SC2：管32抽气以及排气硬件系统-（图1）

机械泵油吸附塔

罗茨泵

排气管道

粗抽阀FV阀

油扩散泵

高真空阀

高真空阀抽气以及排气硬件系统-（图1）机械泵油吸附塔33PLC抽气以及排气软件系统（图2）PLC抽气以及排气软件系统（图2）34真空泵机械泵罗茨泵扩散泵真空泵机械泵35机械泵作用：前期抽气,为达到低真空的设备.还是罗茨泵的前级