有机合成中的保护基团

1、复杂的有机化合物可能含有多种官能团，在合成的过程中，复杂的有机化合物可能含有多种官能团，在合成的过程中，若能够利用高选择性的试剂，只对某个特定的部位或官能团进若能够利用高选择性的试剂，只对某个特定的部位或官能团进行反应，当然是最佳的策略。行反应，当然是最佳的策略。但是在实际的过程中往往是无法找到适当的试剂，能够满足选择性的要求。这个时候，可先将某些基团保护起来，不使这个时候，可先将某些基团保护起来，不使其作用，而只留特定要作用的官能团进行反应；然后再将保护其作用，而只留特定要作用的官能团进行反应；然后再将保护基 团 除 去 ， 以 便 进 行 下 一 个 步 骤 ， 这 种 保 护 除 保 护

2、基 团 除 去 ， 以 便 进 行 下 一 个 步 骤 ， 这 种 保 护 除 保 护( (protection-deprotectionprotection-deprotection）的方法在有机合成上应用极广，的方法在有机合成上应用极广，其缺点是增加额外的步骤，会使产率降低。为了弥补这种缺点，在引入或除去保护基团时，应以高选择性及高产率的方法优先。第二章第二章 保护基团保护基团总的说来，保护基应满足下列三点要求：总的说来，保护基应满足下列三点要求：1. 1. 它容易引入所要保护的分子（温和条件）它容易引入所要保护的分子（温和条件）; ;2. 2. 它与被保护基形成的结构能够经受住所要发生的

3、反应的条件它与被保护基形成的结构能够经受住所要发生的反应的条件; ;3. 3. 它可以在不损及分子其余部分的条件下除去（温和条件）它可以在不损及分子其余部分的条件下除去（温和条件）在一些例子中，最后一条可以放宽，允许保护基被直接转变为另一种官能团。在一些例子中，最后一条可以放宽，允许保护基被直接转变为另一种官能团。近年来，随着合成复杂的天然有机物的需要，新保护基的设计、近年来，随着合成复杂的天然有机物的需要，新保护基的设计、引入保护基使用的新方法诸方面取得了较大的进展。已经使用和引入保护基使用的新方法诸方面取得了较大的进展。已经使用和推荐使用的保护基颇多，下面只介绍一些常用基团的保护方法。推荐

4、使用的保护基颇多，下面只介绍一些常用基团的保护方法。第二章第二章 保护基团保护基团一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团保护醇类保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类的方法一般是制成醚类 (ROR) 或酯类或酯类(ROCOR)，前者对前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。1.形成甲醚类形成甲醚类 ROCH3甲基醚化试剂一般有：甲基醚化试剂一般有：MeI, (MeO)2SO2 或或 MeOTf 与相应的碱组成反应体与相应的碱组成反应体系系,但也有用但也有用CH2N2 /硅胶进行硅胶进行O-H 键的插入发应。键的插入发应。该法优点：保护基易引入，对酸碱氧化剂或还原剂均

5、很稳定。该法优点：保护基易引入，对酸碱氧化剂或还原剂均很稳定。缺点：甲基醚非常惰性缺点：甲基醚非常惰性,除去也相当不容易。除去也相当不容易。脱保护基脱保护基：通常使用：通常使用Lewis酸，如浓酸，如浓HI, BBr3 及及 Me3SiI。常用。常用 Me3SiI/CH3Cl or CH2Cl2 or MeCN 或者或者BBr3/CH2Cl2 等。等。ROHROCH3NaOH,Me2SO4Me3Si ,CHCl3I第二章第二章 保护基团保护基团一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团去保护基原理：去保护基原理：硬软酸碱原理（硬软酸碱原理（hard-soft acids and bases prin

6、ciple），），使氧原子与硼或使氧原子与硼或硅原子结合（较硬的共轭酸），而以溴离子或碘离子（较软的共轭碱）将甲硅原子结合（较硬的共轭酸），而以溴离子或碘离子（较软的共轭碱）将甲基（较软的共轭酸）除去。基（较软的共轭酸）除去。OCH3RMe3SiICH3IROSiMe3ROHMe3SiOH+H2O由于甲醚过于稳定，因此，一般多用于单糖环状结构的经典测定。由于甲醚过于稳定，因此，一般多用于单糖环状结构的经典测定。第二章第二章 保护基团保护基团2.形成苄醚形成苄醚 ROCH2Ph苄基醚的应用很广苄基醚的应用很广，可以经受许多温和的氧化反应，如可以经受许多温和的氧化反应，如Swern, PCC, P

