标准解读
《GB/T 32996-2016 表面化学分析 辉光放电发射光谱法分析金属氧化物膜》是一项国家标准,旨在规范使用辉光放电发射光谱技术对金属氧化物薄膜进行表面化学成分分析的方法。该标准适用于通过辉光放电发射光谱技术测定金属基底上形成的氧化层或涂层的元素组成及分布情况,特别是对于那些难以采用传统湿化学方法或其他物理手段直接获取信息的情况尤为适用。
在具体操作过程中,首先需要准备样品,确保其清洁无污染,并且尺寸和形状适合放入辉光放电发射光谱仪中;其次,在仪器设置方面,根据待测材料特性选择合适的激发条件(如功率、气体压力等),以获得最佳信号强度与分辨率;接着,利用校准曲线将实验数据转换为实际浓度值;最后,基于所收集到的信息对样品表面的化学性质做出评价。
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....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2016-10-13 颁布
- 2017-09-01 实施




文档简介
ICS7104040
G04..
中华人民共和国国家标准
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
表面化学分析辉光放电发射光谱法
分析金属氧化物膜
Surfacechemicalanalysis—Analysisofmetaloxidefilmsby
glow-dischargeopticalemissionspectrometry
(ISO/TS25138:2010,IDT)
2016-10-13发布2017-09-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布
中国国家标准化管理委员会
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
目次
前言
…………………………Ⅰ
范围
1………………………1
规范性引用文件
2…………………………1
原理
3………………………1
仪器
4………………………1
调节辉光放电谱仪系统设置
5……………3
样品处理
6…………………6
建立工作曲线
7……………7
测试样品的分析
8…………………………11
分析结果的表示
9…………………………12
精密度
10…………………13
实验报告
11………………13
附录规范性附录工作曲线常数的计算和深度剖析的定量评价
A()…………………14
附录资料性附录测定元素的建议谱线
B()……………22
附录资料性附录氧化物密度和相关量ρ的实例
C()0………………24
附录资料性附录金属氧化物膜实验室间试验报告
D()………………25
参考文献
……………………30
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准使用翻译法等同采用表面化学分析辉光放电发射光谱法分析金属
ISO/TS25138:2010《
氧化物膜
》。
与本标准中规范性引用的国际文件有一致性对应关系的我国文件如下
:
表面化学分析辉光放电发射光谱方法通则
———GB/T19502—2004(ISO14707:2000,IDT);
钢和铁化学成分测定用试样的取样与制样方法
———GB/T20066—2006(ISO14284:1996,
IDT)。
本标准由全国微束分析标准化技术委员会提出并归口
(SAC/TC38)。
本标准起草单位上海市计量测试技术研究院华东师范大学中国科学院化学研究所
:、、。
本标准主要起草人徐建郝萍张云艳刘芬吴立敏陈永康朱丽娜周莹
:、、、、、、、。
Ⅰ
GB/T32996—2016/ISO/TS251382010
:
表面化学分析辉光放电发射光谱法
分析金属氧化物膜
1范围
本标准规定了利用辉光放电发射光谱测定金属氧化物膜厚度单位面积质量和金属氧化物膜化学
、
组成的方法
。
本方法适用于测定金属上厚度为的氧化物膜氧化物的金属元素包括铁铬
1nm~10000nm,、、
镍铜钛硅钼锌镁锰和铝中的一种或多种其他可测元素还包括氧碳氮氢磷和硫
、、、、、、、。、、、、。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
钢和铁化学成分测定用试样的取样和制样方法
ISO14284(Steelandiron—Samplingand
preparationofsamplesforthedeterminationofchemicalcomposition)
表面化学分析辉光放电发射光谱方法通则
ISO14707[Surfacechemicalanalysis—Glowdischarge
opticalemissionspectrometry(GD-OES)—Introductiontouse]
表面化学分析辉光放电光发射光谱锌和或铝基金属镀层的分析
GB/T29559—2013/
(ISO16962:2005,IDT)
3原理
辉光放电发射光谱法的分析包括如下过程
:
在直流或射频辉光放电源装置中使金属氧化物表面产生阴极溅射
a),;
在辉光放电装置中分析物原子在等离子体中被激发
b),;
被测物原子特征谱线发射强度随时间变化的光谱测量深度剖析
c)();
通过工作曲线将深度剖析中强度随时间的变化转化为质量分数随溅射深度的变化定量化
d),()。
通过测量已知化学成分和溅射率的样品建立系统工作曲线
。
4仪器
41辉光放电发射光谱仪
.
411概述
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