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文档简介
1、电镀设备的生产技术图片简介:本技术新型涉及一种电镀设备,其包括电镀槽,电镀槽的开口端活动连接有用于密封电镀槽的帽体,帽体包括底壁和垂直于底壁设置的连接壁,连接壁的内侧壁与电镀槽的外侧壁相接触;电镀槽上开设有第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽和第二凹槽相对设置,第一凹槽和第二凹槽之间架设有电镀挂具。本技术新型具有提高电镀产品质量的效果。技术要求1.一种电镀设备,包括电镀槽(1),其特征在于:所述电镀槽(1)的开口端活动连接有用于密封电镀槽(1)的帽体(2),所述帽体(2)包括底壁(21)和垂直于底壁(21)设置的连接壁(22),所述连接壁(22)的内侧壁与电镀槽(1)的外侧壁相接触;所述电镀槽(1)上
2、开设有第一凹槽(13)和第二凹槽(14),所述第一凹槽(13)和第二凹槽(14)相对设置,所述第一凹槽(13)和第二凹槽(14)之间架设有电镀挂具(15)。根据权利要求1所述的一种电镀设备,其特征在于:所述连接壁(22)远离底壁(21)的一端的外侧壁上连接有外沿壁(23),所述外沿壁(23)向远离连接壁(22)的一侧延伸,所述电镀槽(1)的外侧壁上设置有卡接壁(11),所述外沿壁(23)与卡接壁(11)相接触。根据权利要求2所述的一种电镀设备,其特征在于:所述外沿壁(23)和卡接壁(11)均呈U型,所述卡接壁(11)对应卡嵌在外沿壁(23)的外侧。根据权利要求2所述的一种电镀设备,其特征在于:
3、所述外沿壁(23)靠近卡接壁(11)的侧面设置有外沿橡胶层(24),所述卡接壁(11)靠近外沿壁(23)的侧面设置有卡接橡胶层(12),所述外沿橡胶层(24)与卡接橡胶层(12)相抵。根据权利要求1所述的一种电镀设备,其特征在于:所述电镀槽(1)的一侧设置有支架(3),所述支架(3)上设置有气缸(31),所述气缸(31)的活塞杆沿竖直方向向下设置,所述气缸(31)的活塞杆远离气缸(31)缸体的一端与帽体(2)固定连接。根据权利要求1所述的一种电镀设备,其特征在于:所述电镀槽(1)的侧壁上连通有双向变量泵(16),所述双向变量泵(16)远离电镀槽(1)的一端连通有储料箱(17)。根据权利要求1所
4、述的一种电镀设备,其特征在于:所述电镀槽(1)的侧壁上设置有用于观察电镀槽(1)内部情况的有机玻璃观察窗(18)。根据权利要求1所述的一种电镀设备,其特征在于:所述电镀挂具(15)包括直杆(151)和挂杆(152),所述直杆(151)的两端分别位于第一凹槽(13)和第二凹槽(14)内,所述挂杆(152)的两端弯折后与直杆(151)固定连接,所述挂杆(152)用于放置待电镀物。技术说明书一种电镀设备技术领域本技术新型涉及电镀生产工艺及设备的技术领域,尤其是涉及一种电镀设备。背景技术电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,镀层金属或其他不溶性材料做阳极,待镀的工件做阴极
5、,镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。电镀使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜,从而起到防止金属氧化,提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用。在电镀过程中会伴随着产生一定的热量,主盐是指镀液中能在阴极上沉积出所要求镀层金属的盐,用于提供金属离子。当镀层金属为阳极时,镀层金属会源源不断为镀液提供主盐,而且主盐浓度必须在一个适当的范围内,主盐浓度增加或减少,在其它条件不变时,都会对电沉积过程及最后的镀层组织有影响。现有的授权公告号为CN205443497U的ZG专利介绍了一种电镀设备,包括至少一电镀挂具,电镀挂具包括一吊挂框架、多数个摆动框架及一拉杆;摆动框架系沿着吊挂
