标准解读
《YS/T 370-2006 贵金属及其合金的金相试样制备方法》是一项针对贵金属(如金、银、铂等)及其合金材料进行金相分析时所需试样的准备过程所制定的标准。该标准详细规定了从取样到最终得到可用于显微镜观察或进一步测试的试样的整个流程。
首先,标准对适用范围进行了明确界定,适用于研究贵金属及它们与其它金属形成的合金组织结构特征。接着,对于如何正确选取代表性样品进行了说明,强调选择时应考虑到材料的不同部分可能存在的差异性,以确保分析结果能够全面反映材料特性。
在试样制备的具体步骤方面,《YS/T 370-2006》涵盖了切割、镶嵌、研磨、抛光等一系列操作,并且对每一步骤的操作条件和使用工具给出了具体指导。例如,在切割过程中推荐使用低速锯床以减少热损伤;对于较软或者易碎的贵金属合金,则建议通过镶嵌来增加其强度便于后续处理。
此外,还特别提到了电解抛光技术的应用,指出这种方法可以有效地去除表面变形层,使试样表面更加光滑平整,有利于提高微观结构观察的质量。同时,也介绍了化学腐蚀剂的选择原则及其应用方法,用于揭示不同类型的微观组织结构。
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- 被代替
- 已被新标准代替
- 2006-05-25 颁布
- 2006-12-01 实施
文档简介
ICS77.040.30Y5H15中华人民共和国有色金属行业标准YS/T370-2006代替YS/T370-1994贵金属及其合金的金相试样制备方法Preciousmetalsandalloys-Preparationmethodformetallographicsamples2006-05-25发布2006-12-01实施中华人民共和国国家发展和改革委员会发布
中华人民共和国有色金属行业标准贵金属及其合金的金相试样制备方法YS/T370-2006中国标准出版社出版发行北京西城区复兴门外三里河北街16号邮政编码:100045电话:01051299090.685220062006年9月第一版书号:1550662-17134版权专有侵权必究举报电话:(010)68522006
YS/T370—2006本标准是对YS/T370—1994《贵金属及其合金的金相试样制备方法》的修订本标准与YS/T370—1994相比,主要有如下变动:-增加了电解浸蚀液和化学浸蚀剂的适用性.以常用浸蚀剂为先后顺序排列;-改变了原标准的浸蚀剂排列顺序;补补充浸蚀剂的配制安全操作注意事项。本标准自实施之日起,同时代替YS/T370—1994本标准的附录A、附录B为规范性附录。本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。本标准由贵研铂业股份有限公司负责起草。本标准主要起草人:蔡云卓。本标准由全国有色金属标准化技术委员会负责解释本标准所代替标准的历次版本发布情况为:YB935—78;YS/T370-1994。
YS/T370—2006贵金属及其合金的金相试样制备方法范围本标准规定了贵金属及其合金的金相试样制备方法本标准适用于贵金属及其合金的金相试样的制备,试样的截取2.1传铸键:应在键头、键尾取样,或截取垂直于模壁的横断面。2.2热加工和冷加工金属:应同时截取横截面或纵截面。2.3丝材、带材:应分别在两端取样。试样的镶嵌镶嵌料选择3.1.1镶嵌料与试样镶嵌必须结合紧固,它们之间不许有缝隙3.1.2镶嵌料必须耐强酸、强碱的腐蚀。采用电解抛光或电解浸蚀的试样,镶嵌料必须为非导电物质且易和导线镶接。3.1.3采用化学浸蚀、电解浸蚀或电解抛光的试样,都不宜采用低熔点合金作镶嵌物3.2试样的镶嵌方法3.2.1热镶法:采用热塑性塑料或热凝性塑料.如聚氯乙烯。将塑料注入置有金相试样的钢模中.然后置入镶嵌机上加热加压,冷却,脱模。3.2.2冷镶法:不能受热、受压的金相试样,采用冷镶法。如采用环氧树脂.浇注至有金属试样的模子中室温冷凝脱模。3.3细丝、箱的镶嵌方法:可将细丝绕在长方形表面平整的骨架上(如塑料上).然后进行镶嵌。若需对丝材进行横截面分析时,可将丝材压人两片有机玻璃中.用氯仿胶合或者将丝材对穿于一空心纸筒中,浣以环氧树脂.待凝固后.用手锯横截。箱材取样.必须剪取表面平整部位.然后进行镶嵌,镶嵌应保持磨面平整3.4电解抛光或电解浸蚀的小试样.还必须镶接导线,可在镶嵌试样的塑料板反面,钻一小孔,将导线插入小孔使之与试样接触良好,用电烙铁热封牢固。镶嵌细丝试祥,可将细丝从边缘引出作为导线。试样的磨制与抛光4.1试样的磨光:根据情况顺序选用220#、320#、400#、600#等金刚砂砂纸磨平.每更换一道砂纸时,试样应用水冲洗干净,同时将试样原来磨制的方向改变90°。切忌前后顺序使用的两种砂纸的粒度相差太大。除手工磨制外,可采用机械磨光,手工磨光所订的规则,同时适用于机械磨光操作。4.2试样的抛光:经砂纸磨制后的金相试样,应进行抛光。4.2.1机械抛光:细磨以后的金相试样,经水冲洗,可置于覆有抛光丝绒的抛光盘上进行机械抛光.抛光磨料可采用金刚石抛光膏.也可采用氧化铬粉、氧化铝粉或者氧化镁粉.分级多次抛光。抛光贵金属试样,转速不宜超过1500r/min.4.2.2电解抛光:一些借助于机械抛光难于获得满意结果的软金属(如纯金、纯银、纯铂)可采用电
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