重大关键核心技术研发项目资金申请报告

1、-重大关键核心技术研发工程资金申请报告工程名称 高端微纳光刻装备研发与产业化 工程承担单位 大维格光电科技股份 工程负责人 林森 联系 02-826 工程主持部门 省开展和改革委员会申报日期 2021 年3月11日 省推进战略性新兴产业开展工作领导小组办公室二一五年一月目录一、工程的背景和必要性3一国外现状：3二技术开展趋势：5三拟解决的关键技术和问题：6四对产业开展的作用与影响：7五市场分析：8二、工程法人根本情况9三、工程的技术根底13一成果来源及知识产权情况13二产学研合作情况15三已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限17四技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势22五重大

2、关键技术突破对行业技术进步的重要意义和作用24四、工程建立方案26一建立的主要容、建立规模26二工艺技术路线与技术工艺特点27三设备选型及主要技术经济指标28四产品市场预测30五建立地点、建立周期和进度安排、建立期管理等32五、工程投资34一工程总投资规模、资金来源、投资使用方案34二资金筹措方案35六、工程财务分析、经济分析及主要指标36一财务分析36二风险分析38三经济效益分析39四社会效益分析39八、资金申请报告41本工程符合?省“十二五培育和开展战略性新兴产业规划?中产业开展重点：七高端装备制造产业 -智能制造装备，同时也是二新材料产业中的上游核心设备，负责工艺流程中前端制程，具有关键

3、支撑作用。一、工程的背景和必要性国外现状和技术开展趋势，拟解决的关键技术和问题，对产业开展的作用与影响，市场分析。一 国外现状：高端微纳光刻装备是开展微纳新材料、半导体、MEMS、生物芯片、精细电路、平板显示、固态照明等领域技术研发和产品生产的必要设备。目前，一场新型柔性功能材料的革命性改变正在发生：超薄柔性材料的功能化，成为推动行业开展的革命性力量，使得精细加工制造技术向微米-纳米构造和智能制造开展。随着移动互联的高速开展，便携、可穿戴光电子器件需要进一步解决节能、低本钱问题。柔性电子制造领域国家方案与政府投入：美国FDCASU方案、在2021年美国“总统报告中将柔性电子制造作为先进制造11

4、个优先开展的尖端领域、2021年NASA制定柔性电子战略、2021年成了柔性混合电子器件制造创新中心；欧盟第7研究框架、地平线方案的印刷技术在柔性塑料基底上进展制备、英国“抛石机方案、建立英国的未来方案将塑料电子作为制造业主要开展领域；德国投资数十亿欧元建立柔性显示生产线；国?国绿色IT国家战略?2021年投资720亿美金开展AMOLED；日本TRADIM方案在2021年成立先进印刷电子技术研发联盟；我国电子信息制造业“十二五开展规划，新型显示器件、太阳能光伏等作为开展重点方向，国家自然科学基金12-5、13-5规划中将柔性电子作为微纳制造重要研究领域。柔性光电功能材料具有数以千亿计的潜在市场

5、需求。在下一代裸眼3D显示、大尺寸柔性触控屏、OLED照明的纳米衬底、可穿戴电子器件，具有微米级线宽-纳米构造，现有的光刻设备达不到这种精度加工的要求。微纳光刻装备是高端技术密集型微纳产业中的核心设备，负责工艺流程中前端制程。这些产业的开展，离不开微纳光刻装备。高端微纳光刻设备，对于科学研究中的工艺试验研究、新品研发、产品生产，实现跨越开展都具有重大意义。目前高端微纳光刻装备领域的研发和产业化工作开展较好的公司在国外，如德国Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech、美国Applied Material，能够对市场需求和设备研发制造形成良性的循环

6、，另外，国、日本等一些研发型公司也在进展该项工作的推进。我国科研院所在微纳光刻领域的研究，主要模式是采购国外科研型设备，进展工艺和器件的开发，对高端装备技术的研究开展较少。国产业环境的开展，产品创新对高端微纳直写光刻与加工装备具有大量需求；与国外企业相比，在技术沟通、效劳响应能力方面具有优势；国还缺乏“微纳级别的高端智能激光直写光刻装备的研发与制造企业，大维格公司通过国家863方案的重点工程的资助，掌握了微纳直写装备的核心技术，拥有人才团队，依托于国家发改委批准的“国家地方联合工程研究中心，公司在高端微纳智能装备的研发具有，同时公司也是创业板上市公司在产业化上也有优势。值得一提的是，本公司大维

7、格在国家863方案和省攀登方案支持下，在高端微纳光刻设备的研发上卓有成效，积累了假设干光机电关键技术，激光智能SLM干预直写仪器等设备填补行业空白，在100nm特征尺寸的直写系统上，研发成功HoloScanV、HoloMakerIII和iGrapher200等系列化的仪器设备，具有行业领先水平，在国著名高等研究院所应用，并出口日本、以色列等国。获2021年国家科技进步二等奖，省科技进步一等奖。二技术开展趋势：微纳米技术产业作为先导性领域，对我国新兴产业的创新开展中具有不可或缺的先导作用，高端微纳光刻装备是进展微纳技术的科学研究、新器件、新功能材料的研发与应用的核心仪器，具有关键支撑作用。举例说