6、框架上下间隔排列,且各具有二摆动杆枢设于吊挂框架左、右边侧,以及一连动杆连接于各左右相对的摆动杆间,同时每一摆动杆具有一个可供待电镀物固定的定位端;拉杆系枢接于各摆动框架的连动杆,可迫使各摆动供使用者手动操作以同步作动各摆动框架的连动杆,杆产生杠杆摆动,进而翻转各待电镀物倒回残留于内的电镀液。电镀设备还包括一挂载装置,可供电镀挂具勾挂定位,并通过自动操纵电镀挂具升降与横向移动,而依序沉醉与脱离各电镀槽。上述中的现有技术方案存在以下缺陷:上述的电镀设备在电镀槽内进行电镀时,电镀液直接暴露在空气中,电镀液中会有一部分的水分蒸发至空气中,而电镀过程中又有大量的热量产生,热量的产生又会加速电镀液中水分
7、的蒸发。当镀层金属为阳极时,电镀液中水分的蒸发会导致主盐的浓度发生变化,最终会对镀层组织产生影响,导致最终的电镀产品的质量不佳。有用新型内容针对现有技术存在的不足,本技术新型的目的是提供一种电镀设备,其具有提高电镀产品质量的优点。本技术新型的上述有用新型目的是通过以下技术方案得以实现的:一种电镀设备,包括电镀槽,所述电镀槽的开口端活动连接有用于密封电镀槽的帽体,所述帽体包括底壁和垂直于底壁设置的连接壁,所述连接壁的内侧壁与电镀槽的外侧壁相接触;所述电镀槽上开设有第一凹槽和第二凹槽,所述第一凹槽和第二凹槽相对设置,所述第一凹槽和第二凹槽之间架设有电镀挂具。通过采纳上述技术方案,在帽体设置后,能够
8、在一定程度上减少电镀液中水分的蒸发,而连接壁的内侧壁与电镀槽的外侧壁相接触,能够对电镀槽起到更好的密封作用,以更好的起到防止水分蒸发的作用。如果将电镀液直接暴露在空气中,上方空气流动速度快,通风好,分子重新返回液体的机会越小,蒸发就越快,帽体设置后水蒸气会在帽体上凝聚后回到液体中来。进而保证电镀液的浓度,以此提高产品的质量。本技术新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述连接壁远离底壁的一端的外侧壁上连接有外沿壁,所述外沿壁向远离连接壁的一侧延伸,所述电镀槽的外侧壁上设置有卡接壁,所述外沿壁与卡接壁相接触。通过采纳上述技术方案,外沿壁和卡接壁设置后,能够在一定程度上提高帽体对电镀槽的密封效果,外
9、沿壁和卡接壁相接触,能够更好的防止水分的散失。本技术新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述外沿壁和卡接壁均呈U型,所述卡接壁对应卡嵌在外沿壁的外侧。通过采纳上述技术方案,外沿壁和卡接壁呈U型后,如果电镀液中的水分蒸发成水蒸气,U型的外沿壁和卡接壁会阻碍水蒸气的流动,进而更好的防止水分的散失。本技术新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述外沿壁靠近卡接壁的侧面设置有外沿橡胶层,所述卡接壁靠近外沿壁的侧面设置有卡接橡胶层,所述外沿橡胶层与卡接橡胶层相抵。通过采纳上述技术方案,外沿橡胶层和卡接橡胶层设置后,外沿橡胶层与卡接橡胶层相抵,能够提高帽体对电镀槽的密封性。本技术新型在一较佳示例中可以进一步
10、配置为:所述电镀槽的一侧设置有支架,所述支架上设置有气缸,所述气缸的活塞杆沿竖直方向向下设置,所述气缸的活塞杆远离气缸缸体的一端与帽体固定连接。通过采纳上述技术方案,气缸设置后能够更加方便的将帽体扣合在电镀槽上或由电镀槽上取下。本技术新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述电镀槽的侧壁上连通有双向变量泵,所述双向变量泵远离电镀槽的一端连通有储料箱。通过采纳上述技术方案,双向变量泵能够使电镀液由电镀槽至储料箱,也可以使电镀液由储料箱至电镀槽,实现电镀液的双向流动,方便电镀液的取用。本技术新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述电镀槽的侧壁上设置有用于观察电镀槽内部情况的有机玻璃观察窗。通过采纳上
