CB外层知识讲解

圖形轉移(外層)制程教案一、什麼是圖形轉移二、工藝流程簡介三、外層設備寫真四、主物料簡介五、制程工藝制作六、常見故障及排除方法

教案

綱要制造印刷板过程中的一道工序就是將照相底版上的电路图像转移到覆铜箔层压板上，形成一种抗蚀或抗电镀的掩膜图像。抗蚀图像用于“印制蚀刻工艺”，即用保护性的抗蚀材料在覆铜箔层压板上形成正相图像，那些未被抗蚀剂保护的不需要的铜箔，在随后的化学蚀刻工序中被去掉，蚀刻后去除抗蚀层，便得到所需的裸铜电路图像。而抗电镀图像用于“图形电镀工艺”，即用保护性的抗蚀材料在覆铜层压板上形成负相图像，使所需要的图像是铜表面，经过清洁、粗化等处理后，在其上电镀铜或电镀金属保护层(锡铅、锡镍、锡、金等)，然后去掉抗蚀层进行蚀刻，电镀的金属保护层在蚀刻工序中起抗蚀作用。一、什麼是圖形轉移圖形轉移工艺过程概括如下：

1.印制蚀刻工艺流程：下料→板面清洁处理→涂湿膜→曝光→显影（贴干膜→曝光→显影）→蚀刻→去膜→进入下工序

2.圖形电镀工艺过程概括如下：下料→钻孔→孔金属化→预镀铜→板面清洁→涂湿膜→曝光→显影（贴干膜→曝光→显影）→形成负相图象

→图形镀铜→图形电镀金属抗蚀层→去膜→蚀刻→进入下工序

二、工藝流程簡介图像转移有两种方法，一种是网印图像转移，一种是光化学图像转移。网印图像转移比光化学图像转移成本低，在生产批量大的情况下更是如此，但是网印抗蚀印料通常只能制造大于或等于o．25mm的印制导线，而光化学图像转移所用的光致抗蚀剂制造分辨率高的清晰图像。本章所述内容为后一种方法。

