标准解读
《YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材》是一项针对用于制造电子薄膜的高纯度钛溅射靶材的技术标准。该标准详细规定了此类材料的技术要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、运输和贮存等方面的内容。
在技术要求方面,明确了靶材的化学成分、物理性能等关键指标。对于化学成分,主要关注的是杂质元素的最大允许含量,以保证钛材料具有足够的纯度;而物理性能则包括密度、硬度等参数,这些都直接影响到最终电子薄膜的质量与性能。此外,还对靶材的外观质量提出了具体要求,比如表面应无裂纹、气孔等缺陷,确保其能够满足后续加工工艺的需求。
试验方法部分,则提供了测定上述各项性能指标的具体操作步骤和技术手段。例如,通过电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)来检测化学成分;采用阿基米德原理测量体积并计算出密度值等。
检验规则中,则定义了产品出厂前必须进行的各项检查项目及其合格判定准则,并且说明了当出现争议时如何处理的方法。同时,也指出了型式检验与常规检验之间的区别及适用场合。
最后,在包装、标志、运输和贮存章节里,给出了关于如何妥善保护产品免受损坏的具体指导,比如使用何种材料进行包装,标签上需要包含哪些信息,以及在不同条件下存储时应注意的安全事项等。
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....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2013-10-17 颁布
- 2014-03-01 实施
文档简介
ICS7715050
H64..
中华人民共和国有色金属行业标准
YS/T893—2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
High-puritysputteringtitaniumtargetusedinelectronicfilm
2013-10-17发布2014-03-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
YS/T893—2013
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由全国有色金属标准化技术委员归口
(SAC/TC243)。
本标准起草单位有研亿金新材料股份有限公司宁波江丰电子材料有限公司
:、。
本标准主要起草人何金江董亭义袁海军罗俊锋滕海涛喻洁贺昕钱红兵周辰刘丹
:、、、、、、、、、、
陆灵芝王学泽熊晓东
、、。
Ⅰ
YS/T893—2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
1范围
本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求试验方法检验规则和标志包装运输贮存及
、、、、、
质量证明与合同订单等内容
()。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材
。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
产品几何技术规范表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值
GB/T1031(GPS)
海绵钛钛及钛合金化学分析方法氧量氮量的测定
GB/T4698.7、、
海绵钛钛及钛合金化学分析方法碳量的测定
GB/T4698.14、
海绵钛钛及钛合金化学分析方法氢量的测定
GB/T4698.15、
金属平均晶粒度测定方法
GB/T6394
变形金属超声检验方法
GJB1580A
溅射靶材背板结合质量超声波检验方法
YS/T837-
高纯钛化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法
YS/T891
高纯钛化学分析方法痕量杂质元素的测定电感耦合等离子体质谱法
YS/T892
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件
。
31
.
靶材target
在溅射沉积技术中的阴极部分该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子原子或离子的形
。、
式脱离阴极而在阳极表面沉积
。
32
.
靶坯targetblank
阴极上用作溅射材料的部分
。
33
.
背板backingplate
用来支撑或固定靶材的部分靶坯与背板可以通过焊接如钎焊扩散焊等机械复合粘接等方
。(、)、、
式连接
。
4要求
41产品分类
.
411产品按照结构形式分为单体和复合两种
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