2022年华大九天业务布局及产品竞争力分析

1、2022年华大九天业务布局及产品竞争力分析一、华大九天产品覆盖平板显示/模拟/数字/制造等多领域1、公司是最早从事EDA研发的企业之一，中国电子是最大股东华大九天是一家专注于EDA工具研发的公司。EDA工具是电子设计自动化（ElectronicDesignAutomation）的简称，其广泛用于集成电路的设计、制造、封装及测试等各个环节，是集成电路产业发展的基石。华大九天自2019年成立以来始终专注于EDA工具的研发。公司前身为中国华大集成电路设计集团有限公司的EDA部门。初始团队中部分成员曾参与中国第一款具有自主知识产权的全流程EDA系统“熊猫ICCAD系统”。公司目前已储备大量EDA工具软

2、件方面的知识产权、非专利技术工具产品等技术成果，部分技术达到国际领先水平。公司共拥有已授权专利144项和已登记软件著作权50项。公司在国际市场中位列第二梯队。EDA行业是一个市场集中度较高的行业。全球EDA第一梯队的企业包括楷登电子、新思科技和西门子EDA，这三家公司在行业具有垄断性优势地位，占据全球市场近八成份额。华大九天及另外几家公司，凭借在部分的领域的全流程工具或者是在局部领域的优势，目前位居全球EDA行业的第二梯队。第三梯队的公司则聚焦于某些特定领域或者用途，整体竞争力与前两大梯队还存在比较大的差距。在国内的EDA市场，目前也由国际三家第一梯队的公司占据主导地位。根据赛迪智库的数据，在

3、2020年，国际三巨头占据了我国EDA市场销售额中的80%。本土EDA企业占据的份额仅为市场的小部分。从本土企业竞争格局来看，公司在EDA工具软件领域市场份额居本土EDA企业首位。虽然目前本土EDA企业与国际三巨头有差距，但华大九天在EDA工具软件领域市场份额居本土EDA企业首位。华大九天是国内最早从事EDA研发的企业之一，且始终专注于EDA工具软件的研发，为国内规模最大、产品线最完整、综合技术实力最强的EDA企业之一。从国内的EDA企业整体来看，国内厂商尚未像国际三巨头一样实现EDA全流程、全细分领域的覆盖。华大九天在业务规划上致力于实现EDA全流程、全细分领域的覆盖，目前在这一目标上已与国

4、内其他厂商拉开了明显差距。根据赛迪智库的数据，EDA领域国内市场总销售额在2018到2020年分别为2.8亿元、4.6亿元和7.6亿元。公司在本土EDA企业中，份额占比保持在50%以上，稳居第一。公司股东持股相对集中，但无任何一家可单独控制公司。公司的主要大股东包括中国电子有限、九创汇新、上海建元等。公司的股权相对集中，前两大股东持股比例之和接近50%。虽然股东持股相对集中，但是并不存在其中一家可以单独控制公司的情况。在大股东中，中国电子有限与中电金投都是中国电子集团全资子公司，共持有39.62%的股权，其余股东持股比例低于30%。2、公司产品覆盖平板显示/模拟/数字/制造等多领域，下游客户稳

5、定且优质公司EDA软件销售收入的增长主要来自于模拟电路设计全流程EDA工具系统、数字电路设计EDA工具和晶圆制造EDA工具销售收入的增长。其中模拟电路设计全流程EDA工具系统和数字电路设计EDA工具的收入增长主要来源于IC设计公司，以K1及其关联方为代表的国内主流IC设计公司收入的大幅上升推动业务的营收增长。晶圆制造EDA工具的增长主要来源于以中芯国际为代表的晶圆制造公司的收入上升。全流程EDA工具系统及晶圆制造EDA工具的销售额在2018到2021年都有明显上升，数字电路设计EDA工具的销售额在2021年有所下降。销售额主要集中在全流程EDA工具系统，且该项业务占比有逐年上升趋势。公司营收来