光化学图像转移需要使用光致抗蚀剂，下面介绍有关光致抗蚀剂的一些基本知识

1)光致抗蚀剂：用光化学方法获得的，能抵抗住某种蚀刻液或电镀溶液浸蚀的感光材料。

2)正性光致抗蚀剂：光照射部分分解(或软化)，曝光显影之后，能把生产用照相底版上透明的部分从板面上除去。

3)负性光致抗蚀剂：光照射部分聚合(或交联)，曝光显影之后，能把生产用照相底版上透明的部分保留在板面上。

4)光致抗蚀剂的分类：

按用途分为耐蚀刻抗蚀剂和耐电镀抗蚀剂。

按显影类型分为全水溶性抗蚀剂、半水溶性抗蚀剂和溶剂性抗蚀剂。

按物理状态分为液体抗蚀剂和干膜抗蚀剂。

按感光类型分为正性抗蚀剂和负性抗蚀剂。图像转移的方法三、外層設備寫真1.干膜前處理站2.壓膜站3.曝光站4.顯影站流程圖進料區圖片進料區1.干膜前處理站-進料注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖磨刷機圖片磨刷1.干膜前處理站-磨刷注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖冷卻翻板機圖片冷卻1.干膜前處理站-冷卻注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖收板機圖片收板1.干膜前處理站-收板注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉2.壓膜站-投板流程圖投板機圖片投板注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉2.壓膜站-清潔流程圖清潔機圖片清潔注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉2.壓膜站-預熱流程圖預熱機圖片預熱注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉2.壓膜站-壓膜流程圖壓膜機圖片壓膜注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉2.壓膜站-冷卻流程圖冷卻翻板機圖片冷卻注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉2.壓膜站-收板流程圖收板機圖片收板注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖暫存區圖片暫存2.壓膜站-暫存注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖曝光機圖片曝光3.曝光站-曝光注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖暫存區圖片暫存3.曝光站-暫存注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖撕Mylar區圖片撕Mylar4.顯影站-撕Mylar注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖顯影機圖片顯影4.顯影站-顯影注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖收板機圖片收板4.顯影站-收板注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉流程圖檢修區圖片檢修4.顯影站-檢修注明::作業:量的檢查:質的檢查:移轉四、主辜物料簡筑介印制电充路图形忘的转移党所使用怀的原材交料，自跪出现印触制电路扰以来，姑原材料阿的研制铜与开发膜科学攻尘关工作妥从未停令止过。榜从原始离阶段设咸计采用骗抗蚀油房诚漆或虫汗胶漆手孝工描绘育简单的纱线路图始形转移斥工艺技棵术的需袄要。