氧化实验提案

氧化实验提案第一页，共十二页，2022年，8月28日已完成氧化实验O-ICRF实验10~40kW纯O2，1:1He:O2,4:1He:O2

-2Pa；O-GDC实验:纯O2，1:1He:O2,4:1He:O2

0.5---1.5Pa；O-baking实验动态1.2X10-2Pa；静态：0.7,1.1,9.3,32Pa。第二页，共十二页，2022年，8月28日主要结论O-GDC比O-ICRF效果好；气压越高，清除效果越好；ICR功率越高、清除效果越好；比较而言，O-Baking效果不明显；He在氧化过程中，有利于降低氧在器壁的滞留；He-ICRF和He-GDC对氧的清除都有效果，其对氧的清除率受到器壁中氧的滞留量的影响；氧化后，等离子体可以在几十次破例放电后恢复，其恢复进程受到器壁中氧的滞留量的影响。第三页，共十二页，2022年，8月28日问题目前实验获得的再沉积层清除率同ITER所需要的仍然有差距，需要提高实验功率和气压；O-ICRF对缝隙中再沉积层是否有清除效果？O-ICRF对金属（不锈刚）有哪些影响？D2-ICRF对氧的清洗效果？如何快速完全恢复等离子体？如何判断D基本上被清除干净?第四页，共十二页，2022年，8月28日等离子体恢复特点：Ha下降很多----复合氧化实验的基本目的；C、O及Zeff上升较大；H/（H+D）上升，是缺点吗？已经获得等离子体：电子温度同氧化前一致；电流和密度达到氧化前水平；密度可控；无破裂；C、O及Zeff（或者它们对密度归一化后）下降并接近氧化前水平；本轮实验目标：C、O及Zeff（或者它们对密度归一化后）降低到氧化前水平，完全恢复等离子体。第五页，共十二页，2022年，8月28日需要补充实验实验高气压、高功率He-ICRF清洗；实验高气压、高功率的O-ICRF对再沉积层清除和氢的释放；实验O-ICRF对缝隙中再沉积层的影响；实验O-ICRF对金属材料（不锈刚）表面的影响；争取达到完全意义上的等离子体恢复；在器壁被氧严重污染的情况下，比较He-ICRF和D2-ICRF对氧的清除。

判断D基本上被清除干净(实验结束后进行,采用纯氧连续长时间O-GDC)第六页，共十二页，2022年，8月28日实验步骤在氧化实验前，实验He-ICRF在高气压和高功率下的清洗，解决技术性问题；在高气压He/O气体中,加入功率ICRF波，进行氧化实验；在氧化前通过样品架，送入设计的类似缝隙的带再沉积层的样品；在样品上设计不绣钢样品，以研究氧化对金属材料的影响；在氧化实验后分别采用相同参数下（常规参数）He-ICRF和D2-ICRF清洗，以比较他们对清除氧的能力；同一参数下，争取达到完全意义上的等离子体恢复.主要问题是:高功率,高气压下,ICRF系统能否有效工作?如果不能工作,转入长时间,20kW,0.05PaO-ICRF,判断H释放下降过程.

第七页，共十二页，2022年，8月28日O-ICRF实验步骤壁温加温410~470K：提前六个小时样品准备标准等离子体He-ICRF清洗：气压：0.1Pa,0.5Pa功率：40,60kW每组时间10分钟,抽气5分钟,总计40~60分钟。放入样品O-ICRF实验气压：0.1Pa,0.5Pa功率：40,60kW每组时间10分钟,抽气5分钟,总计40~60分钟。样品退出He-ICRF清洗：30分钟，0.05Pa，20kWD2-ICRF清洗：30分钟，0.05Pa，20kW等离子体恢复

第八页，共十二页，2022年，8月28日数据采集

限制器和内衬温度连续采集（加温前一小时到实验完全结束）差分质谱连续采集（氧化实验和清洗、硼化期间）原位质谱（加温前一小时到清洗前，硼化后到实验结束）压强（内真空室、差分系统）气体流量（氧化期间）等离子体运行期间：所有常规诊断特别是Ne,Te,Zeff,Ha,H/(H+D),CIII,OII,OV等

第九页，共十二页，2022年，8月28日标准欧姆等离子体氧化实验前标准欧姆等离子体：电流：100,150,200kA；密度：1，1.5,2X1019/cm3。实验结束后,恢复等离子体。

第十页，共十二页，2022年，8月28日判断D基本上被清除干净实验结束后进行,采用纯氧,恒定气压,