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薄膜光学——蒸发工艺简介APS1104德国Leybold中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介APS1104真空室内情况中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介镜片悬挂机构中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介改进蒸发工艺、改善膜层的微观结构基本的思路：附加一定的能量到被镀的表面上去，利用这些能量移开弱束缚的粒子，使达到基板的材料粒子有高的迁移率。由于附加了能量，膜料粒子可以穿透比较远的距离，去找到一个有比较强束缚的位置。从而使膜层的结构得到改善。具体实施办法：在膜层沉积的同时，利用电子、光子、离子将能量附加到基底上去，这不仅有利于清洁被镀表面，也增加了膜层的致密度。

近十几年的趋势是利用荷能的离子完成基片清洁和改善膜层结构的任务近20年来围绕电子束蒸发出现的三种先进蒸发工艺离子辅助反应离子镀等离子体增强离子辅助薄膜光学——蒸发工艺简介中国科学院长春光学精密机械与物理研究所离子辅助IADIAD技术是在电子束蒸发的同时用离子束轰击，离子由离子源产生，离子束由栅极引出，电子枪和离子源各自独立工作。膜层在离子的轰击作用下获得能量，使结构得到改善。薄膜光学——蒸发工艺简介中国科学院长春光学精密机械与物理研究所离子体增强的离子辅助技术等离子源采用热阴极、筒状阳极及轴向发散形磁场，在辅助沉积过程中，放电气体(Ar气)进入APS源，放电产生的等离子体在交叉电磁场的作用下被拔出APS，并在电磁场作用下漂向基板，放电气体形成的等离子体形成一个园维体充满基板下的空间。这时充入反应气体(O2等)，等离子体电离并激活反应气体及从电子枪蒸发出的材料分子，并在基板上得到符合化学计量比的电介质薄膜。薄膜光学——蒸发工艺简介中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介控制系统时间颜色光学控制石英晶体震荡控制中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介光学膜厚监控系统中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学——蒸发工艺简介辅助系统加温温度测量与控制充气真空度测量与压强控制工件架公、自转，均匀性调整离子轰击直流与射频比较片架透射、反射、内反射中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光

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