8、明，“光电转换效率提升是新型光电器件LED，太阳能、新型照明、低耗能材料研究的核心问题，除了材料自身的光电特性之外，微纳构造分布与高效制备是推进高性能器件研制的重要方向，例如，在LED领域，纳米图形化技术是提升器件发光效率的重要途径，目标到达每瓦150流明以上，纳图形理论和实验研究是重点领域；薄膜太阳能电池的效率提升需纳米陷光构造衬底的制备；在平板立体显示领域，纳米线栅构造、3D位相延迟片偏振片、滤光片是提升显示光能利用率的重要研究方向；在光电子、微机电系统器件等科学研究领域，需要有高分辨、高效、3D曝光的多功能图形化手段和检测仪器，尤其在大尺寸纳米构造器件的无损检测是急需解决的重大问题；在国

9、防领域，超大幅面光栅的研制，需要有更好的检测仪器。在纳米印刷研究和开发领域，高端图形化与检测是提供无油墨纳米色彩图像品质的必由之路。因此，该类型的高端微纳图形化仪器设备的研制，可打破国外技术垄断，具有重大战略意义。微纳图形直写与检测仪器设备的研制，对于科学研究中的工艺试验研究、新品研发中的图形快速制备与检测，实现跨越开展具有重大意义。三拟解决的关键技术和问题：1. 紫外大视场平场成像光学系统研制：光学系统是微纳光刻装备的根底性关键部件，对装备的总体性能具有重要影响。针对各种不同影响，设备的光学系统将做相应的设计和研制。本公司在紫外位相-空间混合调制的微纳光学系统具有自主知识产权，是高效微纳米图

10、形光刻的有效解决手段。2. 自动化多轴控制技术：基于可编程多轴控制器的自动化控制技术，是精细光刻设备运行的关键技术。通过编写程序实现设备光、机、电的协调运行，实现设备的预期功能。控制技术包含了同步曝光技术、数据分割和上载技术、图像处理技术、高速多轴平台闭环控制技术等。本公司在基于PMAC、ACS等的控制器的控制技术有了长期研发根底，研发了飞行曝光技术、Z-校正自动聚焦技术、积分曝光技术等，为设备功能多样化开发积累了经历。3. 微纳数据处理技术：大幅面微纳构造图形的数据是海量的，例如，以数据解析分辨率为0.25um计算，1000mm×1000mm图形的数据量将到达16TB。微纳构造数据

11、，采用具有行业共性的GDSII、D*F、GERBER、CIF等格式。数据处理技术，流程是：数据格式转换-数据图形化-图形数据切割和组合。光刻是数据分批分队列上载到光刻设备，通过控制软件将图形光刻输出。4. 工艺开发和优化：针对具体应用方向，需要对光刻工艺进展探索和研究，通过测试和分析结果，对工艺的控制参数、部件参数进展优化，最终满足应用需求。四对产业开展的作用与影响：“十二五期间，国家和省鼓励新兴产业开展，省及地方将纳米技术产业作为主导开展产业，迫切需要研究并解决产业开展中缺乏上游微纳制造技术的共性问题。2021年，国家开展改革委深入贯彻落实创新驱动战略，以加快经济构造战略转型为主攻方向，以改

12、革创新促开展，切实推动高技术产业和战略性新兴产业平稳安康开展。其中的一个重点就是深入推进新型平板显示、高性能医学诊疗设备等重大创新开展工程建立，扩大节能环保、信息惠民、卫星导航、智能制造等领域的示应用，重点突破深刻影响产业开展的关键核心技术，推动传统产业改造升级，加快培育新的经济增长点。高端微纳光刻装备是上述领域上游所需的核心设备，具有关键支撑作用。中国版工业4.0规划?中国制造业开展纲要(2021 2025)?即将于2021 年出台。作为牵头制定中国制造业2025规划的部门，工信部已着手研究制定装备制造领域相关专项规划，规划重点实施领域为新一代信息技术产业、生物医药与生物制造产业、高端装备制

13、造产业、新能源产业等四大产业领域。本工程突破大尺度幅面、纳米构造及纳米精度、微纳构造器件与材料的低本钱制造关键技术，开发高端微纳制造装备，满足提升产业创新能力，促进区域经济开展方面的需求，建立微纳构造器件功能设计、微纳米柔性制造关键技术与装备、材料应用及加工检测创新平台。对区域纳米技术创新体系的完善，对相关产业转型升级、高技术企业孵化、高端人才培养与引进具有重大作用。高端微纳光刻装备对多个产业的开展具有重要作用：1. 平板显示和触控屏：用于光掩模版制备、大幅面触摸屏电路图形化光刻，例如55寸的大尺寸电容触控屏电路制备等。2. TV超薄背光源BLU：平板电脑、液晶显示器、电视机的超薄化趋势，用于