但脑随着微漂电子技袭术的飞栏速发展或，大规混模集成膏电路和刚超大规瓣模集成才电路的莲广泛应踏用，要私求印制呀电路板盈的制造浸技术，服必须适阵应高密疲度、高神精度、刮细导线肠、窄间泄距及小冻孔径电乒路图形稍转移需落要。几箭十年来锤，研制完与开发蓬出新型叹的光致斥抗蚀剂斩与电路莫图形转钩移技术恩：如光告致抗蚀唇干膜、底湿法贴林膜技术谱、电泳颗光致抗脊蚀膜和罪直接成酱像技术伤，都逐演步地被宵制造印兽制电路磁板商家村所采用荣，使电歼路图形庄的转移呢品质大洗幅度的承提高。际本章主首要就本艘廠所采薯用的电含路图形眯转移原尖材料光致抗亦蚀干膜加以简单绕介紹.聚乙烯保昆护膜光致抗蚀衰剂層myla馆r(聚酯薄配膜)4.1光致抗蚀花干膜外形圖聚酯薄干膜:是支撑在感光胶党层的载研体，使庭之涂布舍成膜，屿厚度通抄常为25μm左右。弹聚酯薄演膜在曝崖光之灭后显影鱼之前除昨去，防轰止曝光仓时氧气炭向抗蚀训剂层扩士散，破友坏游离件基，引兆起感光矛度下降挡。光致抗歇蚀剂膜:为干膜的纲主体，多通为负性感秆光材料，冈其厚度视液其用途不姥同，有若醒干种规格垦，最薄的晚可以是十摄几个微米进，最厚的泊可达100盛μm。聚乙烯浮膜:是复盖轻在感光烫胶层上婚的保护俯膜，防集止灰尘君等污物口粘污干丢膜，避玻免在卷合膜时，检每层跪抗蚀剂菠膜之间柔相互粘睡连。聚狂乙烯膜懒一般厚膏度为25μ碌m左右。*干膜取光致抗暖蚀剂的押制作是害先把预红先配制换好的感重光胶在屯高清洁避度的条辈件下，虚在高精朵度的涂剑布机上准涂覆于吹聚酯薄渐膜上，巩经烘道企干燥并坦冷却后滚，覆上敌聚乙烯滔保护膜滑，卷绕翁在一个马辊芯上踢。4.2光致抗喊蚀干膜層別說灿明使用干膜戴时，首先追应进行外披观检查。质量好脂的干膜沾必须无昌气泡、叮颗粒、张杂质；斯抗蚀膜伶厚度均韵匀；颜钩色均匀主一致；功无胶层抬流动。郑如果干开膜存在引上述要进求中的担缺陷，刊就会增射加图像虎转移后淹的修版余量，严华重者根肯本无法认使用。膜卷必须帜卷绕紧密围、整齐，上层间对准艺误差应小推于1mm，这是巷为了防志止在贴辈膜时因驼卷绕误锣差而弄萝脏热压竹辊，也举不会因朱卷绕不祖紧而出装现连续留贴膜的冒故障。猾聚酯薄市膜应尽陕可能薄络，聚酯赞膜太厚挑会造成嘴曝光时购光线严会重散射崖，而使毅图像失贵真，降志低干膜违分辨率誉。聚酯澡薄膜必默须透明良度高，端否则会很增加曝妥光时间油。聚乙此烯保护荡膜厚度捆应均匀尖，如厚镰度不均丈匀将造稍成光致器抗蚀层惠胶层流都动，严锄重影响虹干膜的腰质量。4.3干膜外觀檢驗常識干膜在迈储存过远程中可启能由于英溶剂的奇挥发而例变脆，虏也可能慢由于环走境温度尾的影响变而产生鱼热聚合患，或因燥抗蚀剂哑产生局谢部流动醋而造成友厚度不锋均匀(即所谓冷赴流)，这些斤都严重椒影响干顿膜的使作用。格因此在鄙良好的迁环境里冒储存干草膜是十泥分重要袖的。技术要采求规定阵，干膜裕应储存死在阴凉榨而洁净歇的室促内，防陵止与化和学药品俊和放射左性物质普一起存释放。储币存条件邮为：黄屡光区，屯温度低涂于27℃(询5—21蜡℃为最佳)，相对驶湿度50％左右福。储存虫期从出盯厂之日蝴算起不浆小于六鼻个月，窃超过储厅存期按泳技术要唐求检赴验合格然者仍可统使用。妇在储存穴和运输忌过程中则应避免撤受潮、策受热、顷受机械阳损伤和寇受日光响直接照丑射。4.4干膜儲存廊常識4.5光致抗蚀界剂膜层的社主要成分铁及作用1)粘结剂(成膜树箱脂)作为光致递抗蚀剂的杏成膜剂，裂使感光胶岸各组份粘幸结成膜，邻起抗蚀剂当伪骨架作两用，它在注光致聚合绑过程中不问参与化学哭反应。栏要求粘结棉剂具有较压好的成膜芒性；与光省致抗蚀剂都的各组份烧有较好的睛互溶性；钥与加工金素属表面可有较好的僚附着力；暗它很容易胆从金属表稼面用碱溶爪液除去；纳有较好的批抗蚀、抗欺电镀、抗宜冷流、耐岗热等性能赞。粘结邮剂通常是窜酯化或酰午胺化的聚代苯乙烯——顺丁烯二秆酸酐树脂(聚苯丁树砖脂)。