标准解读

《YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶》是中国有色金属行业标准之一，该标准详细规定了用于光学薄膜制备过程中作为平面磁控溅射源的铌靶的技术要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、运输和贮存等内容。

根据此标准，铌靶按照纯度分为Nb-0级（纯度≥99.95%）与Nb-1级（纯度≥99.9%），并明确了不同级别铌靶的具体化学成分要求。此外，还对铌靶的外观质量提出了具体要求，如表面应光滑无裂纹、气孔等缺陷；尺寸偏差也有明确规定，包括直径、厚度及平面度等参数需符合特定范围内的限制值。

在物理性能方面，该标准对密度、电阻率等关键指标设定了相应的限值，并给出了测试这些性能的方法。同时，对于如何进行取样、检测样品准备以及具体的分析测试步骤也做了详细的描述，确保了测试结果的一致性和可靠性。

关于验收规则，《YS/T 718-2009》规定了每批产品出厂前必须经过严格的质量检查，只有当所有项目均达到标准要求时才能被认定为合格品。如果初次检验不合格，则允许从同一批次中抽取双倍数量的样品进行复检，最终判定依据以复检结果为准。

最后，在包装、标识、运输和储存方面，本标准提供了指导原则，旨在保证铌靶在整个供应链过程中的安全性和完整性。例如，推荐使用防潮、防震材料进行包装，并清晰地标明产品的相关信息如规格型号、生产日期等；运输时应注意避免剧烈碰撞；存放条件则建议保持干燥通风环境，远离腐蚀性物质。


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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2009-12-04 颁布
  • 2010-06-01 实施
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文档简介

犐犆犛７７．１５０．９９

犎６３

中华人民共和国有色金属行业标准

犢犛／犜７１８—２００９

平面磁控溅射靶材

光学薄膜用铌靶

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２００９１２０４发布２０１００６０１实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

书

犢犛／犜７１８—２００９

前言

本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。

本标准起草单位：利达光电股份有限公司。

本标准主要起草人：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。

Ⅰ

书

犢犛／犜７１８—２００９

平面磁控溅射靶材

光学薄膜用铌靶

１范围

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存

及订货单（或合同）内容。

本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。

２规范性引用文件

下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有

的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究

是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。

ＧＢ／Ｔ２０４０铜及铜合金板材

ＧＢ／Ｔ３６３０铌板材、带材和箔材

ＧＢ／Ｔ５１２１（所有部分）铜及铜合金化学分析方法

ＧＢ／Ｔ５２３１加工铜及铜合金化学成分和产品形状

ＧＢ／Ｔ６３９４金属平均晶粒度测定方法

ＧＢ／Ｔ１５０７６（所有部分）钽铌化学分析方法

３术语和定义

下列术语和定义适用于本标准。

搭接率犅狅狀犱犻狀犵犘犲狉犮犲狀狋犪犵犲

铌板与背板之间的实际接合面积占应接合面积的百分比。

４要求

４．１材质

背板（铜板）和铌板。

４．２化学成分

铌板的牌号及其化学成分应符合ＧＢ／Ｔ３６３０的规定；铜板的牌号及其化学成分应符合ＧＢ／Ｔ５２３１

的规定。

４．３靶材的尺寸及允许偏差

靶材的尺寸及允许偏差由供需双方协商。

４．４表面状况

靶材表面粗糙度及平面度由供需双方协商。

４．５外观质量

铌板和

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