2021年中国光刻胶行业发展现状及重点企业对比分析

2021年中国光刻胶行业发展现状及重点企业对比分析一、现状

光刻胶又称“光致抗蚀剂”，是光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。一定程度上来说，光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片性能越好。采用不同的光刻光线，对应地需要搭配不同的光刻胶。目前，根据不同的光波长，光刻胶大致可以分为G线、I线、KrF、ArF、EUV这几类。

近年来，随着半导体行业的蓬勃发展，尤其是下游晶圆厂产能扩建带来的的庞大需求，光刻胶市场需求保持了良好的增长态势。据TECHCET数据显示，2021年全球光刻胶市场规模约22亿美元，同比增涨7.84%。

国内光刻胶原料生产领域尚处于起步阶段，呈现出产品种类较少、生产规模较小的特征。2020年中国大陆光刻胶市场规模约84亿元，预计到2024年，中国大陆光刻胶市场规模将增长至140亿元以上，复合增长率约10%。

根据TECHCET统计，2020年ArF干式和浸没式光刻胶占据了48%的市场份额，KrF和G线/I线光刻胶分别占据34%和16%的市场份额。预计至2025年ArF干式及浸没式光刻胶仍然能占据45%的市场份额。

二、重点企业对比

伴随全球半导体产业东移，加上我国持续增长的下游需求和政策支持力度，越来越多的企业进入到了这个行业。其中，南大光电、晶瑞电材、彤程新材和上海新阳是我国最早规模量产光刻胶的为数不多的几家企业之一。

从南大光电、晶瑞电材、彤程新材和上海新阳光刻机产品看，晶瑞电材拥有最多的光刻胶产品，晶瑞电材拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品，ArF光刻胶的研发工作有序开展中，且具备1200吨/年光刻胶产能。从光刻机看彤程新材是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，且公司全部投产后，光刻胶产能达6000吨。

从营业情况看，2021年南大光电半导体材料营业收入为9.84亿元，较2020年增加了3.89亿元，同比增涨65.46%；2021年南大光电半导体材料营业成本为5.32亿元，同比增涨了58.08%。

2021年晶瑞电材光刻胶及配套材料营业收入为2.74亿元，较2020年增加了0.95亿元，同比增涨53.04%；2021年晶瑞电材光刻胶及配套材料营业成本为1.55亿元，较2020年增加了0.79亿元。

2021年彤程新材电子材料业营业收入为1.4亿元，较2020年减少了0.38亿元；2021年彤程新材电子材料业营业成本为1.04亿元，较2020年减少了0.35亿元。

2021年上海新阳半导体行业营业收入为5.02亿元，较2020年增加了1.75亿元，同比增涨53.65%；2021年上海新阳半导体行业营业成本为2.75亿元，较2020年增加了0.88亿元，同比增涨47.42%。

从光刻胶相关毛利率看，国内半导体光刻胶厂商毛利率较高。南大光电、晶瑞电材和上海新阳光刻胶相关毛利率维持在40%以上，彤程新材光刻胶相关毛利率也在20%以上。

三、综合分析

由于光刻胶属于高技术产业，从产品技术分布看，晶瑞电材拥有：负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品。从产能看，彤程新材公司