2)光聚合缺单体它是光致气抗蚀剂胶管膜的主要狱组份，在慰光引发剂梅的存在下安，经紫外征光照射发弯生聚合反够应，生成淡体型聚合怖物，感光茫部分不溶动于显影液灶，而未曝历光部分可拔通过显影皂除去，从腔而形成抗敏蚀图像。吩多元醇烯惊酸酯类及咸甲基丙烯盗酸酯类是蓄广泛应用星的聚合单闹体，例如惜季戊四醇掘三丙烯酸渠酯是较好报的光聚鄙合单体。3)光引发剂在紫外柳光线照替射下，夕光引发医剂吸收子紫外光荣的能量亡产生游谋离基，脊而游离征基进一垦步引发索光聚合督单体交乞联。干林膜光致详抗蚀剂晶通常使蔑用安息节香醚、泉叔丁基缝恿醌等禽作光引无发剂。4)增塑剂可增加巨干膜抗喘蚀剂的敲均匀性汇和柔韧绘性。三学乙二醇尼双醋酸耐脂可作肚为增塑著剂。5)增粘剂可增加欲干膜光峰致抗蚀芳剂与铜惹表面的士化学结镇合力，斥防止因蚊粘结不辜牢引起愈胶膜起渣翘、渗案镀等弊好病。逢常用的邪增粘剂搅如苯并盯三氮唑戚。4.5光致抗颈蚀剂膜冰层的主陶要成分做及作用6)热阻聚剂在干膜的喷生产及应塘用过程中叶，很多步碗骤需要接难受热能，士为阻止热盗能对干膜担的聚合作扯用加入热印阻聚剂。笑如甲氧基鸭酚、对苯缘瑞二酚等均左可作为热汗阻聚剂。7)色料为使干刮膜呈现踩鲜艳的知颜色，云便于修党版和检锯查而添按加色料然。如加苦入孔雀偷石绿、乒苏丹三疤等色料粪使干蒙膜呈现峰鲜艳的吵绿色、差兰色等歼。8)溶剂为溶解仅上述各蛛组份必耽须使用艺溶剂。太通常采期用丙酮劳、酒精热作溶剂度。此幸外有些宿种类的善干膜还提加入光烦致变色扩剂，使香之在曝着光后增疗色或减从色，以材鉴别是帖否曝光瘦，这轰种干膜部又叫变澡色干膜。4.5光致抗推蚀剂膜大层的主灵要成分块及作用五、制法程工藝刊制作采用干膜勇进行图像痰转移的制程工艺流币程为：基板清股洁处理→壓膜→曝光→显影→修板贴干膜前泳板面包括道覆铜箔板爷基板和孔雪金属化后府预镀铜的希基板。为保证干惹膜与基板惕表面牢延固的粘附将，要求基兰板表面无停氧化层、锻油污、指办印及其它住污物，无倦钻孔毛刺麦、无粗糙揉镀层。为市增大干许膜与基板窃表面的接屠触面积，辛还要求基洪板有微观令粗糙的表醒面。为达到上拢述两项要纷求，贴膜行前要对茶基板进行责认真的处阶理。其处蛾理方法有韵机械清洗喜、化学清痰洗及電解分清洗。5.1基板清洁浊处理工藝机械清盾洗即用王刷板机餐清洗.刷板机又踏分为:1.磨料刷辊袜式刷板2.浮石粉弯刷板机械清怜洗及浮全石粉刷巷板对验去除基朋板表面捡的含铬败钝化膜宏(铜箔圣表面防表氧化剂懂)效果捡不错，驰但易划善伤表面梳，并可梦能造成浩磨料颗框粒嵌入纯基体内鲜，同时旬还可能吓使挠性沿基板、滨多层板迹内层薄兄板及薄撞型印哑制板基猴板的尺玩寸变形鸟。5.1.1機械清浮洗磨料刷辊总式刷板机游磨料刷仍辊式刷板篇机装配的倚刷子通常米有两种类辜型，压缩振型刷子和裙硬毛型刷科子。压缩型扒刷子是蛮将粒两度很细森的碳化刊硅或氧互化铝磨泻料粘结耕在尼龙必丝上，很然后将佛这种尼刊龙丝制蚕成纤维爪板或软驴垫，经虾固化捞后切成浩圆片，纤装在一扎根辊芯跃上制成红刷辊。硬毛型烦刷子的镜刷体是刑用含有搞碳化硅糟磨料的首直径为楚0．团6mm的尼龙丝计编绕而成库的。磨料节粒度不同贱，用途也袖不同，通抢常粒度为停180目挖和240见目的刷子忙用于钻脊孔后去毛酷刺处理，升粒度为3好20月和据500目技的刷子用串于贴干膜阅前基板的怜处理。呢两种刷子懒相比较各握有其优缺糖点。压缩榆型刷子因艘含磨料粒寨度很细，疾并且刷辊符对被刷板遥面的压笛力较大，寻因此刷过邮的铜表面孕均匀一致击，主要用是于多层板桥内层基板占的清洗。程其缺点是星由于尼龙回丝较细容彼易撕裂，谈使用寿命寒短。硬毛敢型刷子的民显著优点栽是尼龙丝爆耐磨性好疾，因而使赌用寿命长渠，大约推是压缩型成刷子的十柳倍，但是命这种刷子察不宜用于序处理多层君板内层基纪板，因基疤板薄不仅鸽处理效果恭不理想丈，而且还怒会造成基拖板卷曲。*在使少用刷辊留式刷板蜻机的过代程中，坏为防止济尼龙丝棍过热而付熔化，顾应不断林向板面种喷淋自裤来水进拒行冷该却和润企湿。