PDMS微流控芯片中真空氧等离子体键合方法_第1页
PDMS微流控芯片中真空氧等离子体键合方法_第2页
PDMS微流控芯片中真空氧等离子体键合方法_第3页
PDMS微流控芯片中真空氧等离子体键合方法_第4页
全文预览已结束

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

1、PDMS 微流控芯片中真空氧等离子体键合方法沈德新, 1张春权, 罗仲梓, 22周勇亮, 张 峰, 11李 佳, 1田昭武1(1. 厦门大学化学系, 固体表面物理化学国家重点实验室, 福建厦门361005;2. 厦门大学萨本栋微机电研究中心, 福建厦门361005E -mail:y lzhoujingx ian. xmu. edu. cn摘要:聚二甲基硅氧烷(PDMS 由于具有良好的力学性质和光学性质以及生物相容性等特点, 是极具前景的L TAS 应用材料1。由于固化后的PDMS 表面具有一定的粘附力, 一对成型后的PDMS 基片不加任何处理, 即可借助分子间的引力自然粘合, 但这种粘合强度有

2、限, 容易发生漏液。Duffy 等人采用高真空氧等离子体对PDM S 进行处理, 实现了PDMS 芯片的永久性键合。但这种键合技术需要昂贵的高真空等离子体发生设备。孟斐3等人报道了利用紫外光照射对PDMS 芯片表面进行改性后键合的方法。本文介绍一种在中真空(低于13. 33Pa 进行氧等离子体处理PDMS 芯片基片进行键合的方法。处理在配备普通油封式真空泵的国产GP08-2/QZ型双管等离子去胶刻蚀机上进行, 处理过程为:将从模具上新鲜剥离的两片PDMS 基片置入石英腔内,抽真空到真空度(本底真空度 为13. 33Pa; 用氧气反复冲洗真空腔至少2次, 将其残余气体排除; 关闭氧气流, 把真空

3、腔抽真空到真空度(氧气压力 为13. 340Pa; 加高压14002000V 使真空腔内的氧气起辉, 对PDM S 基片表面进行氧等离子体轰击540s; 将经氧等离子体处理好的PDMS 芯片组件现场贴合后, 100e 保温1h 。经处理后, 粘结力增强, 可实现PDM S 芯片的永久封合, 同时亲水性得到改善。与文献报道的高真空氧等离子体处理方法相比, 设备简单、操作时间短、片基升温少、利于保持芯片的表面状态, 是一种简单、廉价、高效的PDM S芯片表面处理和键合方法。图1与图2是利用该技术键合前后的SEM 照片。关键词:微流控系统; PDMS 芯片; 键合; 中真空中图分类号:TN405 文

4、献标识码:A 文章编号:图2 键合后微通道剖面扫描电子显微镜(SEM 图图1 未键合的微通道剖面扫描电子显微镜(SEM 图21671-4776(2003 07/08-0369-02Bonding for poly(dimethylsiloxane microfluidic chip by oxygenplasma treatment under mediu m vacuum收稿日期:2003-05-15SHEN De -x in , 1ZHANG Chun -quan , LUO Zhong -zi , ZHOU Yong -liang ,ZHANG Feng 1, LI Jia 1, T I

5、AN Zhao -Wu 1221(1. S tate K e y L ab f or Phys Chem of the Solid S urf ace , Department of Che mistry , Xiamen Univer sity , X iamen 361005, China ;2. Pen T ung Sah M EM S Rese ar c h Center of X ia men Univ ersity, X iamen 361005, China Abstract:A m ethod w as developed for bonding the poly (dimet

6、hylsiloxane (PDMS-fabricated m-i crofluidic replica. After the surface of PDM S was treated by oxygen plasma 1040s under medium v acuum (low er than 13. 33Pa , the PDMS plates were irreversibly sealed w hen the treated surfaces w ere brought into touch and 1h incubation at 100e . And the hydrophilic

7、 behavior of PDMS replica w as improved greatly. Compared w ith the reported procedures using ox ygen plasma pretreatment un -der high vacuum, the present approach need simpler and cheaper equipment. And shorter treating time is benefit to keep the surface structure of the replica for little tempera

8、ture rising.Key words:microfluidic system; PDMS chip; bonding; medium vacuum参考文献:1 REYES D R, IOSS IFIDIS D, AUROUX P A, et al . M ciro totalanalysis systems 1. Introducti on, theory, and technologyJ. AnalC hem, 2002, 74, 2623-2636.2 DUFFY D C, M C DONALD J C, SCHUELLER O J A, et al.Rapid prototypi ng of microfluidic systems in poly (dimethyl silox -生。ane J. Anal Chem, 1998, 70

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论