6、源可靠，下游客户稳定且优质。公司为典型的EDA企业，产品业务与下游的集成电路设计企业、晶圆制造企业和平板厂商等客户深度绑定。目前公司已积累了K1、上海华虹（集团）有限公司、京东方科技集团股份有限公司、惠科股份有限公司、上海兆芯集成电路有限公司、TCL科技集团股份有限公司等知名集成电路设计企业、晶圆制造企业和平板厂商客户。公司近几年积极扩宽销售渠道，挖掘了上百家新客户。3、背景下公司营收稳健增长，研发效率不断提升得益于EDA行业增长及公司不断开拓市场，公司营收和净利增长较快。2018至2021年公司营业收入分别为1.51、2.57、4.15、5.79亿元，2019年较上年同比增长70.59%，2

7、020年较上年同比增长61.26%，2021年较上期同比增长39.66%。归母净利润分别为0.49、0.57、1.04和1.39亿元，2019年较上年同比增长17.80%，2020较上年同比增长81.18%，2021年较上期同比增长34.52%。公司的营收和净利增长的速度迅猛。公司营业收入增长的主要原因是国内EDA行业持续增长，同时公司在国内的市场份额也不断增加。目前全球的集成电路及EDA行业的发展持续向好，我国集成电路产业保持着高速增长的态势，国内EDA行业迎来持续良好增长。虽然国内的EDA行业目前仍旧由国际三巨头占据绝对主导地位，但华大九天目前紧随三大巨头之后，约占国内市场的6%。公司营业

8、收入集中于EDA销售。华大九天作为一家专注于EDA工具研发与销售的企业，在近四年主营业务收入80%以上皆来自于EDA软件的销售，其余部分则来自于技术开发服务。公司的两项业务均发展迅速，EDA软件销售收入近四年复合增长率达54.03%，技术开发服务近四年复合增长率达81.50%。公司营业收入按地区来看，主要集中在境内。最近四年境内营收占比都在90%以上，但境外营收占比在逐年提升。目前公司营业收入绝大部分还是依靠国内市场。但公司积极拓展国际业务，公司于2018年9月设立美国子公司，2020年11月设立韩国子公司，报告期内持续开拓境外业务，境外收入呈增长趋势，境外客户主要集中在北美和亚洲其他国家和地

9、区。报告期内公司来自境外的主营业务收入分别为153万元、982万元、2,863万元和4,014万元，占主营业务收入比例分别为1.07%、3.88%，7.05%和7.07%，呈现快速上升趋势。公司境外收入的快速提升也增加了公司未来发展的潜力。EDA行业为技术驱动型行业，研发费用是公司主要成本。公司近四年的期间费用率为90.5%、89.3%、75.6%、81.9%。期间费用率处于较高水平。期间费用率较高的原因主要为公司高强度的研发投入导致的高研发费用率。近四年公司研发费用率分别为49.8%、52.5%、44.2%、52.6%。公司非常重视建设自身的技术壁垒，对主营产品持续加大投入。2020年，公司

10、的研发费用率略有下降，主要原因是公司此前的研发投入已经显示出了较大成效，营收出现较大幅度增长。公司管理活动的规模效应逐渐显现，管理费用率也有较为明显的下降。2020年研发费用和管理费用率的下降两者共同导致了2020年期间费用率的下降。公司拥有高水平的研发团队。公司研发与技术人员数量达494人，研发与技术人员占公司总人数比例达74.85%。截至2021年12月31日，公司总人数660人，多数拥有研究生学位，员工中博士学位人数为51人，硕士学位人数为351人。公司共有五位核心技术人员领导公司的研发工作，他们拥有深厚的相关资历背景，对公司主要产品的研发具有重要、突出的贡献。研发能力受认可，公司不断承

11、担重大科研项目。公司强大的研发团队和研发实力获得了国家层面的认可，自成立以来承担了许多重大科研项目，拥有诸如“先进EDA工具平台开发项目”、“EDA工具系统开发及应用项目”、“超低电压高精度时序分析技术项目”等国家级科研攻关项目经历。由于公司在技术水平上和管理水平上的不断提升，公司净利率有所回升，净利润增长提速。2018-2021年，公司的净利率分别为32.2%、22.2%、25.0%、24.0%。公司净利润增长速度较快，2018-2021年，公司净利润分别为0.49、0.57、1.04、1.39亿元，净利润增速由2019年的17.8%上升至2020年的81.2%，出现跨越式的上升。二、华大九