(1)磨料刷辊侵式刷板机多年来垃国内外秋广泛使齐用的是恋磨料刷暮辊式刷演板机。寇研究表符明，用披这类刷宇板机清域洁处理宪板面有丛些缺觉欠，如双在表面静上有定虑向的擦士伤，有绢耕地式皮的沟槽泉，有时券孔的边普缘被撕馆破形成衡椭圆孔永，由于题磨刷程磨损刷验子高度疗不一致待而造成机处理后句的板面景不均匀临等。熄随着电谎子工业辩的发展侵，现代昼的电路汁设计要援求越来姥越细的掏线宽和街间距，努仍旧使摔用磨料阵刷辊式诉刷板椅机处理千板面，窜产品合词格率低构下，因妈此发展颗了浮石容粉刷板挖机。浮石粉控刷板机桶是将浮叛石粉悬嫂浊液喷谦到板面良上用尼帽龙刷进骆行擦刷隙：a．尼龙刷与雕浮石粉浆祖液相结合旨进行擦刷需；b．刷洗除由去板面路的浮石粮粉；c．高压水后洗；d．水洗；e．干燥。浮石粉刷崇板机处理当板面有如牌下优点：a．磨料浮口石粉粒陆子与尼舞龙刷相抹结合的距作用与守板面相殖切擦刷恳，能除昨去所有柳的污物据，露出葱新鲜像的纯洁秧的铜；b．能够形阁成完全差砂粒化旺的、粗吊糙的、静均匀的叠、多峰周的表面刺，没有押耕地式交的沟槽筛；c．由于尼锣龙刷的体作用缓彻和，表吨面和孔沙之间的傲连接不蛋会受到桑破坏；d．由于相光对软的徒尼龙刷仇的灵活习性，可应以弥补棵由于刷爪子磨损距而造成访的板面税不均匀川的问题金；e．由于板面陶均匀无沟夸槽，降低高了曝光时份光的散射耀，从而改左进了成像碎的分辨率穴。其不盲足是浮石附粉对设备纯的机械部纷分易损伤斗。(2)浮石粉炕刷板机化学清跪洗首先驻用碱溶肯液去除管铜表面息的油污镇、指印莫及其它别有机污蜜物。然球后用酸当性溶液街去除氧济化层刷和原铜牌基材上圆为防止夫铜被氧抗化的保损护涂层惭，最后镇再进行悲微蚀处母理以得枯到与干睡膜具有预优良唱粘附性需能的充晒分粗化敏的表面唇。吼化融学清洗桶的优点插是去掉值铜箔较帆少(1甚一1.咸5μm)，基材本身酱不受机械接应力的影忌响，对薄我板材的变处理较其蚀它方法易送于操作。拥但化学许处理需监灵测化学溶通液成分的牧变化并进轰行调整，斗对废旧溶剃液需进行尾处理，增妄加了废物话处理的稠费用。化学清劈燕洗去油难污性较蛮好，但英去除含猎铬钝化籍膜的效考果差。5.1兄.2化學清洗电解清顿洗能使闸基板产续生一个裤微观的汽比较均督匀的粗父糙表面驶，大大得提高比矛表面，碧增强干许膜与基电板表面顾的粘合藏力，这盗对生产瓜高密度结、细导益线的导仿电图形触是十分点有利的岭。电解清窝洗工艺范过程如占下：渔进亚料→电午解清洗构→水洗弱→微蚀劣刻→水闪洗→钝盏化→水剩洗→干快燥→出郊料1.电解清静洗主要真作用是沫去掉基记板铜箔辈表面的起氧化物咽、指纹骨、其它悲有机沾糟污和含糠铬钝化由物。2.微蚀刻柴主要作命用是使棕铜箔形想成一个轿微观的腔粗糙表果面，以占增大基满板表面现積。3.钝化的胆作用是妄保护已满粗化的梯新鲜的旋铜表面螺，防止包表面氧静化。团电解清答洗主要吸用于贴日干膜或眉涂覆液咱体光致丧抗蚀剂卷前的挠惹性基板膨、多层举板内层扎薄板及叮薄型苏印制板彼基板的恐表面清殃洁处理夹，它虽毙然具有卧诸多优抽点，但有对铜箔握表面环饺氧腻污您点清洗仪无效，锅废水處封理成本佛也较高鼓。5.1.3电解清洗处理后的按板面是否胳清洁应进形行检查，丈简单的检绩验方法是数水膜破裂睬试验法。武板面清潔疼处理后竹，流水浸内湿，傾斜45°放置，初整个板固面上的植连续水窄膜应能五保持1旬5秒钟接不破裂铺。清洁事处理后轧，最好盘立即贴的膜，如晓放置时着间超过兼四个小普时，应健重新进偶行清洁辫处理。炼美求国某公炉司用放融射性酯到酸测量钢清洁处赛理前后智铜箔的研表面积蜡，发现合处理后客比处理飘前大三扬倍，正寒是由于障存在大值量的微速观粗糙毒表面，鬼在贴膜盯加热加跟压的情浇况下，目使抗蚀嫂剂流入凭基板表堪面的微诸观结构标中，大涝大提高尖了干膜只的粘附丹力。救贴泉膜前板稻面的干遥燥很重肺要。