7、DC,Dess-Martin periodinate, Jones, NaIO4, Pb(OAc)4 以以 及及 LiAlH4 还还 原。原。在中在中性溶液中它们能很快地在室温下被催化氢解，使苄基脱除，并回复到醇类。性溶液中它们能很快地在室温下被催化氢解，使苄基脱除，并回复到醇类。苄基在很多情况下用氢解的方式除去，苄基在很多情况下用氢解的方式除去，10% Pd-C是最常用的催化剂，是最常用的催化剂， 另另 外外Raney-Ni, Rh-Al2O3 也是常用的氢解催化剂。也是常用的氢解催化剂。由于苄醚的去保护是采用不同于其他醚键断裂的方法，因此在氢解去苄基由于苄醚的去保护是采用不同于其他醚键断裂

8、的方法，因此在氢解去苄基时时,其它醚键可以保留。制备时，使醇在强碱下与苄溴其它醚键可以保留。制备时，使醇在强碱下与苄溴 (benzyl bromide)反应。反应。ROHROCH2PhNaH,PhCH2BrLi,NH3第二章第二章 保护基团保护基团MeOHONaOH,MeSO4(1) CrO3,AcOH(2)HBr,AcOHHOO2OOHMe MePhCH2BrMeMeO OCH2Ph(1) B2H6,THF(2)KOH,H2O2(3)KH,MeIMeMeO OCH2PhOMeH2,Pd COMeOMe MeOHKH第二章第二章 保护基团保护基团苄基还广泛用于糖及核苷酸中醇羟基的保护。苄基还广

9、泛用于糖及核苷酸中醇羟基的保护。三苯甲基醚三苯甲基醚亦广泛用于保亦广泛用于保护糖、核苷及甘油酯中的伯羟基，它的最大优点是可以选择性地与多元醇的护糖、核苷及甘油酯中的伯羟基，它的最大优点是可以选择性地与多元醇的伯羟基反应。伯羟基反应。OOCH3HHHOHOHHOHHOHTrCl/PyOOCH3HHHOHOHHOHHOTrTrCl= Ph3CCl制备时，以三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用，而以制备时，以三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用，而以 4-二甲胺基吡啶二甲胺基吡啶（4-dimethyl aminopyridine, DMAP）为催化剂。为催化剂。 它它 的的 除除 去去 基基 本本 都都 用用

10、酸酸 性性 条条 件，件， 如：如： HCOOH-H2O, HCOOH-tBuOH, 0.1 M HCl/MeCN等，也等，也 可可 用用 Na/NH3(l) 还还 原原 方方 法。法。一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团3. 形成叔丁基醚类形成叔丁基醚类 ROC（CH3）3它的制备一般用异丁烯在它的制备一般用异丁烯在Lewis酸催化下于二氯甲烷中进行。酸催化下于二氯甲烷中进行。叔丁基醚对酸的稳定性比甲醚、苄醚差，但是在非强酸性条件下仍然具有叔丁基醚对酸的稳定性比甲醚、苄醚差，但是在非强酸性条件下仍然具有一定的稳定性。对于亲核试剂、有机金属试剂、氢化物还原剂和催化氢化、氧化一定的稳定性。对于亲

11、核试剂、有机金属试剂、氢化物还原剂和催化氢化、氧化和可溶性金属还原等，叔丁基醚键不受影响。和可溶性金属还原等，叔丁基醚键不受影响。由于叔丁基碳正离子的位阻，叔丁基醚的保护法可用于选择性保护伯醇。由于叔丁基碳正离子的位阻，叔丁基醚的保护法可用于选择性保护伯醇。去保护去保护：叔丁基为一巨大的取代基（：叔丁基为一巨大的取代基（bulky group），），叔叔 丁丁 基基 醚醚 的的 除除 去去 要要 用用 中中 强强 度度 酸。无水酸。无水CF3COOH、Me3SiI或氢溴酸或氢溴酸/乙酸处理。乙酸处理。ROH+ROBF3 Et2O CatN HCl,MeOH,2第二章第二章 保护基团保护基团第二