14、超薄导光板的热压模具制备例如70寸微透镜金属压印模具。3. 高密度柔性电路、IC载板：10m以下线宽工艺，是下一代集成电路3D封装必须的关键技术，目前需要0.25微米分辨率的高精度直写光刻设备。4. MEMS芯片：MEMS芯片制备，需要解决厚胶图形化光刻工艺。5. 公共平安：特殊微纳构造的视读特征，是实现证卡平安、产品保护、金融平安等领域公共平安的有效手段。6. 科研、国家工程需求：微纳加工技术，是诸多科研领域的共性技术，小型微纳光刻设备，可用于高等院所的实验室，特殊定制的微纳光刻装备，可以效劳于国家重大工程。五市场分析：柔性电子技术已经并将开辟出许多创新的电子产品应用领域，从而，带来一场电子

15、信息技术革命。据IDTechE*预测，2021年柔性电子的市场销售额将高达49.3亿美元，2021年为469.4亿美元，2028年为3010亿美元。柔性电子制造技术和装备是穿戴式电子、新能源、高端显示、物联网和智能家居领域开展的关键技术，可提供原创性柔性电子器件、知识产权和关键技术，能为新兴市场培育、高层次人才培养提供新机遇，效劳并推动相关信息产业的跨越开展。二、工程法人根本情况工程法人的所有制、主营业务，近三年的销售收入、利润、税收、固定资产、资产负债率、银行信用等级、企业技术开发、经营管理、资金筹集、市场开拓等情况。企业名称：大维格光电科技股份企业性质： 股份制企业，深交所创业板上市公司代

16、码：300331企业地址：工业园区新昌路68号；资本：9300万人民币主营业务：激光光刻直写系统与纳米压印装备、LED纳米图形光刻设备、OGS掩膜和灰度光刻设备；光学镭射膜：定制光学镭射印材、防伪解决方案和材料；平板显示照明：超薄导光板、大尺寸电容触控屏非ITO；光掩模板。公司已于2021年6月在深交所创业板上市股票代码：300331，银行信用等级：AA级近三年财务情况： 万元年度销售收入利润税收固定资产资产负债率202121871.82459.281871.355030.3319.16%202124572.321936.681084.9412388.616.83%202127661.8630

17、12.932021.4614087.2417.50%公司建有国家级研究平台“数码激光成像与显示国家地方联合工程研究中心国家发改委批准，2021年，设有“省微纳柔性制造工程技术研究中心2021年，省政府批准，拥有6000平米用于工程研究和产品中试的实验室。图1 公司场地具有面向新型显示、照明和成像领域的微纳制造工程研发与检测条件。设有四个研发方向：先进光学显示器件、微纳制造技术与装备、柔性材料与器件和纳米印刷技术。公司建有省院士工作站和全国博士后工作站。图2 国家工程中心和院士工作站公司拥有国际一流创的新团队，省科技创新团队。重大成果获得：国家科学技术进步二等奖2021年度、省科技进步一等奖20

18、21年度，2007年度、第十二届、十四届“中国优秀专利奖2021年，2021年、第七届省专利金奖等奖项。为此，公司荣获首届省企业技术创新奖全省19家企业。图3 重大科技获奖公司拥有授权创造专利49项，其中与本工程相关自主研发设备和技术已获得创造专利16项。公司建立了以市场为导向、自主创新为推动力的经营管理制度，从产品设计、品质管理、客户沟通与效劳、到产品质量体系认证、新品导入与跟踪，有完整的管理制度，力图与国际体系接轨。形成了一个研发、设计、装备改进、制程提升、各户认证的快速反响能力。对于新品导入工程，成立工程领导小组，以董事长为负责人，总经理执行人的工程领导组，协调与处理工程研发、市场实施过

19、程中的各种问题。业第一个研发成功并批量化14寸0.5mm厚度LED超薄导光板卷对卷产线，实现产业应用； · 创造并实现消色差光学膜的高效光刻方法； · 创造了“宽幅衍射光变图像高速光刻方法与设备：解决了微纳构造工业化制备的行业难题； · 率先建立了“微纳柔性制造生产线，从“微纳构造设计、材料特性研究、重大装备研发和成果产业化工艺链； · 第一个研制成功“3D光变图像全息制版系统实现了全息图像的微纳构造表达，并推进了立体图像的工业化应用； · 创造“定位激光转移纸印刷第一色概念，实现产业化；· 第一个研发成功数字化“数码激光全息制版系统

20、，国外广泛使用； · 提出并实现了导模共振纳米光子晶体变色薄膜。三、工程的技术根底成果来源及知识产权情况，产学研合作情况，已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限，技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势，该项技术的突破对行业技术进步的重要意义和作用。一成果来源及知识产权情况核心技术来源于大维格公司的技术积累和产学研合作，公司在高精度激光微纳米直写和加工技术方面开展了长期研发创新，主要包括微光学元器件开发、纳米精度光机构造研发、4-6轴运动控制技术、CCD影像检测处理技术、海量图形数据处理和传输技术等，为本工程开发积累了大量核心和关键技术。依托单位是本行业惟有国家工程研究中