残经存的潮色气往往只是造成罗砂眼或劫膜贴不锣牢的原旨因之一洪，因此喜必须岗去除板隆面及孔曾内的潮巨气，以助确保贴汗膜时板均子是干深燥的。5.1.4處理後串的板面奏檢查壓膜機每可分手图動及自就動兩種变，有收矛集聚烯宅類隔層嚷的捲輪婚，乾膜待主輪，鸭加熱輪美，抽風灶設備等拖四主要奋部份，赚進行連钓續作業.其示意雀圖如右:5.2壓膜工怠藝贴膜时，泡先从干膜完上剥下聚都乙烯保护哪膜，然后侍在加热加涝压的条件果下将干膜硬抗蚀剂粘至贴在覆铜鲁箔板上。圈干膜中的谎抗蚀剂层获受热后变喉软，流动脏性增加，叹借助于热围压辊的压回力和抗蚀产剂中粘结却剂的作用任完成贴膜舅。贴膜他通常在贴僚膜机上完彼成，贴膜验机型号繁脑多，但基尾本结构大善致相同：描贴膜可奇连续贴，炼也可单张禁贴。连续贴膜征时要注意宽在上、下掉干膜送料催辊上装干纤膜时要对长齐，单辨张贴时，跌膜的尺寸厉要稍小于翠板面，以兼防抗蚀剂侄粘到热压慎辊上。连差续贴膜生渐产效率高派，适合于炊大批量摄生产，小愚批量生产垮可采用单输张贴法，骑以减少干晶膜的浪费贵。贴膜时要弄掌握好的贿三个要素:压力、温尊度、传送桌速度。5.2.蜘1壓膜工宁藝-壓膜要點压力：新安装绑的贴膜凑机，首陕先要将车上下两巴热压辊腾调至轴获向平行猛，然后动来用逐碍渐加大说压力的给办法叔进行压切力调整昆，根据欺印制板喉厚度调固至使干玻膜易贴位、贴牢膝、不出雷皱折。坐一般压杨力调整滤好后就分可固燃定使用床，不需伶经常调工整。温度：根据干膜膜的类型、洞性能、环多境温度和舒湿度的不涉同而略有塔不同。膜骆涂布的较趴干、环境篇温度低拍、湿度小刊时，贴膜丧温度要高深些，反之志可低些。堂贴膜温度纺过高，干踩膜图像变袭脆，耐镀鼻性能差，淹贴膜温庄度过低，浮干膜与铜师表面粘附旬不牢，在雀显影或电鸡镀过程中脖，膜易起许翘甚至脱键落。通常胞控制贴膜浩温度在匀100℃爪左右。传送速度醋：与贴膜声温度有协关，温惨度高，品传送速惹度可快沟些，温堂度低则妹將传送乏速度调字慢。5.2.胃1壓膜工嫂藝-壓膜要點大批量生涝产时，在军所要求的沟传送速度摄下，热压芒辊难以提轰供足够的张热量，因洪此需给要缘瑞贴膜的倚板子进行别预热，即槽在烘箱中遮干燥处理避后稍加冷拔却便可贴萍膜。完好的贴列膜应是表轻面平整、扯无皱折、宏无气泡、搁无灰尘颗源粒等夹杂臭。为保持工快艺的稳定规性，贴膜捧后应经过吃15分钟竿的冷却及朋恢复期再尖进行曝光甘。5.2库.1壓膜工藝-壓膜要敏點ABABAAA.橡膠棒B.粘塵棒C.基板粘塵機原貌理:粘塵機的摊主要作用咱:通過間培接粘塵循方法,证除掉磨嗽刷過的挡板面上奶的板面虚銅粉及鸡灰塵,摆使板面萄更清潔抓,達到末壓膜無洒塵的銅坊粉粒的蔬效果.C5.2.芹1壓膜工藝-粘塵機結灰構圖◎曝光抚曝光即尿在紫外光妻照射下，称光引发剂皆吸收了光窗能分解成舌游离基，催游离基再念引发光聚交合单体撒进行聚合戚交联反应瓦，反应后旷形成不溶青于稀碱溶喘液的体型取大分子结敲构。曝光脏一般在自举动双面曝绍光机内面进行，现链在曝光机宴根据光源刊的冷却方半式不同，拐可分风冷乘和水冷式杯两种犹◎影响曝蚁光成像质竞量的因素血影响曝箩光成像质恭量的因素冠除干膜光乒致抗蚀剂额的性能外让，光源的瓶选择、曝偷光时间(柱曝光量)桨的控制疑、照相底司版的质量迁等都是影倒响曝光成冠像质量的惩重要因素筒。5.3慨.1曝光工藝5.3.中1曝光工藝偶-平行曝光劲機構造任何一种叔干膜都有杏其自身特靠有的光谱售吸收曲线床，而任何俯一种光源蔑也都有其驶自身的发画射光谱揉曲线。如蓄果某种干侨膜的光谱降吸收主峰雹能与某种咬光源的光枪谱发射主设峰相重叠意或大部分梦重叠，则凶两者匹苹配良好，爆曝光效果满最佳。骑国产干膜讨的光谱吸腥收曲线表顿明，光谱氧吸收区为默310—股440nm(毫微米炒)。从尾几种光带源的光顺谱能西量分布仇可看出份，镐灯麻、高压恼汞灯、倾碘镓灯能在31夜0—4棉40nm波长范围察均有较大葬的相对辐偷射强度，垂是干膜设曝光较理党想的光源悟。氙灯不躁适应于干唱膜的曝光胸。

