有机发光二极管专利态势发布

1、有机发光二极管有机发光二极管(OLED)专利态势专利态势电学发明审查部2011.122专利运用管理分析专利运用管理分析专利文献数据专利文献数据全球专利发展态势全球专利发展态势中国专利发展态势中国专利发展态势主要申请人分析主要申请人分析重点技术分析重点技术分析产业发展状况产业发展状况3研发始于欧美；显示产业化集中研发始于欧美；显示产业化集中在韩国、日本、中国大陆和台湾在韩国、日本、中国大陆和台湾。 “863计划”中“高清晰度平板显示专项”当前优先发展的高技术产业化重点领域指南国务院关于加快培育和发展战略性新兴产业的决定大陆主要集中在长三角、大陆主要集中在长三角、珠三角以及京津地区。珠三角以及京津

2、地区。国家中长期科技发展规划纲要鼓励进口技术和产品目录（2011版）产业结构调整指导目录（2011年本）5个19个40个10个 中国总量：中国总量：10153件件 全球总量：全球总量：70423项项6区域分析区域分析. .技术构成分析技术构成分析总量趋势分析总量趋势分析二二一一三三四四申请人分析申请人分析78专利年申请量总体呈快速增长态势，日本和美国前期专利布局较多，韩国增长最快 全球申请99在中国、日本、韩国、美国和欧洲 9专利申请流向图美国市场最受全球申请人重视美国和日本最重视中国市场 10申请目的地申请量发展趋势11全球OLED各技术分支发展趋势专利申请逐渐由上游专利向下游专利转移专利申

3、请逐渐由上游专利向下游专利转移 12全球OLED主要申请人排名排名前20名前10名前30名占总量比例534223大型跨国企业申请量大，集中趋势明显13申请人多边申请量国别起始年度07年比例08年比例09年比例分支主要流向国家三星3912韩国199612.1%12.2%10.5%结构、封装、应用、工艺和设备美国、日本、中国半导体能源2085日本19957.2%6.7%6.5%结构、材料美国、中国、韩国精工爱普生1849日本19969.9%11.7%10.2%结构、封装、应用、工艺和设备美国、中国LG1184韩国199714.3%12.2%12.0%封装、应用、工艺和设备美国、中国、日本索尼897

4、日本199517.3%19.4%10.8%结构、封装美国、中国、韩国富士701日本199510.1%13.9%12.3%材料、应用美国、中国、韩国伊斯曼柯达669美国198010.7%4.8%0.5%材料、结构、应用日本、中国、韩国飞利浦633欧洲199410.3%9.4%11.2%应用中国、美国、日本佳能630日本199618.8%16.1%13.4%结构、材料美国、中国、韩国出光兴产507日本198815.8%9.1%6.5%材料美国、中国、韩国、欧洲先锋496日本19916.8%4.4%3.8%材料、结构美国、中国友达光电481中国19986.8%3.6%5.8%结构美国夏普465日本1

5、99110.8%12.7%15.8%结构美国、中国、韩国松下343日本19937.6%11.6%18.6%材料、美国、中国西门子（欧司朗）306欧洲199614.8%14.2%7.4%应用美国、日本、中国松下、夏普、索松下、夏普、索尼、佳能等申请尼、佳能等申请人保持高度活跃人保持高度活跃 综合技术实力居综合技术实力居前企业有三星、前企业有三星、精工爱普生和精工爱普生和LG14技术构成分析技术构成分析. .申请人分析申请人分析总体趋势分析总体趋势分析二二一一三三四四区域分析区域分析15国内外申请人发明申请量发展趋势总体申请发展迅速，中国申请发展稳定16OLED专利申请量构成类类 型型国内国内国外

6、国外合计合计申请申请授权授权有效有效申请申请授权授权有效有效申请申请授权授权有效有效发明专利量发明专利量275812281088706133943303981946224391发明构成发明构成28.1%26.6%24.8%71.9%73.4%75.2%实用新型专利量实用新型专利量32232224412122334334246实用新型构成实用新型构成96.4%96.4%99.2%3.6%3.6%0.8%专利总量专利总量3080155013327073340633051015349564637专利构成专利构成30.3%31.3%28.7%69.7%68.7%71.3%17各国在中国申请量发展趋势日

7、韩申请人重视在中国的专利布局18各技术分支申请量发展趋势各技术分支总体稳定中国材料技术分支申请近期发展较快 19材料技术点申请量发展趋势发光层材料属于发光层材料属于技术热点之一技术热点之一 结构（结构（26292629）基板结构（基板结构（955955）光学辅助层结构（光学辅助层结构（697697）增强色纯结构增强色纯结构 （185185）增强亮度结构增强亮度结构（ 229 229 ）增强对比度结构增强对比度结构 （5858）黑矩阵黑矩阵(58)(58)偏振结构偏振结构 (40)(40)颜色转化颜色转化层层 （6868）滤光层滤光层 （128128）精工爱普精工爱普生；三洋；生；三洋；三星三星