21、心“数码激光成像与显示国家地方联合工程研究中心国家发改委批准，2021年，说明了行业领先地位。目前，我国唯一具有大面积微纳金属模具制备能力、能够实现大尺寸纳米尺度图形掩模、配套纳米压印全制程、拥有自主知识产权，目前支持42尺寸微纳透明导电材料。依托单位在微纳制造装备的应用根底研究、技术创新、材料研发和高端装备研制方面，形成了完整的创新链，并已在多个产业实现规模应用。本工程经过国家重大863专项的支持，已经完成了技术攻关，即将进入产业化阶段。在激光直写和加工技术领域，获得创造专利授权16项：专利名称专利号光学加工系统和方法ZL 2.4光学加工系统和方法ZL 7.3光学加工系统和方法ZL 2.0一

22、种步进式光学加工系统和加工方法ZL 9.9一种透明导电膜及其制作方法ZL 8.9一种光刻装置和光刻方法ZL 8.*一种金属母板的制作方法ZL 2.3一种导光膜制作装置ZL 9.3一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法ZL 2.5并行光刻直写系统ZL 8.4用于紫外激光干预光刻直写系统的光学镜头ZL 7.1多视角图形输入的三维图形直写方法ZL 6.7一种彩色滤光片的制作方法与装置ZL 1.2一种精细数字化微纳米压印的方法ZL 7.6对光滑外表进展微米构造光刻蚀的方法及装置ZL 7.8衍射光变图像的高速激光直写方法和系统ZL 5.2受理创造专利17项。专利名称申请号一种导光膜制作装置PCT/2021/0

23、79736APPARATUS FOR MANUFACTURING LIGHT GUIDE FILMUS13583290一种紫外固化微纳米构造拼版装置及拼版工艺4.*三维激光打印方法与系统1.1分束器件、多光束干预光路系统3.*纳米图形化衬底制备装置与方法4.5一种标签签注方法与系统9.8连续可调构造光照明的超分辨显微成像方法与系统PCT/2021/087883超薄触控传感器及其制作方法7.9一种三维码及其制作方法3.5一种激光直写系统与光刻方法1.9一种变色烫印膜及其制造方法8.*掩膜版及其制备方法和图形化方法7.8彩色动态图的激光打印装置及方法8.2一种无掩膜激光直写叠加曝光方法4.6一种多

24、视角像素指向型背光模组及裸眼3D显示装置2.3基于大面积多台阶二元光学元件的激光直写方法7.9软件著作权4项：登记号软件名称2021SR037129基于D*F的并行激光直写加工图形处理软件V1.02021SR037127基于Direct*的空间光调制器图形发生软件V1.02021SR041635大维格频闪曝光直写系统2021 SR017923HoloMakerIIIC SystemV1.0获奖清单如下：工程名称奖励名称获批时间大幅面微纳图形制造技术及产业化应用国家科技进步二等奖2021.12卷对卷纳米压印关键技术及应用省科学技术进步一等奖2021.2面向微纳柔性制造的创新工程省企业技术创新奖2

25、021.2衍射光变图像高速制作方法与系统中国专利优秀奖2021.11微光变图像的激光直写方法及装置中国专利优秀奖2021.11宽幅智能激光SLM光刻系统与应用省科学技术进步一等奖2021.5亚波长光学制造技术研究与应用教育部科学技术进步二等奖2021.1一种消色差变色银衍射图像的制作方法省专利金奖2021.12微构造制造的高效光刻技术与应用教育部技术创造二等奖2021.1二产学研合作情况“十二五期间，在国家高技术研究863方案方案重大工程、国家自然基金重点工程的资助下，大维格光电科技股份与相关业企业和高校协同合作，攻克了“微纳柔性制造工艺装备、“3D成像纳米印刷技术、“彩色全息显示的根底问题方

26、面关键根底问题和技术难题，取得国外瞩目的重大成果，引起国外同行的高度关注。第一，前瞻性重大技术创新取得突破。从原理上，现有的技术手段如金刚石加工仅能加工柱光栅膜的模具不能加工全息原理的裸眼3D显示，必须突破纳米加工技术瓶颈。大维格在高端微纳装备及关键技术方面取得重大研究进展，在国际上率先实现“四独立变量微纳构造快速制造、“大幅面微纳混合光刻等新技术方法，研发成功“纳米级制造设备，使得中国在“大幅面微纳构造制造方面拥有了自主高端装备。先后获国家科技进步二等奖2021、省科技一等奖2021和中国专利奖2021。因此，在纳米加工设施、知识产权方面，为本项建议任务提供关键手段支撑。第二，需求牵引的组织