11、述技术方案,有机玻璃观察窗设置后能够更方便的观察到电镀槽内的的电镀详情。本技术新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述电镀挂具包括直杆和挂杆,所述直杆的两端分别位于第一凹槽和第二凹槽内,所述挂杆的两端弯折后与直杆固定连接,所述挂杆用于放置待电镀物。通过采纳上述技术方案,直杆方便工作人员对待电镀物的拿取,挂杆方便待电镀物的放置。综上所述,本技术新型包括以下至少一种有益技术效果:.通过帽体、底壁、连接壁、第一凹槽、第二凹槽和电镀挂具的设置,能够尽可能的保证电镀液的浓度,进而提高产品的质量;通过外沿壁和卡接壁的设置,能够提高帽体对电镀槽的密封性,进一步的减少水分的蒸发,提高产品的质量。附图说明图1是
12、本实施例示出的一种电镀设备的整体结构示意图;图2是本实施例示出的一种电镀设备的爆炸图;图3是图2中部分的放大图。图中,1、电镀槽;11、卡接壁;12、卡接橡胶层;13、第一凹槽;14、第二凹槽;15、电镀挂具;151、直杆;152、挂杆;16、双向变量泵;17、储料箱;18、有机玻璃观察窗;2、帽体;21、底壁;22、连接壁;23、外沿壁;24、外沿橡胶层;3、支架;31、气缸。具体实施方式以下结合附图对本技术新型作进一步详细说明。实施例参照图1和图2,为本技术新型公开的一种电镀设备,包括电镀槽1,电镀槽1的开口向上且开口端活动连接有用于密封电镀槽1的帽体2,帽体2的开口向下。具体的,帽体2包
13、括底壁21和垂直于底壁21设置的连接壁22,连接壁22沿底壁21的外沿周向设置,连接壁22的内侧壁与电镀槽1的外侧壁相接触;连接壁22远离底壁21的一端的外侧壁上连接有外沿壁23,外沿壁23向远离连接壁22的一侧延伸,外沿壁23沿连接壁22的周向设置,电镀槽1的外侧壁上沿其周向设置有卡接壁11。参照图2和图3,外沿壁23和卡接壁11均呈U型,卡接壁11对应卡嵌在外沿壁23的外侧。外沿壁23靠近卡接壁11的侧面设置有外沿橡胶层24,卡接壁11靠近外沿壁23的侧面设置有卡接橡胶层12,外沿橡胶层24与卡接橡胶层12均呈U型,外沿橡胶层24与卡接橡胶层12紧抵。参照图2,电镀槽1的顶面上沿竖直方向开
14、设有第一凹槽13和第二凹槽14,第一凹槽13和第二凹槽14相对设置。第一凹槽13和第二凹槽14之间架设有电镀挂具15,具体的,电镀挂具15包括直杆151和挂杆152,直杆151的两端向下弯折后分别位于第一凹槽13和第二凹槽14内,挂杆152的两端向上弯折后与直杆151固定连接,挂杆152用于放置待电镀物。第一凹槽13的上端向靠近第二凹槽14的一侧延伸至与电镀槽1连通,第二凹槽14的上端向靠近第一凹槽13的一侧延伸至与电镀槽1连通,以保证直杆151的顶面与电镀槽1的顶面相齐平。参照图1和图2,电镀槽1的一侧设置有支架3,支架3上设置有气缸31,气缸31的活塞杆沿竖直方向向下设置,气缸31的活塞杆远离气缸31缸体的一端与帽体2固定连接,气缸31设置有两个。电镀槽1的侧壁上连通有双向变量泵16,双向变量泵16远离电镀槽1的一端连通有储料箱17。双向变量泵中液体的流向可以由进口流至出口,也可以由出口流至进口,一方面可以实现将电镀槽1内的电镀液输送至储料箱17,另一方面可以实现将储料箱17内的电镀液输送至电镀槽1内。电镀槽1的侧壁上设置有用于观察电镀槽1内部情况的有机玻璃观察窗18。上述实施例的实施原理为:初始状态时,帽体2位于电镀槽1的上方,帽体2不与电镀槽1接触。在进行电镀时,首先将待电镀物放置在挂杆152上,并将挂杆152的两
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