标准解读

《GB/T 34326-2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法》是一项国家标准,旨在规范使用增强型二次离子质谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)技术进行材料表面及近表面区域成分分析过程中涉及的离子束对准以及束流或束流密度测量的具体操作流程。该标准适用于需要通过溅射去除材料表层来获取不同深度信息的研究与工业应用场合。

标准详细描述了如何正确设置实验条件以确保获得准确可靠的分析结果。对于离子束对准部分,它提供了包括但不限于调整入射角度、选择合适的靶材位置等指导原则,这些都是为了保证离子能够均匀地轰击样品表面,从而避免由于局部过度侵蚀而导致的数据失真问题。此外,还特别强调了在实际操作前应当根据所用设备的特点进行适当的校准工作。

针对束流或束流密度测量方面,《GB/T 34326-2017》规定了几种常用的测定方法,并指出了每种方法适用的情况及其局限性。例如,直接法适用于那些可以直接读取电流值的仪器;而对于无法直接测量电流的情形,则推荐采用间接法,如利用已知灵敏度的标准样品来进行相对比较。同时,该文件也提到了一些影响测量精度的因素,比如环境温度变化可能引起读数波动等问题,并给出了相应的解决方案建议。

此外,本标准还涵盖了数据处理的相关内容,介绍了如何从原始信号中提取有用信息的方法,以及如何评估实验误差并报告最终结果的方式。通过遵循这些指南,研究人员可以更加有效地利用AES和XPS技术开展科学研究或质量控制活动。


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....

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  • 现行
  • 正在执行有效
  • 2017-09-29 颁布
  • 2018-08-01 实施
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GB/T 34326-2017表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法_第1页
GB/T 34326-2017表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法_第2页
GB/T 34326-2017表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法_第3页
GB/T 34326-2017表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法_第4页
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文档简介

ICS7104040

G04..

中华人民共和国国家标准

GB/T34326—2017/ISO165312013

:

表面化学分析深度剖析AES和

XPS深度剖析时离子束对准方法及其

束流或束流密度测量方法

Surfacechemicalanalysis—Depthprofiling—Methodsforionbeam

alignmentandtheassociatedmeasurementofcurrentorcurrentdensity

fordepthprofilinginAESandXPS

(ISO16531:2013,IDT)

2017-09-29发布2018-08-01实施

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T34326—2017/ISO/165312013

:

目次

前言

…………………………Ⅲ

引言

…………………………Ⅳ

范围

1………………………1

规范性引用文件

2…………………………1

术语定义符号和缩略语

3、、………………1

系统要求

4…………………2

离子束对准方法

5…………………………3

何时进行离子束对准及其检查

6…………10

附录资料性附录离子束对准优劣情况下深度剖析谱图对比

A()AES……………11

附录资料性附录使用同轴电极杯对准

B()……………12

参考文献

……………………13

GB/T34326—2017/ISO/165312013

:

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准使用翻译法等同采用表面化学分析深度剖析和深度剖析

ISO16531:2013《AESXPS

时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法

》。

本标准由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口

(SAC/TC38)。

本标准起草单位中国计量科学研究院

:。

本标准主要起草人王海王梅玲张艾蕊宋小平

:、、、。

GB/T34326—2017/ISO/165312013

:

引言

俄歇电子能谱和射线光电子能谱用于表面化学分析时离子溅射常与它们广泛结

(AES)X(XPS),

合用于许多器件和材料的表面清洁及其层状结构的深度表征目前厚度小于的超薄膜在现代

。,10nm

器件中日益得到应用较低能量的离子在深度剖析中变得更加重要为了得到可重现的溅射速率和好

,。

的深度分辨率在最佳位置对准离子束非常重要随着要求越来越好的深度分辨率优化过程变得愈加

,。,

至关重要定期进行离子束对准通常不是必需的但当仪器参数发生改变时应该进行离子束对准例如

。,,

更换离子枪灯丝或烘烤仪器后在离子束对准过程中需停止溅射否则会影响样品台上的待分析样

。,,

品离子束对准涉及仪器的不同部件本标准描述了种方法用以保证大多数分析人员可使用其中

。。7,

的至少一种方法两种方法对于测量离子束流或束流密度也非常有用且在测量溅射产额和溅射速率

。,

的一致性时非常重要对于商业化仪器制造商会提供一种方法和设备用于对准离子束如果制造商

。,。

提供的方法合适本标准描述的方法或许不是必需的但它们能帮助确认制造商提供方法的有效性

,,。

文献描述了利用层状样品测量深度分辨率以及如何利用深度分辨率去监测深度剖析是否充

[1],

分正确优化或符合预期然而文献描述的方法从仪器设置经深度测量至深度分辨率评估非常

、。,[1]()

耗时为了保证离子束被正确对准本标准提供了更加快捷的方法它可用于文献描述方法的第一

。,,[1]

步或者更多的日常检查

GB/T34326—2017/ISO/165312013

:

表面化学分析深度剖析AES和

XPS深度剖析时离子束对准方法及其

束流或束流密度测量方法

1范围

本标准规定了在俄歇电子能谱和射线光电子能谱中使用惰性气体离子以保证溅射

(AES)X(XPS)

深度剖析具有好的深度分辨率以及最佳表面清洁效果而采取的离子束对准方法这些方法分为两类

。:

一类通过法拉第杯测量离子束流另一类通过成像方法法拉第杯方法也规定了离子束束流密度和束

,。

流分布的测量这些方法不包括深度分辨率的优化

。。

这些方法均适用于束斑直径小于的离子枪

1mm。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

表面化学分析词汇第部分通用术语和谱学术语

ISO18115-11:(Surfacechemical

analysis—Vocabulary—Part1:Generaltermsandtermsusedinspectroscopy)

3术语定义符号和缩略语

、、

界定的术语和定义以及下列符号和缩略语适用于本文件

ISO18115-1。

A法拉第杯孔面积

(AreaofFaradaycupaperture)

A样品平面上离子束扫描面积

0(Areaofionbeamrasterinsampleplane)

A在离子束已知取向上的扫描面积

R(Rasterareaataknownorientationtotheionbeam)

B离子束宽化参数等于II之比I

,outer/inner(Ionbeambroadeningparameterequaltoratioouter/

I

inner)

束流

C(Current)

束流密度

CD(Currentdensity)

D样品上的离子剂量速率

'(Iondoserateatthesample)

F离子枪传递的离子流量速率

'(Ionfluenceratedeliveredbyiongun)

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