标准解读
《YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法》是一项国家标准,专门用于规定磁性溅射靶材的透磁率测量方法。该标准适用于各类磁性材料制成的溅射靶材,包括但不限于铁、镍、钴及其合金等。
根据此标准,测试前需要准备的仪器设备主要有:霍尔效应高斯计或特斯拉计(用于磁场强度的测定)、直流电源(为电磁铁提供稳定电流)、以及能够精确调节并保持恒定温度的环境箱(确保测试过程中温度变化对结果的影响降到最低)。此外,还需要一个可以放置样品且不会干扰磁场分布的非磁性支架。
在进行正式测试之前,应对所有使用的设备进行校准,并保证测试环境符合要求。具体来说,应该在无外界强磁场干扰、温度波动小的空间内开展实验。样品准备阶段,需将待测靶材切割成合适大小和形状的试样,同时确保表面光滑平整,避免因物理缺陷影响到最终的数据准确性。
测试流程主要包括以下几个步骤:
- 将经过处理的试样固定于非磁性支架上;
- 使用霍尔效应高斯计或其他合适的工具测量背景磁场强度;
- 开启电磁铁产生已知强度的均匀磁场,并再次利用高斯计确认实际作用于样品上的磁场值;
- 记录下此时通过试样的磁场强度与未加试样时相比的变化情况;
- 根据公式计算出试样的相对透磁率。
在整个过程中,需要注意的是,每次改变磁场强度后都应重新调整高斯计的位置以保证其始终位于最大场强点;同时,在不同温度条件下重复上述操作,可以获得更加全面准确的结果。
本标准还提供了关于数据处理的具体指导原则,包括如何消除边缘效应带来的误差、怎样选择合适的数学模型来拟合曲线等,旨在提高测量精度与可靠性。
如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。
....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2016-07-11 颁布
- 2017-01-01 实施



文档简介
ICS77.120.99
H21
中华人民共和国有色金属行业标准
YST1124—2016
磁性溅射靶材透磁率测试方法
Testingmethodonpassthroughfluxofmagneticsputteringtarget
2016-07-11发布2017-01-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
YST1124—2016
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口
(SAC/TC243)。
本标准起草单位有研亿金新材料有限公司有色金属技术经济研究院
:、。
本标准主要起草人罗俊锋万小勇向磊丁照崇李勇军何金江徐国进夏乾坤刘晓王越
:、、、、、、、、、。
Ⅰ
YST1124—2016
磁性溅射靶材透磁率测试方法
1范围
本标准规定了磁控溅射用磁性靶材透磁率的术语和定义检测设备检验过程及结果计算等内容
、、。
本标准适用于溅射薄膜用各类磁性靶材透磁率的检验
。
2术语和定义
下列术语和定义适用于本标准
。
2.1
透磁率passthroughflux
PTF
直流磁场从磁性靶材一面透过另一面的比率也称磁透率
,。
2.2
源磁场sourcefield
使用霍尔探头高斯计测量的贴近载物台上表面的磁场为直流磁场单位为
,,Gs。
2.3
参考磁场referencefield
载物台预置靶材的上表面位置的磁场其强度取决于霍尔探头到源磁体的距离
,。
2.4
测量磁场measuringfield
溅射靶材置于载物台后靶材的上表面位置的磁场
。
3检测设备
透磁率检测设备主要包括源磁体载物台高斯计和霍尔探头等设备放置在无铁磁性材料或外部
、、,
强磁场干扰的环境中示意图如图所示
。1。
3.1源磁体
源磁体为马蹄形永磁铁固定到载物台的下方并保持稳定源磁体两极平行于载物台表面调整
,,。。
源磁体距离载物台的位置使霍尔探头高斯计测得的源磁场强度为
,825Gs±50Gs。
3.2高斯计
高斯计是透磁率检测的核心设备附带有横向场霍尔探头高斯计直流磁场测量范围为
(PTF),。0~
精确度为霍尔探头在源磁体两极正中位置如图所示霍尔探头位于样品上方
3500Gs,±2%。,1a)。,
仅能通过调节支架上下移动并与磁铁在水平位置相对固定
。
3.3载物台
载物台作为靶材的承载平台存在于透磁率检测设备中位于源磁体与霍尔探头之间载物台装配有
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