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文档简介

结型场效应管

结型场效应管JFET的结构和工作原理JFET的特性曲线及参数JFET放大电路的小信号模型分析法JFET的结构和工作原理1.结构N沟道JFETP沟道JFET漏极源极栅极结型场效应管结构动画演示#符号中的箭头方向表示什么?2.工作原理(以N沟道为例)正常工作条件(N沟道):栅—源之间加负向电压(vGS<0),以保证耗尽层承受反向电压。漏—源之间加正向电压(vDS>0

),以形成漏极电流iD。场效应管通过栅—源电压vGS和漏—源电压vDS对导电沟道的影响来实现对iD的控制,从而实现其放大(控制)的功能。JFET的结构和工作原理s4.3.1JFET的结构和工作原理NgduGS工作原理:当vDS=0(d、s短路)时,vGS对导电沟道的控制作用PPsvDS=0且vGS=0,耗尽层很窄,导电沟道很宽。|vGS|增大时,耗尽层加宽,沟道变窄,沟道电阻增大。③

|vGS|增大到某一数值时,耗尽层闭合,沟道消失,沟道电阻趋于无穷大,称此时vGS的值为夹断电压VP4.3.1JFET的结构和工作原理NgduGSsuDS当vGS为某一固定值(VP~0

)时,vDS对漏极电流iD的影响。PPvGS为某一固定值(VP~0

),存在由vGS所确定的一定宽度的沟道。若vDS=0,此时由于d—s间电压为零,沟道中的载流子不会产生定向移动,故电流iD=0。若vDS>0,则有电流iD从漏极流向源极,此时沟道中各点与栅极间的电压不等(从源极到漏极逐渐增大),耗尽层宽度不一(沟道上窄下宽,呈楔型)。NgduGSsuDSPP由于栅—漏电压vGD=vGS-vDS,所以当vDS从零逐渐增大时,vGD逐渐减小,靠近漏极一侧的导电沟道必将随之变窄。但只要栅—漏间不出现夹断区域,沟道电阻仍取决于栅—源电压(vGS),故电流iD将随vDS的变化近似线性变化。一旦vDS的增大使vGD=VP,则漏极一边的耗尽层就会出现夹断区,称vGD=VP为预夹断。4.3.1JFET的结构和工作原理4.3.1JFET的结构和工作原理NgduGSsuDSPP预夹断后,若vDS继续增大,vGD<VP,耗尽层闭合部分将沿沟道方向延伸,夹断区加长。

一方面,自由电子从源极向漏极定向移动所受阻力加大(从夹断区窄缝高速通过),从而导致iD减小;另一方面,随着vDS的增大,d—s间的电场增强,使iD增大。二者变化趋势相互抵消,在预夹断后,vDS增大,iD近似不变,即iD仅仅取决于vGS,表现出iD的恒流特性。当vGD<VP时,vGS对漏极电流iD的控制。在vGD=vGS-vDS<VP,即vDS>vGS-VP的情况下,当vDS为一常量时,对应于确定的vGS,就有确定的iD。此时通过改变vGS就可以控制iD的大小,这就是场效应管的控制作用。场效应管控制作用体现在漏极电流受栅—源电压的控制,故场效应管为电压控制器件,体现其控制作用的参数为gm(低频跨导)。NgdvGSsvDSPP结型场效应管工作原理动画演示4.3.1JFET的结构和工作原理小结:在vGD=vGS-vDS>VP的情况下,即当vDS<vGS-VP(即g-d间未出现夹断)时,对应于不同的vGS,d-s间等效为不同阻值的电阻;当vDS使vGD=VP时,d-s间出现预夹断;当vDS使vGD<VP时,iD几乎仅仅决定于vGS,而与vDS无关。此时可以把iD近似看成vGS控制的电流源。4.3.1JFET的结构和工作原理综上分析可知

沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电,

所以场效应管也称为单极型三极管。JFET是电压控制电流器件,iD受vGS控制。预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后,iD趋于饱和。#

为什么JFET的输入电阻比BJT高得多?JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的,因

此iG0,输入电阻很高。场效应管的四个工作区:可变电阻区:在预夹断前,通过改变vGS的值,可以改变沟道的宽度,从而改变漏-源极之间的电阻。恒流区:当vDS>vGS-Vp,即vGD<Vp时,各曲线近似一组横轴的平行线。当vDS增大时,iD几乎不变,因而可将iD近似为v

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