12、天EDA产品线覆盖较广，部分领域技术处于行业领先公司的产品线较为齐全，部分技术已经达到行业领先水平。公司目前具备了模拟电路设计全流程EDA工具系统、数字电路设计EDA工具、平板显示电路设计全流程EDA工具系统以及晶圆制造EDA工具的核心技术，且实现了相关技术的产业化应用。公司部分产品的技术达到国际领先水平。1、模拟电路设计全流程EDA工具系统：电路仿真工具最高可支持5nm量产工艺制程模拟集成电路设计是指对模拟电路进行结构设计、版图设计、功能和物理验证的全过程。模拟电路设计的全过程都需要使用EDA工具，公司提供的EDA工具系统包括原理图编辑工具、版图编辑工具、电路仿真工具、物理验证工具、寄生参数

13、提取工具和可靠性分析工具等。公司在目前已经拥有的模拟电路设计全流程EDA工具系统中，电路仿真工具支持最先进的5nm量产工艺制程，达到国际领先水平；其他模拟电路设计EDA工具支持28nm工艺制程，与已支持5nm先进工艺的同类领先工具存在一定差距。公司模拟电路设计EDA工具中的多项产品达到国内领先水平，其中电路仿真工具ALPS和异构仿真系统ALPS-GT更达到了国际领先水平。（1）原理图和版图编辑工具Aether原理图和版图编辑工具向集成电路设计人员提供丰富原理图、版图编辑功能以及良好的设计环境。该工具支持根据不同的电路类型的设计需求和不同工艺的物理规则设计原理图和版图。同时该工具在传统编辑环境基

14、础上，增加了设计数据库管理模块、版本管理模块、仿真环境模块和外部结构模块等。原理图和版图编辑工具Aether的主要关键技术具体如下：模拟版图布线技术：模拟版图自动布线技术能通过平板搜索算法完成版图自动连线，结合手动编辑连线功能，可实现交互式与自动化相结合的模拟电路版图布线。原理图驱动版图技术：该技术可通过自动匹配、自动连接和自动生成算法，实现基于原理图的初版版图自动生成功能。此外，该技术可自动建立原理图单元与版图单元的对应关系，支持版图随原理图同步更新。（2）电路仿真工具ALPS和异构仿真系统ALPS-GT电路仿真即通过数学方法模拟电路工作，是分析电路功能和性能最重要的技术手段。电路仿真ALP

15、S通过创新的大规模矩阵智能求解技术和基于CPU-GPU异构系统的仿真加速技术，可突破电路仿真的性能和容量瓶颈，支持数千万器件规模的电路仿真，使得仿真性能显著提升。ALPS和ALPS-GT产品可集成到公司原理图和版图设计平台中。电路仿真工具ALPS和异构仿真系统ALPS-GT的主要关键技术具体如下：大规模矩阵智能求解技术：矩阵求解为电路仿真工具的核心技术。公司开发的大规模矩阵智能求解技术根据电路中不同模块的矩阵特点，从数十种算法中自动选择最优矩阵求解算法，显著提升矩阵求解效率。基于CPU-GPU异构系统的仿真加速技术：该技术根据GPU的运算架构特点，对电路仿真算法中器件计算、矩阵求解等运算量较大

16、的模块采用GPU进行计算，通过适配GPU高速智能求解器，对不同性质的矩阵自动选择最优储存结构和求解算法，提升了电路仿真效率。（3）物理验证工具Argus物理验证工具是用来检查电路设计版图与制造加工及版图设计与电路设计之间的一致性的重要工具。公司开发的物理验证工具Argus可针对模拟电路设计开发的层次化并行物理验证。针对模拟电路设计版图图形的特点，该产品开发了基于边的扫描线技术和版图预处理技术等，提升了检查和分析版图设计错误的效率。该产品可集成到公司原理图和版图设计平台。物理验证工具Argus的主要关键技术具体如下：基于几何图形边的扫描线技术：该技术主要应用于各类几何图形的计算处理，为模拟电路设

17、计版图验证工具采用的重要算法之一。公司在传统的扫描线技术基础上开发了基于几何图形边的扫描线技术，通过倒序树算法和自适应扫描线算法实现了对版图中各种不规则几何图形的快速扫描计算，大幅提升了扫描线算法的精度和效率。版图预处理技术：版图预处理是提高物理验证效率的重要技术手段，主要包括版图数据读取和层次预处理。公司研发的版图预处理技术通过版图索引算法、多线程数据读取算法、高效的版图层次结构分析和层次提升算法，实现了快速的版图数据读取和层次预处理。（4）寄生参数提取工具RCExplorer寄生参数提取工具可提取出包含寄生参数的电路网表，用于电路的各项性能分析和版图后仿真。公司研发的寄生参数提取工具RCE