27、模式创新。通过运行机制的创新，纳米技术从实验室走向产业应用，形成上下游的创新链，协同产业和高校共同推进在纳米印刷3D图像印刷、柔性电子微构造透明导电膜、平板显示超薄导光板的产业应用，并取得重大进展，培育了1家上市公司2021年上市和5家国家高新技术企业。从根底环节创新、整个过程的技术工艺创新，直至推进产业应用，探索了产业链创新的成功路径，为取得颠覆性重大目标产品提供了组织上经历。第三，以重大任务目标产品为目标的创新能力建立。大维格公司组建了“国家地方联合工程研究中心数码激光成像显示国家发改委2021年批准，6000平米研发场所，1万平米中试平台。在重大目标产品的取得突破，得到同行专家、领导和市

28、场高度评价。华为科技、京科技、龙腾光电、大维格光电等一批企业具备合作推进裸眼3D显示关键技术和部件研制的根底能力。 为今后以重大任务位目标的组织实施，提供了更好的创新平台和产业合作根底。第四、培养一支敢于承担风险和奉献、能承担重大任务的团队。通过协同合作和体制机制改革，培养了一支高素质的团队，团队成员以中青年成员为主，包括国家863方案重大工程首席专家，千人方案人才、海外特聘教授和国出色年轻人才构成的充满活力创新与创新混合的团队。在 “裸眼3D显示的根底问题，“纳米构造3D成像原理、“纳米导光板研究方面做了大量工作，敢于突破和自主创新。三已完成的研究开发工作及中试情况和鉴定年限1、根据不同的行

29、业应用需求和加工的尺度不同，已完成四种类型样机的研发：1、高速激光图形直写光刻装备应用样机：iGrapher系列iGrapher专门用于精细电路、光掩模光罩MASK、微纳构造无掩模光刻的“高端激光直写设备(UV laser pattern generator)。幅面：8英寸-65英寸，应用90nm-130nm节点0.22um-0.5um光学分辨率柔性电路和光掩膜板制备。iGrapher突破了一系列关键难题技术，实现了上述大幅面微图形高速直写功能，对光掩模文件、集成电路文件全兼容。iGrapher采用高速空间光调制器spatial light modulation，阵列图形输入模式可达8k帧，3

30、D导航飞行曝光3D navigation flying e*posure、纳秒时序平铺曝光parallelism、 nano-second patterning技术，专用于光掩模、柔性电子的微图形线宽1um-10um、LIGA工艺、微纳模具的高效光刻。2、多功能微图形光刻设备工程样机：MicrolabMicroLab100是一款适应微构造图形光刻的名副其实的小型微加工实验室，系统操作方便在微纳构造功能器件、生物与微纳界面作用微流控、基因芯片、探针和光电子、微光学等研究中，MicroLab是一种理想的、高性价比的微加工手段。尤其适合于小尺寸精细掩膜、CGH、微光学器件、光束整形、MEMS、衍射与

31、折射光学阵列的研制。MicroLab100支持灰度光刻grayscale lithography，拖曳曝光形状光阑积分曝光laser dragging，图形化parallel patterning，3D形貌等高级加工，比方，闪耀槽型、微透镜阵列、多台阶图形、点阵图形等，支持薄胶和厚胶工艺。支持D*F，GDSII，位图文件。只要有根本计算机背景和图像知识，适当培训后，就可以上机操作。支持24小时不连续运行，运行本钱低，占地4平方米，根本免维护。适合于科学研究、研究生培养之用途。3、大幅面微纳金属模具激光加工设备工程样机：iEngraver大幅面激光精细微加工设备，用于超薄TV背光源金属模具制备。

32、可实现幅面1570寸。大尺寸精细导光板的模具光学性能为业做好水平，精细模具加工设备与工艺成熟度得到充分验证，加工的超薄导光板的光学效率、导光均齐度为业最高水准。性能参数：最小微构造尺寸15um激光光源：30kHz10W机台：花岗石机台光学头单次扫描面积：10mm*10mm - 15mm*15mm加工速率：4-10小时不同模具尺寸和光学网点运动平台：直线电机驱动定位精度：0.1um行程：根据型号确定软件：光学设计文档格式，或*.D*F；*.ARR配套：整套网点设计和处理工艺4、激光动态图形签注系统实现了不需要位移和旋转的3D动态图形的实时签注方法和关键技术。采用曲面扩散片实现3D动态图像签注的景

33、深变化，实现签注的动态聚焦，同时设计不同棱角位置与棱角锲角，通过软件控制记录图形的位置，分别对应在相应锲形棱镜位置，一次性签注将能获得不同再现视角的角度与方向的效果。签注效率高，适合工程化应用。能够同时满足变景深、多视角签注的要求，提高了签注图形技术门槛。图形签注仅需5秒至10秒，能满足激光签注的工程化应用。在工业化应用方面，可应用在银行卡、护照、等证卡的个性化序列号和动态图形的签注，号牌激光平安防伪签注，食品平安三维码溯源签注技术等公共平安领域上。2、完成场地建立：2000平方米场地。1、机械部件装配间2、电气部件装配间3、总装调试间4、部件、材料、成品仓库5、员工培训室6、生产调度室鉴定年

