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文档简介
1、PN结二极管的制备结二极管的制备 主要内容:主要内容:PN结二极管的制备结二极管的制备(0准备准备p-Si 1 1、制备单晶硅片、制备单晶硅片2 2、硅片表面的化学清洗、硅片表面的化学清洗PN结二极管的制备结二极管的制备(1) 氧化氧化问题:问题: 1、为什么要双面氧化?、为什么要双面氧化? 2、氧化层的厚度需要大于设计的厚度,为什么?、氧化层的厚度需要大于设计的厚度,为什么?PN结二极管的制备结二极管的制备(2) 涂胶涂胶问题:问题:1 1、涂胶过程、涂胶过程2 2、光刻胶分类,作用,常用的光刻胶?、光刻胶分类,作用,常用的光刻胶?3 3、涂胶后,曝光前,对光刻胶加固的过程是什么工艺、涂胶后
2、,曝光前,对光刻胶加固的过程是什么工艺PN结二极管的制备结二极管的制备Mask 1黑色部分都是不透光的,中间的白色部分是做扩散的位置。Mask的剖面图PN结二极管的制备结二极管的制备(3曝光曝光问题:问题:1 1、光刻的作用?、光刻的作用?2 2、图中使用的是正胶,如果用负胶如何修改工艺?、图中使用的是正胶,如果用负胶如何修改工艺?PN结二极管的制备结二极管的制备(4显影显影问题:问题: 1、什么是显影工艺?、什么是显影工艺? 2、显影液选择的注意事项。、显影液选择的注意事项。PN结二极管的制备结二极管的制备(5腐蚀腐蚀问题:问题:1 1、腐蚀分为哪两种形式,各有什么特点?、腐蚀分为哪两种形式
3、,各有什么特点?2 2、选用腐蚀液要注意什么?、选用腐蚀液要注意什么?PN结二极管的制备结二极管的制备(6去胶去胶1 1、通常用什么方法去胶?、通常用什么方法去胶?问题:问题:PN结二极管的制备结二极管的制备(7杂质扩散杂质扩散1 1、硅片要经过适当的清洗后、硅片要经过适当的清洗后2 2、应该扩散什么杂质、应该扩散什么杂质3 3、杂质扩散源有哪些、杂质扩散源有哪些4 4、以液态扩散源简要说一下扩散的化学原理、以液态扩散源简要说一下扩散的化学原理5 5、这只是杂质的预淀积。、这只是杂质的预淀积。问题:问题:PN结二极管的制备结二极管的制备(8)驱入驱入在未被氧化层保护的区域形成了在未被氧化层保护
4、的区域形成了n+-pn+-p结。结。 (n+n+中的中的“+”+”号表示高掺杂)号表示高掺杂)问题:问题:PN结二极管的制备结二极管的制备(9金属化金属化1 1、金属化的目的?、金属化的目的?2 2、淀积金属薄膜有几种方法?、淀积金属薄膜有几种方法?3 3、(低于或等于、(低于或等于500oC500oC退火来改善金属层退火来改善金属层 与硅之间的欧姆接触。与硅之间的欧姆接触。 问题:问题:PN结二极管的制备结二极管的制备(10)涂胶涂胶目的:通过光刻去除扩散结区域之外的多余的金属薄膜。目的:通过光刻去除扩散结区域之外的多余的金属薄膜。PN结二极管的制备结二极管的制备Mask 2Mask黑色部分都是不透光的,四周的白色部分是刻蚀金属的位置。Mask的剖面图问题:可不可以用问题:可不可以用Mask1?PN结二极管的制备结二极管的制备(11)曝光曝光mask2板板问题:问题:如果采用负胶,如何修改掩膜板如果采用负胶,如何修改掩膜板Mask2Mask2?PN结二极管的制备结二极管的制备(12)显影显影问题:显影液的选择问题:显影液的选择PN结二极管的制备结二极管的制备(13)腐蚀腐蚀1 1、此次腐蚀的目的?、此次腐蚀的目的?2 2、腐蚀液的
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