标准解读
《ys/t 264-2012 高纯铟》与《ys/t 264-1994》相比,在多个方面进行了更新和改进。首先,在标准的适用范围上,新版本明确了其适用于电子工业、光学镀膜等领域使用的高纯铟材料,而旧版对此未作特别说明。
其次,对于高纯铟的技术要求,《ys/t 264-2012》增加了对杂质元素种类及含量的具体规定,比如砷(As)、锑(Sb)等有害杂质的最大允许浓度比之前更加严格;同时新增了对某些微量元素如镓(Ga)、铁(Fe)等的限制要求,这些在1994年的版本中并未提及或规定不够详细。
此外,新版标准还调整了部分物理性能指标的要求值,例如提高了密度、熔点等方面的精度要求,并且引入了更多先进的检测方法和技术手段来保证产品质量的一致性和稳定性。这表明随着科学技术的发展以及市场需求的变化,行业对于高纯铟材料的质量控制提出了更高更细的要求。
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....
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- 现行
- 正在执行有效
- 2012-11-07 颁布
- 2013-03-01 实施
![YS∕T 264-2012 高纯铟_第1页](http://file4.renrendoc.com/view/2641021c6677d4ac297763c82ca4d334/2641021c6677d4ac297763c82ca4d3341.gif)
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![YS∕T 264-2012 高纯铟_第3页](http://file4.renrendoc.com/view/2641021c6677d4ac297763c82ca4d334/2641021c6677d4ac297763c82ca4d3343.gif)
文档简介
ICS7715099
H66..
中华人民共和国有色金属行业标准
YS/T264—2012
代替
YS/T264—1994
高纯铟
Highpurityindium
2012-11-07发布2013-03-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布
YS/T264—2012
前言
本标准按照给出的规则起草
GB/T1.1—2009。
本标准代替高纯铟本标准与相比主要变化如下
YS/T264—1994《》。YS/T264—1994:
扩大了高纯铟的适用范围
———;
删除了范围中的以高纯铟为原料经电解精炼等工艺制得的高纯铟
———99.999%,99.9999%;
将牌号高纯铟化学成分中的含量由原来的-6改为现在的-6
———In-05Sn1.5×101.0×10;
增加了高纯铟含量的计算方法锭重的要求和订货合同内容等
———、;
将取样方法分成了生产样的取样和制样及仲裁样的取样和制样
———;
修改了试验方法和检验结果的判定删除了附录
———,A。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会归口
(SAC/TC243)。
本标准负责起草单位南京中锗科技股份有限公司
:。
本标准主要起草人张莉萍李国辉
:、。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为
:
———YS/T264—1994。
Ⅰ
YS/T264—2012
高纯铟
1范围
本标准规定了高纯铟的要求试验方法检验规则和标志包装运输贮存质量证明书和合同或
、、、、、、(
订货单内容等
)。
本标准适用于以工业粗铟为原料经原料处理及电解精炼等工艺制得的高纯铟产品供制作化合
,。
物半导体高纯合金高级轴承及半导体材料的掺杂剂等
、、。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件
。,()。
高纯铟分析方法
GB/T2594
数值修约规则与极限数值的表示和判定
GB/T8170
3要求
31产品分类
.
高纯铟按其化学成分分为两个牌号
,:In-05、In-06。
32化学成分
.
321高纯铟的化学成分应符合表的规定
..1。
表1高纯铟的化学成分
化学成分质量分数
()/%
牌号含量杂质含量-4不大于
In,/(×10)
不小于总和
FeCuPbZnSnCdTlMgAlAsSiSAgNi
In-0599.9990.50.410.510.510.50.50.5110.50.510
In-0699.99990.10.10.1—0.30.05—0.1——0.10.1——1
322高纯铟的含量为减去表中杂质实测总和的余量
..100%。
323高纯铟的杂质末位后数值的修约判定按中的有关规定进行
..,GB/T8170。
33外观质量
.
呈银白色表面应光亮平整无夹杂飞边毛刺缩孔氧化膜及污物
。、,、
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