12、章第二章 保护基团保护基团OOBuMetMeOOButMeOOHHHHHMeHHHMeCF3CO2H一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团4. 形成四氢吡喃醚形成四氢吡喃醚 ROTHP 制备时，使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。在中性和碱性条制备时，使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。在中性和碱性条件下稳定。件下稳定。OH+O+ROHO ORH+_H+O OR去保护：去保护：在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。有机合成中常引用这种在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。有机合成中常引用这种保护基团，其缺点是增加一个不对称碳（缩酮上的碳原子），使得保护基团，其缺点是增加一个不

13、对称碳（缩酮上的碳原子），使得NMR谱的解谱的解析较复杂。析较复杂。第二章第二章 保护基团保护基团CH CCH2OHHOCH2CCCO2HOOCH2C CHOOCH2C CMgBr(64%)OH+(90%)C2H5MgBrTHF(i) CO2(ii) H+,H2O举例举例1：举例举例2：第二章第二章 保护基团保护基团THPOOHMeMe( )1O3, MeOH/CH2Cl2( )2MeMeHOTHPOCOOH盐酸盐酸一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团5. 甲基硅醚和其它硅醚保护基甲基硅醚和其它硅醚保护基三甲硅醚三甲硅醚 ( ROSi(CH3)3 ，R-O-TMS)醇的三甲基硅醚因对催化氢化、

14、氧化和还原反应稳定而广泛用于保护糖甾醇的三甲基硅醚因对催化氢化、氧化和还原反应稳定而广泛用于保护糖甾类及其它醇类及其它醇 的羟基。的羟基。优点：引入和除去都很缓和，方便。优点：引入和除去都很缓和，方便。缺点：对酸和碱敏感，只能在中性条件下使用。缺点：对酸和碱敏感，只能在中性条件下使用。制备时，用三甲基硅烷与醇类在三级胺中作用制备时，用三甲基硅烷与醇类在三级胺中作用(无水环境）。无水环境）。此保护基在酸此保护基在酸中不太稳定，也可以用氟离子中不太稳定，也可以用氟离子F-脱去（脱去（Si-F的键结力甚强，大于的键结力甚强，大于Si-O的键能）。的键能）。可用二甲基硅基代替。可用二甲基硅基代替。第二

15、章第二章 保护基团保护基团ROH+ROSiMe3Et3N,THFMe3SiClH2O or H+ or OH-KF/CH3OH H2Ot Bu4N+THFF F- -由于三甲基硅醚的上述缺点，可用二甲基叔丁基硅醚由于三甲基硅醚的上述缺点，可用二甲基叔丁基硅醚ROSiMe2（t-Bu）代代替。制备时，用叔丁基二甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用，此保护基比三甲替。制备时，用叔丁基二甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用，此保护基比三甲基硅基稳定，对水、基硅基稳定，对水、CrO3、氢解及温和的还原反应都很稳定。由于叔丁基二、氢解及温和的还原反应都很稳定。由于叔丁基二甲基硅的位阻，硅烷化反应选择在伯羟基。甲基硅

16、的位阻，硅烷化反应选择在伯羟基。去保护同前，一般是去保护同前，一般是F-离子脱去。离子脱去。一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团ROHROSi(tBu)Me2SiCl,imidazolenBu4N+F-第二章第二章 保护基团保护基团一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团7. 形成乙酸酯类形成乙酸酯类 ROCOCH3ROHROCCH3O(CH3CO)2O,PyrK2CO3,aq MeOHPH=1-8稳定。有机金属试剂（如有机铜）、催化氢化、硼氢化物还原、稳定。有机金属试剂（如有机铜）、催化氢化、硼氢化物还原、路易斯酸、氧化反应等可以采用乙酸酯保护。路易斯酸、氧化反应等可以采用乙酸酯保护。去保护基去

17、保护基: 一般用碱水解或醇解法。一般用碱水解或醇解法。乙酯可与大多数的还原剂作用，在强碱中也不稳定，因此很少用作有效乙酯可与大多数的还原剂作用，在强碱中也不稳定，因此很少用作有效的保护基团。但此反应的产率极高，操作也很简单，常用来帮助决定醇类的结的保护基团。但此反应的产率极高，操作也很简单，常用来帮助决定醇类的结构。构。酯类保护：乙酸酯，苯甲酸酯，酯类保护：乙酸酯，苯甲酸酯，2，4，6-三甲基苯甲酸酯。三甲基苯甲酸酯。但涉及亲核反应，水解以及还原反应等，不宜用酯法保护。但涉及亲核反应，水解以及还原反应等，不宜用酯法保护。第二章第二章 保护基团保护基团一、羟基的保护基团一、羟基的保护基团8 .