34、限：本工程的鉴定年限为2021年3 月。四技术或工艺特点以及与现有技术或工艺比较所具有的优势技术特点：1攻克了空间-位相调制的图形化技术，微米-纳米混合光场调制，从而能实现l/4构造分辨率的国际领先水平在355波长下，实现100nm构造；2纳秒时序3D导航飞行曝光，实现大面积微纳米构造的快速光刻，定位精度到达±20nm；3海量数据处理和直写软件与硬件技术；支持40TB的数据处理。44-6轴的纳米精度控制技术；5微纳功能材料加工的工艺：力图在国际上率先实现3D纳米印刷技术，为柔性材料功能化提供关键技术手段。在应用工艺上，重点攻克在显示、新型照明和触控传感材料低本钱制造技术，推进展业合作

35、和潜在重大应用，与相关产业例如华为共同研发攻关“微纳米构造手机功能光刻工艺研究。技术先进性优势：1、微纳直写光刻与加工设备，综合了微纳光学、精细机械、数控电气、纳米精度控制，利用计算机或工作站进展4-5轴的光机电联合控制，高端技术的集成度高，设备自动化化运行，属于高端智能装备。2、该类加工装备，加工宏观尺寸到达米级，微构造的尺寸到达亚微米级，部件运行精度、数据分辨率定义，均需到达100纳米以下级别，实现大幅面、微构造、高精度特征的统一。3、海量数据：以0.1微米分辨率电路为例，200mm*200mm的电路的数据量为4.0TB, 一幅600mm*1000mm电路数据达60Tb,因此，这种精细电路

36、图形的海量处理技术和软件、数据传输与压缩、光电转换和光刻模式等，具有极高难度。4、微纳直写光刻与加工设备，是多行业生产工艺流程中的关键核心装备，用于提供光掩模板、微米线宽电路制备与模板、或进展直接图形构造加工，比方超薄导光板模具，是微纳功能材料裸眼3D显示、柔性电路、触控、器件背光源等等行业不可缺少的工具。工艺优势：本工程申请单位，长期从事微纳制造领域的研发创新和产业化，尤其在超精细大幅面光刻直写等装备制造方面具有10余年的工艺积累，公司是我国唯一具有整套微纳米柔性制造产线的企业，具有国际领先水平。国外同行和专家参观后给予充分赞赏和肯定，为此，公司曾承担了国家863方案和电子开展基金等工程，并

37、圆满完成。在微纳精细制造领域，工程申请单位无疑在国同行中具有领先地位，并在国外同行中具有影响。工艺设备上：申请单位是我国唯一的具有独立研制“高端激光直写光刻与纳米压印设备企业，厚胶曝光设备800mm*1300mm，拥有自主研发的“大型紫外激光直写设备iGrapher820-1500，1100mm*1300mm，支持5.5代线光掩模板的制备，在光刻分辨率、CD和综合写入速率等，具有国际同行的先进水准。图4 高端装备实验场地国产业环境的开展，对高端微纳装备具有大量的需求；与国外企业相比，在技术沟通、效劳响应能力方面具有优势；国还缺乏微纳装备企业，维格公司掌握了核心技术，拥有人才团队，依托于“国家地

38、方联合工程研究中心，维格公司具有高端装备产业化的优势。图5 国家地方联合工程中心配套生产条件五重大关键技术突破对行业技术进步的重要意义和作用我国的信息显示、光电子等行业已有很大的产业根底，省纳米产业在全国具有优势地位。“十二五期间，省大力开展战略新兴产业，重点开展新能源、新材料、高端制造、生物技术和新医药、节能环保和新一代信息技术等六大新兴产业。在这些产业中，新型显示、固体照明、纳米印刷与柔性光电子等是国家中长期科技开展规划、省科技规划中的重点开展领域，与“柔性微纳材料与制造技术严密相关。工业园区布局了国际科技园、纳米城等载体，提供了孵化等系列效劳，是纳米技术产业化基地。纳米城将占地约100公

39、顷，规划建筑面积约130万平方米，于2021年11月启动建立，重点开展纳米新材料、纳米光电子、微纳制造、纳米生物医药和纳米环保等五大产业领域，以构建产业生态圈。大维格在高端微纳装备上的自主研发能力，无疑提高了自身的竞争优势和可持续开展性，根本不依赖于国外的设备限制。为此，国家、省部相关领导和业专家屡次视察和调研本工程申请单位的高端装备和平板显示关键器件的研发和产业化进展和做法。国家发改委副主任朱之鑫、工信部副部长波、科技部副部长健林等重要领导视察后，均给予充分肯定和鼓励。 国家发改委的祁司长等领导视察，对申请单位在高端微纳光刻设备和平板显示领域研发创新和产业化给予肯定。工信部波部长考察大维格人