光源帝种类选定棕后，还应纠考虑选用柳功率大的现光源。因叛为光强度锐大，分辨摆率高，而好且曝光时扇间短，照元相底版受兔热变形的拉程度也小施。违此外灯应具设计也赢很重要，希要尽量做流到使入射鄙光均匀性命好，平行席度高.5.3.哥1曝光工辆藝-光源的選旺擇在曝光培过程中漂，干膜急的光聚证合反应羽并非“五一引而杜发”或登“一曝俭即成”农，而是肃大体经政过三个徐阶段:干膜中秋存在氧科或其它巴有害杂滥质的阻幅碍，需首要经过卸一个诱杨导的过达程，在间该过程肆内引发智剂分解支产生的树游离基辜被氧和刊杂质所照消耗，碑单体的踏聚合甚凑微。当拔诱导期由一过，脾单体的典光聚合唉反应很筒快进行勇，胶膜谷的粘度下迅速增洒加，接丹近于突罪变的程垫度，这厅就是光箩敏单体趣急骤消素耗的阶惜段，这排个阶段缴在曝光羊过程中烂所占的墓时间比矛例是很订小的。犹当光敏外单体大俩部分消旷耗完时夸，就进倾入了单环体耗尽夕区，此拆时光聚隔合反应沸已经完调成。当袭曝光不诊足时，繁单体聚慰合的不坊彻底，克在显影罢过程中杏，胶膜薄溶涨变图软，线霸条不清浊晰，色温泽暗淡顺，甚至亚脱胶，米在电镀醒前处理屋或电镀逼过程中志，膜起距翘、渗际镀、甚直至脱落敏。当曝予光过头无时，会碌造成难截于显影盗，胶膜碌发脆、圾留下残齐胶等弊亭病。更况严重的赖是不正荡确的曝械光将产门生图像稼线宽的尾偏差，利过量的矮曝光会只使图形殿电镀的处线条变躺细，使泳印制蚀症刻的线适条变粗臣，反之气，曝光搜不足使允图形电兴镀的线黎条变粗废，使印僻制蚀刻肠的线条缝变细。-5.3.竭1曝光工懂藝-曝光时些间(曝旨光量)耐的控制如何正确忘确定曝光害时间呢?我廠使用总的為斯图警费2l级光密转度尺.斯图费民2l级光密度蜘尺第一级丹的光密度论为0.0权5，以后欺每级以光净密度差△D为0．衫15递耳增，猴到第2l级光密挽度为3赔.05途.在用光筹密度尺染进行曝盗光时，言光密度唇小的(迎即较透晶明的)留等级，扑干膜接忌受的紫刮外光能辅量多，处聚合的碰较完全涌，而光眉密度大疲的(即喇透明程巾度差的烟)等级半，干膜滚接受的牛紫外光乘能量少堤，不发栋生聚合尖或聚合腾的不完绩全，在燃显影时朱被显掉狼或只留拆下一部捞分。这菜样选用当不同的全时间进锋行曝光牙便可得多到不同塔的成陵像级数仙。其使用方化法简介如际下：a．进行曝弱光时光司密度尺辣药膜向窝下；b．在覆铜箔轻板上贴雷膜后放1厕5分钟再炼曝光；c．曝光后放僚置30分密钟显影。5.3.条1曝光工藝柄-曝光時当間的確罗定在无光喂密度尺晚的情况凳下也可尤凭经验珠进行观箩察，用那逐渐增专加曝光扑时间的产方法，湾根据显淡影后干仆膜的光泻亮程度描、图像析是否清土晰、图乎像线宽读是否与巴原底片结相符等害来确定舞适当的森曝光时裹间。荣严庄格的讲睡，以时洒间来计珠量曝光性是不科蹈学的，竭因为光鸡源的强毙度往往葡随着外消界电压墙的波动免及灯的炼老化而露改变。光能量浸定义的速公式E＝IT蓄，式中E表示总曝连光量，单绪位为毫焦前耳／平方载厘米；I表示丈光的强捆度，单己位为毫殊瓦／平澡方厘米叼；T为曝光祸时间，识单位为记秒。从块上式可董以看出规，总曝莲光量E随光强I和曝光时傲间T而变化。枪当曝光时粒间T恒定时段，光强I改变，死总曝光循量也随货之改变倾，所以俘尽管严魄格控扩制了曝华光时间协，但实且际上干吩膜在每插次曝光烦时所接即受的总如曝光量姻并不一削定相同猫，因而功聚合用程度也圆就不同警。．偷为使每洽次曝光疮能量相商同，使弓用光能艺量积分疼仪来计手量曝光抓。其原汗理是当堤光强I发生变化程时，能阿自动调整配曝光时间T，以保持世总曝光腊量E不变。5.3.喊1曝光工锯藝-曝光時咸間與曝杨光能量拖的關系照相底富版的质材量主要喷表现在排光密度搁和尺寸续稳定性耐两方面所。阴关于叔光密度歇，要求帮最大光卫密度Dmax大于4蜓，最小妈光密度Dmi遇n小于0．配2。最大宽光密度是岭指底版后左紫外光秤中，其表臣面挡光膜鱼的挡光下指限，也就谎是说，底矮版不透明船区的挡光础密度Dma缴x超过4时坑，才能究达到良好晕的挡光目剧的。最小鹅光密度是坑指底版在旷紫外光中增，其挡光款膜以外透驱明片基所年呈现的挡帐光上限真，也就是雾说，当底潜版透明区姑之光密度Dmin小于0.啊2时，才览能达到良尸好的透光羡目的。截照相底版传的尺寸稳弓定性(指抢随温度、冲湿度和储埋存时间的步变化)将咳直接影响傍印制板的苍尺寸精滩度和图像乓重合度，舱照相底版慕尺寸严重喝胀大或缩显小都会使蛇照相底版屈图像与印帽制板的钻狂孔发生偏睬离。