18、形成苯甲酸酯类形成苯甲酸酯类 ROCOPh 制备时，用苯甲酰氯与醇类的吡啶中作用。苯甲酸酯较乙酯稳定，脱去苯甲酸酯需要较激烈的皂代条件。ROHROCOPhPhCOCl,PyrKOH,aq MeOH第二章第二章 保护基团保护基团二、二羟基的保护基团二、二羟基的保护基团在多羟基化合物中，同时保护两个羟基往往很方便。保护基即在多羟基化合物中，同时保护两个羟基往往很方便。保护基即可以是缩醛，缩酮，也可以是碳酸酯。可以是缩醛，缩酮，也可以是碳酸酯。1.缩醛或缩酮缩醛或缩酮 主要有苄叉、丙酮叉和脂环酮叉。当保护 1,2,3- 或 1,2,4- 三羟基化合物时，醛或者由醛衍生而来的试剂利于形成六员环， 即1

19、,3-保护；而酮或由酮衍生的试剂一般优先生成五员环，即1,2-保护。缩醛和缩酮在中性和碱性条件下稳定，因此，假如反应可以碱性条件下进行，则它们在烷基化，酰基化，氧化和还原时用于保护二醇。 去保护：二醇可用稀酸处理再生。苄叉基可用氢解方法除去。去保护：二醇可用稀酸处理再生。苄叉基可用氢解方法除去。第二章第二章 保护基团保护基团二、二羟基的保护基团二、二羟基的保护基团CH2OHCHOHCH2OHCH2OHCHOCO(CH2)14CH3CH2OHCH2OHCHOHCH2OC(CH2)14CH3OOOHOHPhHOOCH2OHCH3CH3PhCHOHCl(20%)CH3COCH3HCl(80%)CH3

20、(CH2)14COClH2/Pd(40%)(1)(2)CH3(CH2)14CO2Hdry HClH2O(43%)(1)(2)第二章第二章 保护基团保护基团OHOOHOHNOMeOOHONOMeOOOO,DMFHC(OEt)3H2SO4ONOMeOBnOOOONOMeOBnOHOOHTFA H2O第二章第二章 保护基团保护基团2. 碳酸酯（了解）碳酸酯（了解） 在吡啶存在下，光气与顺式 1,2二醇反应，给出在中性和温和酸性条件下稳定的碳酸酯，当在这种条件下进行氧化，还原时，能保护1,2二醇。用碱性试剂处理，则二醇从碳酸酯再生。 二、二羟基的保护基团二、二羟基的保护基团OOHOHPhCH2OCH2

21、OCH3OPhCH2OCH2OCH3COCl2Pyridine(1) HBr(2) (PhCH2O)2PO2N(C2H5)4OOOOPhCH2OCH2OOOOP(O(O)CH2Ph)2OHOCH2OOOOP(O(O)CH2Ph)2H2, PdOHOCH2HOOHOP(O(O)CH2Ph)2LiOHH2O第二章第二章 保护基团保护基团三、羰基的保护三、羰基的保护保护羰基的方法可分为二种：保护羰基的方法可分为二种：一是形成缩酮或其对等物一是形成缩酮或其对等物RC ORRCYXR 醛基是最容易形成缩醛或对等物的羰基，而苯环上的酮基则是反应性最低的羰基。一般说来，反应性是： 醛基 链状羰基（环已酮）

22、环戊酮 ，-不饱和酮 苯基酮。 缩酮的保护基不与碱，氧化剂或亲核剂（如H-，RMgBr）作用，而通常以酸水解回复到羰基。第二章第二章 保护基团保护基团X=OH， Y=OH Ketal (acetal) X=SH， Y=SH Dithioketal X=OH， Y=SH Oxothioketal X=OH， Y=CN Cyanohydrin 羟腈 X=NH2， Y=CN Aminonitrile X，Y=O-(CH2)2-O Dioxolane 二氧戊环 X，Y=O-(CH2)2-N Oxazolidine 咪唑烷 X，Y=N-(CH2)2-N Imidazolidine X，Y=S-(CH2)

