镀膜学习总结演示文稿

镀膜学习总结演示文稿第一页，共二十四页。镀膜生产流程介绍上片台：严格注意玻璃面朝上放置，经过验证膜层与玻璃面的结合更好，不易出现问题清洗机：根据玻璃厚度的不同调整毛刷的高度，保证清洗干净的同时不伤害玻璃表面净化室：主要目的是观察玻璃的清洗及干燥结果，保证进入溅射室的玻璃干净和干燥第二页，共二十四页。过渡室和缓冲室：主要作用是由过渡室到溅射室真空度是逐步减小的，目的是为了保证溅射室的真空度（过渡室真空度10－2mbar，缓冲室真空度10－4mbar）溅射室：真空磁控溅射过程，该溅射室共分为五个室缓冲室和过渡室：作用和玻璃进入溅射室相同，主要是为了保证溅射室的真空度检测室：所用仪器为在线分光光度计，主要是在线检测产品的重要参数，包括a*、b*、ΔE和Y喷粉机：对于一些不重要的订单或者是膜面不易被氧化的产品选择对膜面喷粉，主要是保护膜面不被划伤贴膜：对于一些重要的订单或者是容易氧化的产品进行贴膜，保护膜面不被氧化和划伤下片台：在调试完样品进行生产的过程中主要是对样品进行抽检，主要是看膜面的状态，还有就是经过酒精擦拭后膜面的状态和经过钢化后膜面的状态。第三页，共二十四页。磁控溅射过程第四页，共二十四页。玻璃在高真空的环境下，通入适量的工艺气体（惰性气体Ar或反应气体O2、N2）并保持真空度稳定，以磁控靶为阴极，加上交流电源（旋转靶）或直流电（非旋转靶），在高电压作用下，工艺气体发生电离，形成等离子体，电子在电场和磁场作用下，进行高速螺旋运动，碰撞气体分子，产生更多的正离子和电子，正离子达到一定能量后撞击阴极靶材，被溅射出的靶材沉积在玻璃基片上形成薄膜第五页，共二十四页。银靶NiCr靶溅射室ZnAl靶第六页，共二十四页。第七页，共二十四页。第八页，共二十四页。第九页，共二十四页。产品容易出现的问题SSC和STN容易出现的问题脱膜划伤毛刷印Low－e容易出现的问题脱模小白点划伤毛刷印水迹第十页，共二十四页。磁控脱膜的原因分析原片因素原片存放因素

玻璃表面越新鲜，表面活性越大，与膜层的结合力越强，反之则差。使用存放期过长的玻璃，由于玻璃表面霉变和附着的污物会大量增加，而且附着力很强，清洗环节很难清除掉，这就造成膜层与基片的结合力大大降低，从而导致脱膜。一般要求玻璃原片存放期不超过一个月，淋雨的玻璃不要用。片切割因素

保证无油切割，若不能无油切割，应在正式清洗前用稀盐酸或阴离子去垢剂进行预清洗，目前我们单位还不能保证无油切割保证放片时玻璃面朝上放置水质因素水处理设备

在玻璃清洗时应用去离子水，去离子水纯度应控制在电阻率10M欧姆以上，否则会因水质不纯导致原片清洗不净而脱膜。

第十一页，共二十四页。管道和水箱的杂质

连接水处理设备和清洗机水箱的管道应定期吹扫清洗。因为管道中若残留不流动的水时间久了，会滋生细菌、藻类，在使用时会带到水箱里，使清洗水本身旅游活动过关，造成镀膜不牢。清洗机清洗刷

清洗刷使用一段时间后，上面会残留一些污物，包括油污、絮状物、灰尘等，若不能有效地进行清洗，也会带来污染，造成脱膜风机

风压大小，风刀角度调整的好坏将影响到原片能否吹干，若吹不干，镀膜后，肯定脱膜，必须保证进入真空室的玻璃干燥4.真空度

真空度必须达到一定标准方可镀膜，否则，会因气体中残留杂质气体，导致膜层成分不纯，结合力不强，一般应控制在10-3mbar。第十二页，共二十四页。工艺气体、靶材若使用纯度不高的工艺气体或靶材，会使膜层中杂质成分偏高，产生大面积针孔，进而导致脱膜包装、储存环节