因赚此照相底涨版的生麦产、使用疫和储存最锈好均在恒抵温恒湿的撑环境中。毙采用厚趁聚酯片基周的银盐片歌(例如0线.18mm)和重氮午片，可从提高照度相底版那的尺寸逃稳定性远。除针上述三接个主要作因素外蹲，曝光绵机的真撑空系统抱及真空跌框架材域料的选到择等也山会影响棚曝光成吃像的质睡量。5.3.提1曝光工藝姜-照相底版疑質量1)目钢视定位:通常适孕用于使慕用重氮坛底版，鸦重氮底晌版呈棕粪色或桔乞红色的紧半透明张状态；擦但不透米紫外润光，透俊过重氮吃图像使灯底版的秩焊盘与垄印制板免的孔重残合对准碗，用胶裙带固定慌即可进冶行曝光额。2)脱销态定位系统给定位(照相软片炼冲孔器和泼双圆孔脱假销定位器):首先將台正面、廊反面两医张底版墨药膜相咽对在显述微镜下薄对准；倒將对准磁的两张镇底版用枣软片魂冲孔器逼于底版倒有效图越像外任辉冲两个恢定位孔毫，把冲剖好定位柱孔的底暑版任取情一张去扯编钻孔厉程序，塌便能骂得到同妙时钻出因元件孔谣及定位腔孔的数立据带，相一次性污钻出元交件孔及且定位孔是，印制净板金属狼化孔及怖预镀讲铜后，挎便可用汇双圆孔娱脱销定服位器定禁位曝光算。3)固定莲销钉定位:此固定销谜钉分两套穷系统，一梳套固定照瞒相底版，亦另一套固牲定印制板判，通过调烦整两销钉怜的位置，但实现照相柿底版与印健制板的重钢合对准。路曝光后，蛮聚合反应妻还要持续份一段时间爬，为保证障工艺的稳补定性，曝炎光后不要帖立即揭去复聚酯膜，初以使聚合杜反应持续袖进行。待吓显影前再麻揭去聚酯俭膜。5.3.虫1曝光工藝乎-曝光定各位◎1PNL荷/次,擦拭答工具為貼喜附粘塵布筝之擦板,脏外形類似我於水泥工虾整平地板桂之刮刀,葡可除去PCB沉銅之疏探鬆銅粉及拘臟物,防棉止掉落於时菲林間,披影響曝光讲透光性,泥造成後續外短路.◎25PNL/次,碧麗凯珠清潔菲痕林,不可却用酒精,裂防止傷作及曝光吸攀真空吸嘴颤處之粘性偿,卻保真哪空度及菲旧林品質,僚(保持菲养林光滑不卵粘著灰塵希雜質)5.3.蛇1曝光工藝歉-菲林清潔显影机由理是感棚光膜中故未曝光没部分的韵活性基吴团与稀艳碱溶液捕反应生形成可溶姐性物质包而溶解饼下来娇，显影岂时活性章基团羧耗基一COO眼H与无水碳冒酸钠溶液爬中的Na+作用，生它成亲水性见集团一COON纲a。从而把未亮曝光的部诵分溶解下煤来，而曝晕光部分的耐干膜不被幅溶胀。显影操粗作一般鸭在显影稳机中进期行，控椅制好显久影液的性温度，绒传送速饼度，喷策淋压力孕等显影急参数，面能够得骨到好的腰显影效钱果。水溶性干溜膜的显影毫液为l％的碳酸桃钠溶液，粪液温30℃左右。5.4顯影工牙藝正确的显缘瑞影时间通画过显影点谱(没有曝省光的干膜银从印制板乡丰上被显掉伏之点)来照确定，显调影点必须胞保持在显贼影段总长邪度的一个花恒定百分翁比上。如拌果显出点溪离显影段劳出口太近惭，未聚合听的抗蚀膜赶得不到有充分的清落洁显影，象抗蚀剂的相残余可能京留在板面珍上。如果扩显出点离护显影段的辱入口太近藏，已聚爪合的于膜好由于与显匹影液过长朗时间的接万触，可能质被浸蚀而穴变得发毛忧，失去光搬泽．通常孕显出点控新制在显仅影段总长利度的40役％一60威％之内．显影后要嘱确保板面屠上无余胶捏，以保蛛证基体金忆属与电镀翠金属之间钳有良好的懒结合力。显影后详板面是酱否有余辜胶，肉横眼很难方看出，灭可用1怖％甲基掘紫酒精闭水溶液刘或l一2％机的硫化虾钠或盏硫化钾愤溶液检恼查，染想十甲基殖紫颜色登和浸入亏硫化物雷后没有尽颜色改评变说明换有余胶块．我廠衫使用CuCl2實驗來檢旱驗．5.4.脆1顯影工跪藝-顯影點修版包特括两方锐面，一舅是修补啊图像上思的缺陷成，一是掀除去与亲要求图起像无关吹的疵点以。上信述缺陷线产生的尝大体原必因是：洗干膜本叫身有颗尿粒或机胖械杂质废；基板气表面粗虏糙或凹叉凸不平墨；操围作工艺创不当如套板面污肌物及贴燃膜小皱场折；照掉相底版才及真空佳框架不威清洁等潜。为减英少修版拨量，应昏特别放注意上循述问题电。修版钉时应注卫意戴细但纱手套垫，以防段手汗污框染板面虚。修版液秧可用虫妇胶、沥弟青、耐湖酸油墨精等。我芬廠使用组為耐酸甜油墨.虫胶修版智液配方如泻下：虫胶100～药150g／1甲基紫1～2g／1用无水乙劫醇配制。5.5修版六、常見震故障及排曲除方法在使用她干膜进翁行图像费转移时副，由于导干膜本徐身的缺悔陷或操档作工艺翁不当，坑可能会蠢出现各促种质量怕问题纯。下面炎列举在择生产过巡寿程中可太能产生邀的故障束，并分金析原因禽，提出门排除故逝障的方依法