18、xplorer支持晶体管级和单元级寄生参数提取，根据不同的精度要求，提供了三维高精度提取模式和准三维快速提取模式。同时该工具提供了基于版图的点到点寄生参数计算和时延分析功能。RCExplorer工具可集成到公司原理图和版图设计平台中。寄生参数提取工具RCExplorer的主要关键技术具体如下：电阻网络快速提取技术：集成电路版图中金属图形会产生寄生电阻。公司开发的电阻网络快速提取技术术通过大规模版图快速切割算法、不规则图形的平行边切割算法、图形连接性快速判定算法以及电阻网络的等效约减算法等，实现了大规模版图电阻网络的快速提取。基于边界元素法的偏微分方程求解技术：偏微分方程求解是集成电路寄生参数提

19、取面临的核心技术问题。公司开发了基于边界元素法的偏微分方程求解技术。该技术通过基于边界元素法的区域分解加速算法、自适应网格划分算法以及高效的迭代求解算法，实现了高精度的寄生参数提取。2、数字电路设计EDA工具：部分点工具已实现突破并且达到行业领先水平数字电路设计是指电路功能设计、逻辑综合、物理实现以及电路和版图分析验证的过程。这些过程都需相应的EDA工具。公司的数字电路设计EDA工具具体包括单元库特征化提取工具Liberal、单元库/IP质量验证工具Qualib、时序仿真分析工具XTime、时序功耗优化工具XTop以及版图集成与分析工具Skipper等。公司目前已发布的数字电路设计EDA工具中

20、，单元库/IP质量验证工具、高精度时序仿真分析工具、时序功耗优化工具、版图集成与分析工具和时钟质量检视与分析工具均可支持目前国际最先进的5nm量产工艺制程，处于国际领先水平；单元库特征化提取工具开发完成时间较短，目前可支持40nm量产工艺制程，与同类国际领先工具仍存在一定差距。整体来看，公司已发布的数字电路设计EDA工具中，除个别工具外均达到国际领先水平，可支持5nm量产工艺制程。同时，公司在数字电路EDA工具中应用的多项技术已经达到了国际或者国内领先的水平，在行业内具有较大的优势。（1）单元库特征化提取工具Liberal和单元库/IP质量验证工具Qualib单元库特征化提取工具Liberal

21、提供了一套自动提取标准单元库时序和功耗特征化模型的解决方案，用于数字电路设计的时序和功耗分析。该工具通过内置的高精度电路仿真引擎对标准单元进行仿真分析，精确地提取时序和功耗特征值，形成标准单元库特征化模型。同时，通过高效的分布式并行调度技术，进一步提升了单元库特征化提取的性能。单元库特征化提取工具Liberal的主要关键技术具体如下：基于电路功能的激励自动生成技术：激励是指向电路输入的电压和电流，起推动电路工作的作用。公司开发的基于电路功能的激励自动生成技术根据电路特性自动生成所需的激励。基于该技术生成的激励进行仿真，即可得到单元的时序和功耗特征值。分布式并行调度技术：单元库特征化提取需要执行

22、数百万次仿真，仿真时间决定了特征化提取的性能。公司开发的高效的分布式并行调度技术自动将多个仿真任务分发到多台服务器，每个仿真任务通过内部控制启动多个仿真进程，每个进程采用多线程来进一步提高仿真并行度，大幅度缩减了整体仿真时间。公司的单元库/IP质量验证工具Qualib提供了全面的单元库/IP质量分析验证方案。该工具可提供基于规则的单元库/IP质量检查功能、基于特征化模型的单元库性能趋势分析功能和基于仿真的可靠性、敏感性分析功能等，全面地检视和分析单元库/IP的质量和性能。单元库/IP质量验证工具Qualib的主要关键技术具体如下：基于规则的单元库/IP质量检查技术：公司开发的基于规则的单元库/