镀膜玻璃应储存在干燥、通风的环境中。潮湿的环境易引起镀膜玻璃发霉，膜层脱落，Low－e玻璃包装要求：农膜＋干燥剂，同时要求切、磨及钢化在8h之内完成，钢化后8h要包装好，72h内要合成中空使用环境镀漠玻璃并不是任何环境下都可使用，它的使用是有条件的。在污染的环境中慎用，否则，会使镀膜玻璃的寿命大打折扣。如：用在浴池的镀膜玻璃会因长期处于热的环境中，使膜层的附着力大大降低；而用在厨房的镀膜玻璃，则会因厨房产生的酸性气体与膜层发生反应，导致脱膜。第十三页，共二十四页。常规试验为了保证产品的质量做的一些常规试验：酒精擦拭试验色差洗刷试验耐酸碱试验气候循环试验尾气试验海水浸泡试验耐水泥浆试验第十四页，共二十四页。膜层底层介质膜：用来提高银与玻璃表面的附着力，同时兼顾调节膜系光学性能和颜色的作用。决定银层的增长情况用于降低银层的反射率阻挡钠在钢化过程中从玻璃扩散到膜层中第十五页，共二十四页。保护层：保护银层免受沉积过程中等离子体的破坏保护银层免受钢化过程中氧气和其它污染物的侵袭通过影响银层与顶层电介质层之间的附着力来改善膜层的耐磨性功能膜：控制整个膜系的表面电阻，决定膜系的辐射率，并直接影响膜系的透射比和反射比，由于银质软，不耐磨，因此银层两侧需加保护层外层介质膜：决定膜系的耐刮伤性、耐磨性和耐化学侵袭性在可见光和近红外太阳能光谱中减反射作用第十六页，共二十四页。常用单层膜及其作用Si3N4膜：在所有材料中，它的耐酸/碱性最好最好的扩散层，通常用于半导体行业与镀有镍铬的银层之间有足够的附着力抗划伤性最好可直接镀于玻璃面上作钠离子阻挡层缺点：与银层的亲和性非常差NiCr膜：使银层和Si3N4层之间具有良好的附着力可作钠离子的阻挡层，是银层很好的保护层缺点：吸收性太强第十七页，共二十四页。TiO2膜：1、具有足够的耐酸/碱性2、能够用作扩散层3、与镀有钛阻挡层的银层之间有良好的附着力4、高折光指数意味着因刮擦而引起的膜层厚度微小变化会显示较大的光学影响（不太适宜做顶层电介质层）5、具有好的折射率，能改善透光率（适宜做底层电介质层）ZnO膜：是银膜的种子膜层。这是由于ZnO膜具有光滑的特性，能使上面的银膜更均匀，提高银膜的性能，增强膜系的透过率与辐射率。缺点：抗酸/碱能力有限由于增长结构的原因，材料容易扩散抗刮伤能力有限第十八页，共二十四页。膜系举例SDT11－74（T）：玻璃//Si//ZnAl//Ag//NiCr//ZAO//Si//Si//ZAO////Ag//NiCr//ZAO//Si//SiSEE11-50（T）玻璃//Ti//NiCr//Ag//NiCr//Si//Si//Si3.可钢双银低辐射镀膜玻璃膜系设计如下：玻璃//Si3N4//TiO2//NiCr//ZnO//Ag//NiCr//TiO2//ZnO//Ag//NiCr//TiO2//Si3N4第十九页，共二十四页。镀膜产品镀膜产品代号编制规则第二十页，共二十四页。玻璃的厚度本公司代号，用S表示表示Low－e的品种，用E、D、S分别表示单银、双银和遮阳型（注：SSC和STN为热反射）表示膜系代码表示基片种类：0表示超白、1表示白玻、2表示绿玻、3表示灰玻、4表示茶玻、5表示蓝玻表示基片原产地：1表示广南、2表示深南、3表示昆山、4表示信义只有当基片是色玻时才使用：F表示F绿、H表示H绿、E表示欧洲灰、B表示蓝星灰、C表示水晶灰、K表示浅蓝、T表示福特蓝、S表示海洋蓝表示6mm广南白玻单片LOW-E玻璃的可见光透过率表示是否可钢化，如有(T)有为可钢，无为不可钢例如：8SEA12-70（T）由SGT生产的A膜系以8mm深南白玻为基片的可钢单银LOW-E玻璃，当以6mm白玻为基片时其钢化后的可见光透过率为70%8SSN24F-50由SGT生产的N膜系以8mm信义F绿玻为基片的不可钢遮阳型LOW-E(单银)玻璃，当以6mm白玻为基片时其可见光透过率为50%第二十一页，共二十四页。成熟产品介绍单银Low－e系列：SSNI代、SSNII代、SSP、SEE双银Low－e系列SDT热反射系列SSC、STNSSNI代与SSNII代在参数上没有什么差别，主要是在颜色上有区别SSP称为高性能玻璃，主要体现在相关参数上包括可见光反射率、SC和g值上，SSP较SSN系列均较小，40T和50T比较明显SEE高透型，目前主要有SEE1－83T和SEE－86T，可见光透过率在76左右，SC在0.7左右U值在1.7左右，应用在北方比较好SDT双银相对于单银，有更低的SC和U值目前生产的Low－e还不能均质化处理SSC和STN主要区别是在颜色上，参数差别不是很大，目前生产的热反射玻璃均是可钢的，热反射玻璃可以均质化处理，均质化处理后玻璃颜色和参数会有微小变化，但是可以忽略不计第二十二页，共二十四页。根据低辐射镀膜玻璃的性能特点可分为：高透型Low-e玻璃（SC≥0.5，以采暖为主的北方适用，我们单位生产的SSN1/0-70T、SEE-83T/86T）相关特点：具有较高的可见光透过率具有较高的太阳能透过率，冬季太阳热辐射透过玻璃进入室内增加室内的热能具有极高的中远红外反射率，优良的隔热性能，较低U值。遮阳型Low-e玻璃（SC＜0.5，以空调制冷的南方适用，本单位生产的其它Low-e均为遮阳型）相关特点：具有适宜的可见光透过率和较低的遮阳系数，