23、2-N Thiazolidine 噻唑烷 X，Y=S-(CH2)2-S Dithiolane 二硫戊烷 X，Y=S-(CH2)3-S Dithiane 二噻烷 第二章第二章 保护基团保护基团三、羰基的保护三、羰基的保护二是使用隐藏性羰基二是使用隐藏性羰基C CC OO3CHOHC OPCCC CCOCH2Hg ,H2O2+C NCHOiBu2AlH第二章第二章 保护基团保护基团三、羰基的保护三、羰基的保护醛、酮的保护基相对种类比较少醛、酮的保护基相对种类比较少,常见的有常见的有 O,O-acetal, S,S-acetal， 以以 及及 O,S-acetal 等。等。 原因之一是由于它们已经可

24、以经受较宽的反原因之一是由于它们已经可以经受较宽的反应条件应条件,能够满足大多数的情况。能够满足大多数的情况。 1. 缩醛缩醛(acetal)、缩酮、缩酮(ketal) acetal制备：以醇在酸催化下与醛，酮类进行脱水作用。以醇在酸催化下与醛，酮类进行脱水作用。 一般的酸催化可用盐酸气一般的酸催化可用盐酸气HCl(g)，甲苯磺酸或酸性离子交换甲苯磺酸或酸性离子交换等。常用的脱水方法有加苯共沸，利用分子筛吸水，或加过量的等。常用的脱水方法有加苯共沸，利用分子筛吸水，或加过量的醇。醇。去保护：可以在酸性溶液中水解，或以丙酮进行置换生成丙可以在酸性溶液中水解，或以丙酮进行置换生成丙酮缩二醇和游离出

25、被保护的醛酮。乙二醇缩酮比二甲缩酮稳定，酮缩二醇和游离出被保护的醛酮。乙二醇缩酮比二甲缩酮稳定，但也可在酸性溶液中水解。但也可在酸性溶液中水解。第二章第二章 保护基团保护基团三、羰基的保护三、羰基的保护CHOMeClMeOMeOMeCHOMe(i)MeOH,H+(ii) tBuOK,DMSOpTsOH,H2O举例举例1：举例举例2：第二章第二章 保护基团保护基团OCHOAcOMeOH/HClRef, 15minAcOOCHOMeOMe举例举例3：举例举例4：HNEtHOOHNEtHOOOHNEtHOpTsOH,PhHHOCH2CH2OH85%(i)LiAlH4,THF(ii)aq.NaOH(i

26、ii) N HCl1第二章第二章 保护基团保护基团OH2O/H+(2)(1)NaOH,EtOHOBrOH+OHHOOBr问题：为何要对羰基进行保护？问题：为何要对羰基进行保护？ 三、羰基的保护三、羰基的保护第二章第二章 保护基团保护基团如不保护，则发生重排。如不保护，则发生重排。COOH(R)H+(R)COOHOOH(R)OH(R)OBrOor RONa/ROHH2ONaOH/BrOQuestion：OC2H5OO?OORRH三、羰基的保护三、羰基的保护2. 形成二硫代缩醛、缩酮形成二硫代缩醛、缩酮 用二硫代二醇作为醛、酮保护基，可生成类似的二硫代环缩醛、缩酮。保护基团在中性或碱性条件下是比较

27、稳定的。能耐受还原剂、有机金属试剂、亲核试剂和部分氧化剂。 优点：生成的硫代缩醛、缩酮对酸的稳定性更好。 缺点：硫代缩醛、缩酮对一些氧化剂敏感。硫代物可使一些金属催化剂中毒而失去活性。一些硫化物，如苄基硫则可发生催化氢解反应。R2C=OR2CSSMeI,H2O,MeOHHS(CH2)3SH,BF3 Et2O第二章第二章 保护基团保护基团OOHCROOOMeHSSHZn(OTf)2OMeOROSSSSLiAlH4SCH2OHSSSOMeOMeS1)PDC2)MeOCH=PPh3SSSOMe1)HCl/H2O2)NaBH43)PhCH2BrSSSOBnSOMeHgO,BF3Et2OOOHCOBn三