23、IP质量检查技术建立了一套全面的单元库/IP质量检查规则集，基于该规则集对不同工艺节点、不同设计类型的单元库/IP进行检查，并预估单元库/IP集成后的潜在风险，为用户全面分析检查单元库/IP质量提供了技术支撑。基于特征值的单元库性能评估技术：单元时序库包含了每个单元、每条通路在不同条件下的时序和功耗数据，数据规模极其庞大。公司开发的基于特征值的单元库性能评估技术从海量的时序库数据中自动提取特征值，并计算每个单元的性能评分，再换算成单元库的整体评分，实现了单元库性能的快速评估。（2）高精度时序仿真分析工具XTime高精度时序仿真分析工具XTime提供了面向先进工艺和低电压设计的高精度时序仿真分析

24、方案。该工具提供高精度时序仿真校验功能、电压/温度灵敏度分析功能、快速工艺偏差分析功能和老化仿真分析功能等，方便设计师分析电路时序可靠性。高精度时序仿真分析工具XTime的主要关键技术具体如下：基于时序路径的网表与激励自动生成技术：大规模数字电路设计包含大量的时序路径，需要对这些时序路径进行高精度时序仿真，自动生成仿真网表和激励。公司开发的基于时序路径的网表与激励自动生成技术根据时序路径连接关系、单元的电路网表以及寄生参数信息，自动生成时序路径的仿真网表；基于单元库的功能定义推导得到每个端口的输入激励。基于该技术生成的网表和激励进行仿真，即可得到时序路径的仿真结果。基于时序路径的可靠性分析技术

25、：通过对时序路径进行仿真可以更精确的评估电路的时序可靠性。公司开发的基于时序路径的可靠性分析技术集成了考虑电压降的时序仿真校验、电压/温度扫描、工艺偏差仿真以及老化仿真等多种可靠性分析方法。这些方法实现了对时序路径的可靠性分析功能。（3）时序功耗优化工具XTop时序和功耗优化是指通过技术手段改进电路的时序和功耗、满足设计指标的过程。时序功耗优化工具XTop通过创新的层次设计数据并行处理技术、动态时序建图技术和增量布局技术等，显著提高了时序和功耗优化的效率和质量。时序功耗优化工具XTop的主要关键技术具体如下：层次设计数据并行处理技术：先进工艺大规模数字电路设计要求时序优化工具具备超大规模的数据

26、处理能力。公司开发的层次设计数据并行处理技术对设计数据进行层次化集中管理，通过多线程并行数据读取算法及智能任务调度技术，实现了设计数据读取时间只依赖于最大模块的读速。同时，通过高效的内存管理对读入数据按需分配内存，减少了内存消耗。动态时序建图技术：时序优化过程中，时序图上的任何变化都需实时更新到全芯片和所有工艺角，以避免其他路径和工艺角出现新的时序违例。公司开发的动态时序建图技术根据电路连接关系和每次待优化的时序违例点，动态生成时序图，在小规模的时序图内进行时序数据的更新传递，避免了建立时序全图的时间和内存消耗。增量布局技术：时序和功耗优化过程会频繁更改大量单元的物理位置。公司开发的高效的增量

27、布局技术能够快速搜寻单元初始摆放位置并准确评估单元摆放对布线的影响，保障单元初始位置的选择足够优化。再通过动态规划方法快速求解单元最终最优摆放位置。（4）版图集成与分析工具Skipper版图集成与分析工具Skipper通过基于索引的版图数据并行读取技术、版图数据内存镜像技术和图形索引技术等，实现了超大规模版图的快速处理。该工具提供了快速版图集成功能、批量版图数据处理功能、并行线网追踪功能、点到点电阻分析功能等，提高了分析和处理超大规模版图数据的效率。版图集成与分析工具的主要关键技术具体如下：基于索引的版图数据并行读取技术：随着版图规模越来越大，需具备快速读取海量版图数据的能力对版图集成与分析。

28、公司开发的基于索引的版图数据并行读取技术在版图首次读取时自动生成索引文件，基于该索引文件分段并行读取版图数据，大幅提升了版图读取性能。同时，通过独创的内存压缩算法，将读入的版图数据进行内存压缩，有效降低了内存消耗。版图数据内存镜像技术：版图分析阶段经常需要多人协作分析同一版图。公司开发的版图数据内存镜像技术在版图数据读入前，自动检查内存中是否已存在相同的版图数据。如果已存在，则自动从当前内存中链接版图数据。用户可对链接的版图数据进行编辑，生成独立的编辑内存镜像，多人编辑的结果可通过内存数据同步算法实时共享。图形索引技术：快速定位图形区域或追踪查找某一具体图形需要高效的图形索引技术。公司开发的快