40、大副委员长视察大维格并题词 科技部健林副部长视察维格公司图6 领导肯定四、工程建立方案工程建立的主要容、建立规模、采用的工艺路线与技术特点、设备选型及主要技术经济指标、产品市场预测、建立地点、建立周期和进度安排、建立期管理等。一建立的主要容、建立规模面向平板显示和大尺寸电容触控屏、精细柔性电路、精细PCB及封装、MEMS、公共平安、科研等不同行业应用，用3年时间建立达产业化阶段，开发出相对应的、具有国际先进水平及满足工厂产业需求的微纳加工装备，完成四种型号设备的研发及产业化：1、大幅面掩模版制版光刻设备：大型紫外高速图形化直写设备，用于55英寸以上平板显示、大尺寸电容触控屏生产用掩模版制备。主

41、要技术指标：典型线宽2um，图形化光刻速度4000mm2/min。2、MEMS、封装光刻机：中小型紫外图形化直写设备，用于6-8英寸MEMS、封装等工艺制程，可适用于厚胶工艺。可用于科研院所的器件工艺研究和小批量制备。主要技术指标：典型线宽1um，精细图形的光刻速度500mm2/min，可适用厚胶光刻工艺大于10um。3、精细柔性电路、PCB无掩模光刻机：高速无掩模曝光机，用于下一代10um以下精细电路生产。主要技术指标：最小线宽5um，光刻速度大于20000mm2/min。4、背光模具光刻机：大幅面激光精细微加工设备，用于超薄TV背光源金属模具制备。主要技术指标：导光构造最小尺寸15um，加

42、工幅面大于70英寸。建立期新增场地建立2000平米，累计完成销售1.25亿元，利润1664万元，税收1165万元。工程建立完成后，形成年销售规模大于1亿元的高端微纳光刻直写装备制造和销售能力，同时带动下游相关应用行业，产生10亿左右的经济效益。基于公司在高端智能装备研发和应用的技术积累，整合资源，合理利用自有和外部资金、人才资源，建立高端成套微纳光刻装备的研发、产业化、销售、效劳条件，面向国际市场，扩大面向多领域的产品线，建立国际一流的综合性微纳装备公司，与德国Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech等进展市场竞争，成为国际微纳装备领域的重要供

43、应商。二工艺技术路线与技术工艺特点1、设备制造工艺路线：总体方案设计光、机、电分解设计设计综合评审图纸加工采购设备组装编程调试测试检验交付。2、技术工艺特点：1） 技术和知识密集型工艺。2） 无化学试剂、无排放、无污染。3） 低能耗。4） 场地占用面积小。三设备选型及主要技术经济指标1、检测设备选型1共焦显微镜：型号：奥林巴斯OLS4100主要技术指标：最高横向分辨率0.12m、纵向分辨率1nm。2激光干预仪型号：雷尼绍*L-80主要技术指标：线性测量精度±0.5ppm、分辨率1nm。3激光功率计型号：Vega+3A/30A主要技术指标：10uw-3w/20mw-30w4自动图形检测

44、仪型号：LI712主要技术指标：检测分辨率0.5m；检测速度0.19 sec/ cm2。5扫描电镜型号：Sigma/VP主要技术指标：分辨率1.3nm 20KV、1.5nm 15KV、 2.8nm 1KV。2、技术经济指标还是要补充一下技术指标：1技术指标：1、大幅面掩模版制版光刻设备：主要技术指标：典型线宽2um，图形化光刻速度4000mm2/min。2、MEMS、封装光刻机：主要技术指标：典型线宽1um，精细图形的光刻速度500mm2/min，可适用厚胶光刻工艺大于10um。3、精细柔性电路、PCB无掩模光刻机：主要技术指标：最小线宽5um，光刻速度大于20000mm2/min。4、背光模

45、具光刻机：主要技术指标：导光构造最小尺寸15um，加工幅面大于70英寸。(2)经济指标工程面向不同行业市场需求，完成四种型号的高端微纳制造装备的研发和产业化，执行期累计完成销售额1.25亿元，净利润1,665万元，税收1165万元。四产品市场预测国市场：1高校科研院所和研究构造，各大测试加工平台。目前已经成功推广的代表性客户有哈工大、南开大学、大学、中科院纳米所、通用识别研究所等。而近年来，随着各大高校和研究机构对微纳学科加大投入，本工程将有更大的应用市场替代国外进口设备。2企业：由于目前国的企业升级转型自身的开展需求，也在研发与测试仪器上加大了投入，同时，企业端的客户认证需要，对产品本身的测

46、试要求提升。例如，在平板显示行业，需要对各类材料的外表构造形貌的参数进展测量，在微加工行业，需要对加工的微构造的尺寸进展标定。据预测，仅国就有数百台的市场需求。为此，本工程会根据客户对仪器设备的具体要求，开发不同类型的仪器。确保能够满足行业应用需求，替代进口。国外市场：由于前期本公司已经开展了仪器设备产品开发工作，通过市场的反响可以看出，由于各国都将微纳制造作为重点开展的领域，国外很多高校、企业都对本公司现有的纳米图形化仪器表现出高度关注。目前，现有的仪器设备已经出口日本、国、以色列的企业，作为研究工具。由于本公司在这方面领先的技术根底以及有力的价格竞争优势，国外市场也将作为今后本工程的目标市