28、、羰基的保护三、羰基的保护OCOCH3CH3CO2HOCH3CO2HSOOHHOSOCOCH3HOHHO(69%)HSCH2CH2OHZnCl2LiAlH4(96%)Raney Niacetone(65%)第二章第二章 保护基团保护基团四、四、羧酸的保护羧酸的保护羧酸以酯的形式被保护，常常用甲酯或乙酯，然而为了除去它们需要强酸性或强碱性条件可能是不利方面。在这种条件下，叔丁酯（可用温和的酸处理除去），苄酯（能经氢解而脱苄基）或,-三氯乙酯（去保护作用可用包括锌引起的消除反应）可能更有用。CH2=CCl2+RCO2 ZnCl+_R COOCH2CClClClZn第二章第二章 保护基团保护基团四、

29、四、羧酸的保护羧酸的保护苄酯和叔丁酯保护广泛用于多肽合成中: H2NCH2CO2HPh3CNHCH2CO2HPh3CNHCH2CO2CO2C2H5Ph3CNHCH2CONHCHCO2CH2PhCH2PhH2NCH2CONHCHCO2CH2PhCH2PhH2NCH2CONHCHCO2HCH2PhPh3CCl(C2H5)2NHClCO2C2H5(C2H5)3NPhCH2CH(NH2)CO2CH2PhHClEtOHsolutionH2 Pd(90%)第二章第二章 保护基团保护基团四、羧酸的保护四、羧酸的保护苄基对于温和酸处理是稳定的，它易被氢解除去。苄基对于温和酸处理是稳定的，它易被氢解除去。H2N

30、CH2CO2HPhCH2OCONHCH2CO2HH2 Pd(60%)PhCH2OCONHCH2CONHCHCO2C(CH3)3CH2PhH2NCH2CONHCHCO2C(CH3)3CH2PhH2NCH2CONHCHCO2HCH2PhPhCH2OCOClPhCH2CH(NH2)CO2C(CH3)3(C2H5O)2P(O)2OHClbenzene(80%)第二章第二章 保护基团保护基团五、氨基的保护五、氨基的保护1、 N-烷基或烷基或 N-硅烷基作为保护基硅烷基作为保护基 最常用的最常用的保护基是保护基是 N-苄基保护苄基保护。苄基叔胺遇强碱、亲核试剂、有机金属试剂、。苄基叔胺遇强碱、亲核试剂、有

31、机金属试剂、氢化物还原剂等反应均不受影响。氢化物还原剂等反应均不受影响。 去保护去保护：通过催化氢化或可溶性金属还原：通过催化氢化或可溶性金属还原（钠（钠/液氨），苄胺可发生氢解。液氨），苄胺可发生氢解。硅烷胺硅烷胺遇水、醇分解，因此，反应需要无水条遇水、醇分解，因此，反应需要无水条件，件，水解则去保护水解则去保护。X=Cl,BrRNH2PhCH2XRNHCH2Ph+K2CO3H2,AcOH/ PdC10%第二章第二章 保护基团保护基团Me3SiClNEt3(or Pyridine)RNH2RNHSiMe3Aqueous condition+2、 N- 酰基型氨基保护基酰基型氨基保护基 这是一

32、类使用频率很高的保护基 , 尤其以碳甲酰胺类(carbamates) 保护基为主。 所有的这类保护基非常易于引入, 而除去保护基的方法又各有不同, 因此可供各种底物的反应进 行选择。典型的例子有 Boc, Cbz 和 Fmoc 三 种。OClOFmoc (9-fluorenylmethoxycarbonyl chloride)1) Boc (tert-butoxycarbonyl)vReagent: (Boc)2O; v BocON (2-(tert-butoxycarbonyloxyimino)phenylacetonitrile)vCleavage: TFA; TFA/CH2Cl2OOO(Boc)2O (tert-butoxycarbonyl anhydride)OO78-87%Pope, B. M.; Yamamoto, Y.; Tarbell, D. S. Org. Synthesis, 1988, Coll. Vol. VI, 418.Boc2O, NaOHH2O/t-BuOH20-40 oC, 12 hNH2CO2HHNCO2HOO100%Yamashir