29、速图形索引技术对版图中的图形进行分段索引并建立相邻关系。基于该技术开发的并行、批量图形追踪查询功能，实现了查询性能仅依赖于最大图形规模的查询时间。3、平板显示设计全流程EDA工具系统：类似于模拟设计工具，具有优势客户基础平板显示电路设计与模拟电路的设计理念、设计过程和设计原则有一定的相似性。公司在已有模拟电路设计工具的基础上，结合平板显示电路设计的特点，开发了全球领先的平板显示电路设计全流程EDA工具系统。（1）平板显示电路设计原理图和版图编辑工具AetherFPD平板显示电路设计专用的原理图和版图编辑工具AetherFPD为平板显示电路设计提供了最重要的设计开发环境。原理图编辑工具主要用于对

30、平板显示电路设计的像素单元、控制单元等电路模块进行原理图设计。其不仅支持传统的平板显示电路设计的原理图编辑，还通过技术创新支持了异形屏显示设计的电路原理图设计，可根据异形形状的定义自动生成电路原理图。版图编辑工具提供了适用于平板显示电路设计的版图编辑环境，特别是异形屏显示设计的版图编辑，满足了手表（圆形屏等）、手机（水滴屏等）、汽车仪表盘（曲线屏等）等消费电子领域对平板显示电路设计的特殊要求。该工具通过创新的旋转单元编辑技术、异形填充技术以及平板显示电路设计自动布局布线技术，帮助设计师高效完成满足异形形状和设计规则约束的版图设计，提高了异形版图设计的效率和质量。平板显示电路设计物理验证工具Ar

31、gusFPD的主要关键技术具体如下：旋转单元编辑技术：单元编辑是版图编辑工具的重要功能，需要底层数据支撑以完成单元图形的创建、编辑、查找以及连接追踪等复杂操作。公司开发的旋转单元编辑技术，设计了支持任意角度单元的底层数据架构，通过特殊算法实现了任意角度单元的摆放和编辑，满足了异形平板显示电路设计的需求。异形填充技术：异形平板显示电路设计比较复杂，如圆形屏、水滴屏等，像素区域都是不规则图形。公司开发的异形填充技术通过对任意形状版图进行自动规划和计算，实现了满足设计规则约束的异形平板版图的自动生成，显著提升了异形平板显示电路的版图设计效率。平板显示电路设计自动布局布线技术：平板显示产品的发展对版图

32、设计提出了越来越苛刻的窄边框和高屏占比要求。为此，公司开发的平板显示电路设计自动布局布线技术通过异形区域自动布局算法，解决了端口非矩形排布的难题，同时通过多种特殊布线算法，实现了异形屏设计自动布线。（2）平板显示电路设计物理验证工具ArgusFPD平板显示电路设计物理验证工具ArgusFPD针对异形屏显示设计的特点开发了圆弧及任意角度旋转图形的高精度器件提取和规则检查技术，保证了物理验证的精度，解决了不规则电路和版图的验证。此外，针对平板显示电路设计高重复阵列式设计特点，通过设计规则违例识别和聚类技术，提升了检查和分析设计违例的效率。ArgusFPD可与公司平板显示电路设计的电路原理图和版图编

33、辑工具集成。平板显示电路设计物理验证工具ArgusFPD的主要关键技术具体如下。设计规则违例识别和聚类技术：为解决平板显示电路设计版图中存在着大量重复性图形、任意角度摆放的图形以及多边形等问题，公司开发了设计规则违例识别和聚类技术。该技术通过对平板显示电路设计版图特有的设计规则违例进行归类处理，大幅提升了设计人员的查错效率。（3）平板显示电路设计寄生参数提取工具RCExplorerFPD平板显示电路设计寄生参数提取工具RCExplorerFPD可用于高精度平板显示电阻电容提取。其采用基于阵列的电阻和电容提取技术以及基于有限元方法的高精度电阻计算技术等，在保证寄生参数提取精度的同时，极大的提升了