47、场。工程目标产品采取局部型号市场推广，局部型号提供应合作公司新兴产业应用方向进展产品培育的模式。合作公司的光导膜、大尺寸电容触摸屏等产品，当前效劳的企业大于30家。公司的技术积累和新品以及开发能力得到合作企业的好评和认可，并与业一批企业形成长期严密合作关系。图7 行业合作五建立地点、建立周期和进度安排、建立期管理等1、建立地点：建立地点位于大维格光电科技股份新厂区工业园区新昌路68号。公司在工业园区拥有110亩建立用地。目前，建有4.5万平米厂房。其中，本工程前期投入已建立了2000平米厂房，拟增加面积2000平米净化面积。其中，黄光净化区1500平米、检测面积500平米。图8 工程已建立场地

48、2、建立工期和进度安排：工程完成期限：自工程下达之日起3年完成。进度安排：第一年，完成4套工程样机制造，二台为紫外高速图形直写光刻设备，另二台为532nm绿光，大功率微纳直接加工设备。以这些样机作为实验平台，用于设备应用开发的性能测试与验证、产品市场展示与应用，以及各个功能模块的研发。建立高水平专业销售团队，储藏人才队伍。公司现有微纳光刻设备产品，本年度实现销售2500万元。第二年，持续开拓新市场，开发面向3-4个行业的微纳光刻设备。建立完整的设备销售、量产和效劳团队，实现设备在精细柔性电路、大尺寸液晶面板背光源等行业应用，实现销售大于4000万元。第三年，开拓TFT掩模版、MEMS等行业，实

49、现高端光刻设备的规模化量产，实现销售收入大约6000万元。工程建立完成后，形成年销售规模大于1亿元的高端微纳光刻直写装备制造和销售能力，同时带动下游相关应用行业，产生10亿左右的经济效益。3、建立期管理：公司已通过ISO 9001质量管理体系认证和ISO 14001环境管理体系认证。产品涉及大尺寸触控屏、光掩模版、高端装备、国家公共平安证卡和包装印刷。公司地处中国-新加坡合作的工业园区科教创新区，因此，公司对产品品质与原材料环保极其关注，有严格的质量保障和检测体系，购置了先进的检测仪器，建有净化车间和检测分析实验室，在原料、生产制程与过程管控等各个环节均建立了环保控制程序。工程实施将严格按照质

50、量管理体系建立标准化工艺流程。建立工程责任人以及工程进展报告制度。对于工程工程建立严格执行“四制，即法人责任制、工程监理制、工程招投标制、工程合同制。本工程的建立将按照公司现有质量及环保体系严格管理。五、工程投资工程总投资规模，资金来源及筹措方案、投资使用方案、贷款归还方案。一工程总投资规模、资金来源、投资使用方案本工程总投资10000万元，前期已投入2000万元企业自筹资金包括基建和装配车间，局部样机设备紫外激光直写光刻设备、激光签注设备、扫描光刻设备等。类别投资额万元设备106根底建立(厂房、配电、污水、道路、装修)727原材料227试制费940合计2000新增投资8000万元，为企业自筹

51、资金投入。申请专项经费补助2000万元。类别金额(万元)建筑工程费净化1100设备购置及试制费1700其他工程和费用200铺底流动资金5000合计8000附: 主要设备购置清单万元序号设备名称设备型号拟引进国别单价台数总价 1 共焦显微镜 le*t4000  日本 75 2 140 2 激光干预仪 *l80  英国 1002 200 3 激光功率计 NOVA2  以色列 45 20 4 自动图形检测仪 la

52、sertec *700  日本 1000 1 1000 5 扫描电镜 zeiss EiGMA  日本 3001 300合计111660二资金筹措方案工程总投资10000万元，前期企业自筹已投入2000万元。新增投资8000万元，来源于公司自筹资金。申请专项经费补助2000万元。公司自筹资金来源于公司自有资金和利润积累的再投入，公司股东会议一致通过该项出资方案。六、工程财务分析、经济分析及主要指标部收益率、投资利润率、投资回收期、贷款归还期等指标的计算和评估，工程风险分析，经济效益和社会效益分析。一财务分析生产和销售

53、预测： 单位：万元年度第一年第二年第三年第四年第五年合计年销售量套5050486593306销售单价(未税)50.0080125154161570.14销售收入(未税)25004000600010,00015,00037,500.00生产本钱1,452.02,192.43,407.05647.8847421173.2主营业务税金及附加5265384163331期间费用1,500.0012001000200020007700其中: 营业100010002000管理150012001,000.00100010005700财务0营业利润-457.00581.601,540.002,268.204,363.008,295.80工程三年财务现金流量表： 万元工程第一年第二年第三年第四年第五年合计1现金流入2,7004,2507,30010,30015,30039,8501.1产品销售收入25004,0006,00010,00015,00037,5001.2折旧2002503003003001,3501.3回收固定资产余值-1.4回收流动资金10001,0001.5营业外收入-2现金流出5000.52