防污防指纹镀膜制程设备简介ascoating课件

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抗污、抗指纹制程设备介绍Outline抗污/抗指紋膜層原理業界抗污/抗指紋製程比較常壓蒸鍍設備簡介保護玻璃AS鍍膜檢測範例週邊相關設備可提供的營業項目投資SWOT評估其他潛在市場膜層名稱定義：英文簡稱：AS：Anti-Smudge

AF：Anti-Finger

AFP：Anti-FingerPrint中文簡稱：抗污

抗指紋

易潔無論何種稱呼，該膜層的功能即是降低物體表面的表面能(如玻璃或金屬表面)，形成一種超疏水特性的膜層。抗污/抗指紋膜層原理於金屬表面coatingAS的效果比較改變物體表面能的兩種方法(二)加入氟官能基的機團至高分子鏈上，伴隨著烷基上氫原子被氟原子取代數目的增加，其表面能亦隨之下降。物質表面可構成最低表面能與最高水滴接觸角的材料，是以-CF3形成的六方最密堆積之分子薄膜，其接觸角可以達到120°，所有平坦表面結構的材料與水的接觸角不會超過120°，但是對於具有粗糙結構材料而言則不在此限，甚至可以大幅超越此一極限。化學結構改質法：一種PFPE的化學結構改變表面化學結構可以不破壞表面粗糙度各種材料表面能數據聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethene，英文縮寫簡稱為PTFE)PFPE是一種惰性的,熱穩定,無味道,無色的液體聚合物PTFE是一種惰性的,熱穩定,白色的固體聚合物PTFE-PolytetrafluoroethylenePFPE-Perfluoropolyether含氟聚合物抗污/抗指紋膜層成膜過程分子排列加入氟官能基的機團至高分子鏈上，伴隨著烷基上氫原子被氟原子取代數目的增加，其表面能亦隨之下降電漿前處理的目的與功效產生化學鍵結CondensationReaction提升耐磨耗能力表面清潔形成OH官能基羥基低表面能官能基：-CF3＜-CF2H＜-CF2-＜-CH3＜-CH2-，其中-CF3官能基(6.7mJ/m2)將會形成六方最密堆積，這將會提供材料具有低表面能的性質。因此，一般含氟的高分子具有優越的疏水特性，只是這些含氟高分子與基材之間的凡得瓦爾力很微弱，將會造成與基材的附著力不佳而無法直接塗佈於基材上。

採用常壓蒸鍍設備鍍膜流程CoverGlassOH|OH|OH|plasma世界最小型的抗指紋蒸鍍設備、佔地小、產能高。專利設計、單面蒸著、操作簡單、膜層品質佳。與連續式生產線結合，可以連續操作。輸送帶設計，適合不同試片尺寸及方便規格切換。真空蒸鍍法與常壓蒸鍍法比較表工件架需求工件架(需定期噴砂處理)tray盤(carrier)，無需噴砂保養工件架彈性每種工件架只適用於單一尺寸公用tray盤，可以放置370x470mm包含以內的各種size產品掉片問題因治具設計關係，通常每爐於公轉時偶有掉片的情況發生水平放置，無掉片問題不均勻問題公轉外圈通常均勻性不佳，若產品尺寸大太，尤其明顯。需要製作校正板線性鍍膜無此問題腔壁保護必須配置金屬防著板，需要定期拆卸更換保養無此問題廠務需求CDA/PCW/N2/ArCDA/液態氮設備保養治具噴砂、真空pump維修換油、電子槍維修、真空耗材更換等等常壓電漿噴頭等耗材水滴接觸角測試完成鍍膜後，水滴接觸角必須≧110°，否則將是藥料的問題磨耗測試各家標準不一，影響的變數極多，可個別分析討論，在此無法比較單片CoO(4”)1.5~2.2RMB(視藥水品牌不同與採購設備單價不同以及週邊設備價格而有所差異)商業機密，見面詳談常壓蒸鍍設備簡介本設備安裝於我司千級無塵車間，可以處理幅寬370mm以下的所有保護玻璃產品(尚提供550mm幅寬機台)480cm181cm100cm設備生產組裝線週邊相關設備150℃相關設備-超聲波清洗十三槽式超聲波清洗線相關設備-隧道式烤箱15米長的無塵隧道式烤箱週邊量測設備-耐磨耗試驗機檢驗標準(參考)磨耗前水滴接觸角：去離子水≧110∘，十六烷≧65∘抗磨損：使用鋼絲絨#0000/1kg/3000次測試後水滴角度≧100°(各家規範不一)可提供的營業項目1.機台銷售(幅寬370mm/550mm/750mm

三種機型)2.來料代加工業務(4”~23”)3.整廠輸出(Turn-Key)規劃

(1)手機/平板電腦觸控螢幕保護玻璃(2)光學鏡頭/鏡片防污、抗指紋(3)擠膠頭