34、计算效率。同时，针对AMOLED设计的金属网格和触控笔等新一代触控技术，利用三维建模技术，并通过区域分解、方程组稀疏化等算法提升了三维场求解器的速度，满足了AMOLED设计对电阻电容提取的需求。RCExplorerFPD可与公司平板显示电路设计的电路原理图和版图编辑工具集成。平板显示电路设计寄生参数提取工具RCExplorerFPD的主要关键技术具体如下：基于阵列的电阻和电容提取技术：为解决随着平板显示分辨率越来越高与设计尺寸越来越大，平板显示电路的全版图电阻电容提取越发耗时的问题，公司开发了基于阵列的电阻和电容提取技术。该技术通过分析层次式版图的可复用阵列图形，将大规模阵列版图转化为重复的小

35、规模的单元版图，再快速地提取阵列版图的电阻电容。基于有限元方法的高精度电阻计算技术：为解决平板显示电路设计版图中存在大量非规则图形的问题，公司研发了基于有限元方法的高精度电阻计算技术。该技术对平板显示电路设计版图中的复杂图形进行智能网格划分，使用有限元方法提取电阻网络，通过求解该网络精确计算指定端口间的电阻值。计算结果用于版图后仿真和电路可靠性分析，帮助设计师预测工艺对产品电学和光学指标的影响，减少设计迭代，提高产品良率。三维建模技术：平板显示电路设计工艺中，每层金属线都是非平面结构，金属连线的三维结构非常复杂。为了精确分析电路的电学特性，需要对金属线的三维结构进行精确建模。公司开发的三维建模

36、技术根据平板显示电路设计工艺结构的特点，通过基于面的数据建模方式，研发了平面图形和工艺数据相结合的三维建模算法，可以快速创建各种复杂工艺的三维结构。（4）平板显示电路设计可靠性分析工具ArtemisFPD平板显示电路设计可靠性分析工具ArtemisFPD主要包括电压降分析，电迁移分析和热分析等功能。针对平板显示电路设计的版图特点，该工具通过全面板热电分析技术实现了对大规模网络的电流和电压快速计算，大幅提升了平板显示电路设计可靠性分析的效率。此外，该工具还提供了数据快速装载和查询功能，用于电压、电流、温度等数据的分析查询。平板显示电路设计可靠性分析工具ArtemisFPD的主要关键技术具体如下：

37、全面板热电分析技术：为解决由寄生电阻电容造成的电压降、热传导效应对平板显示电路设计的影响日趋严重，造成了电学和光学缺陷的问题，公司研发了全面板热电分析技术。该技术通过分析平板显示电路版图中的高重复性阵列图形，缩减数据规模，通过高效优化算法快速求解节点电压和电流，从而实现了全面板可靠性分析。4、晶圆制造EDA工具：覆盖器件模型提取和存储器编译开发等工具公司针对晶圆制造厂的工艺开发和IP设计需求，提供了相关的晶圆制造EDA工具，包括器件模型提取工具、存储器编译器开发工具、单元库特征化提取工具、单元库/IP质量验证工具、版图集成与分析工具以及模拟电路设计全流程EDA工具等，为晶圆制造厂提供了重要的技

38、术支撑。（1）器件模型提取工具XModel器件模型是工艺器件功能与性能的数学表征，它利用数学方程、等效电路及工艺数据拟合等方法对器件电流电压关系等进行精确描述，是电路仿真的重要基础。公司器件模型提取工具XModel为设计师提供了高效的模型提取解决方案，支持硅基金属氧化物器件、硅基高压器件、分立器件和新型第三代半导体等不同类型的器件模型提取。该工具提供了器件测试数据处理和分析、典型特征模型提取、版图效应模型提取、工艺角模型提取、统计和失配模型提取、模型库验证分析等功能，为晶圆制造厂的器件模型提取和验证提供了重要支撑。器件模型提取工具XModel的主要关键技术具体如下：器件模型参数拟合技术：公司开发的器件模型参数拟合技术通过器件模型模板，将不同类型的器件测试数据进行分类、转换并建立实测数据和仿真数据的实时对比图表，基于对比图表中的数据，通过迭代优化算法，实现了高效的模型参数拟合。（2）存储器编译器开发工具SMCB存储器编