8、出光兴产出光兴产富士电机富士电机铼宝科技铼宝科技三星；松三星；松下；精工下；精工爱普生爱普生半导体能半导体能源；三星；源；三星；LGLG三星；友三星；友达光电；达光电；LGLG索尼；三索尼；三星；精工星；精工爱普生爱普生光散射层光散射层 （3030）光增强层光增强层 （130)130)2011年度专利分析普及推广项目21中国大陆申请量集中区域图济南北京天津合肥福州江苏南宁贵阳昆明武汉重庆兰州银川呼和浩特西宁上海乌鲁木齐太原北京沈阳吉林广东四川陕西申请量排名申请量排名北京北京上海上海广东广东江苏江苏吉林吉林四川四川陕西陕西22中国专利申请OLED主要申请人大型跨国企业在中国具有量、质优势23中国

9、专利申请中国内申请人排名 中国台湾地区企业具有产业优势 国内科研机构具有相当技术实力24战略研究战略研究-韩国三星韩国三星. .布局研究布局研究-日本出光兴产日本出光兴产申请人主体是企业，是技术发展的主要推动力量。申请人主体是企业，是技术发展的主要推动力量。研究主要申请人，学习其发展规律和成功经验。研究主要申请人，学习其发展规律和成功经验。25韩国三星-全球专利申请全球布局各领域均衡发展全球布局各领域均衡发展主要市场以美国、中国、主要市场以美国、中国、日本为重点区域日本为重点区域技术面广，产业链齐全技术面广，产业链齐全26韩国三星-中国专利申请中国布局量大面广中国布局量大面广技术方面以材料和结

10、构为重技术方面以材料和结构为重27现有产业转移现有产业转移进行全球合作进行全球合作全领域开发生产全领域开发生产战略布局完善战略布局完善28日本出光兴产-全球专利申请全球布局：合作优先全球布局：合作优先本土为重，主要市场美国、本土为重，主要市场美国、中国、日本、欧洲均衡布局中国、日本、欧洲均衡布局技术优势主要在材料技术技术优势主要在材料技术29日本出光兴产-中国专利申请中国布局总量不大中国布局总量不大近五年数量逐年下降近五年数量逐年下降技术布局主要为材料技术，技术布局主要为材料技术，近年材料比例增大近年材料比例增大30 索尼索尼(2005(2005年年) )东芝东芝(2008(2008年年) )

11、 松下松下(2011(2011年年) )UDC(2006UDC(2006年年) ) GOT(2011GOT(2011年年) )出光兴产出光兴产LG(2009LG(2009年年) ) 31关键技术研究内容关键技术研究内容. .重点技术重点技术- -多晶硅多晶硅TFTTFT前沿技术前沿技术- -氧化物氧化物TFTTFT关键技术突破是技术进步、行业发展的必经之路。关键技术突破是技术进步、行业发展的必经之路。研究关键技术，有助于业内企业明晰技术发展方向。研究关键技术，有助于业内企业明晰技术发展方向。33技术的专技术的专利现状利现状TFT技术申请量分布TFT申请量构成TFT技术中日本申请量和质均居领先地

12、位。多晶硅技术为量产热点技术，氧化物技术为前沿技术。34四种TFT主要申请人分布序号a-SiP-SiOTFT氧化物申请人国别申请人国别申请人国别申请人国别1三星韩国 三星韩国 三星韩国 半导体能源日本2夏普日本精工爱普生日本 柯尼卡日本 三星韩国3LG韩国 夏普日本 理光日本 精工爱普生日本4精工爱普生日本 索尼日本 精工爱普生日本 夏普日本5索尼日本 日立显示器日本 住友化学日本 LG 韩国主要TFT技术申请量日韩企业占领先地位35热点技术-多晶硅TFT技术主要涉及方向多晶硅的多晶硅的形成方法形成方法与有源层与有源层配套的部配套的部件结构件结构多晶硅有多晶硅有源层性能源层性能的改进的改进 中

13、国专利申请集中于多晶硅有源层的形成工艺和方法。 国外专利申请广泛，涉及多晶硅形成方法、性能的改善以及适用结构。如CN102082098A；KR100721957B1；US7524728B2等如JP3894441B2;CN1941298A;CN101131964A 等例如US7297980B2;KR20110053041A;EP1939933A3 等36前沿技术-氧化物TFT技术主要涉及方向 国内外研发方向一致：氧化物有源层材料的开发或形成有源层的方法。有源层有源层材料材料有源层配有源层配套的部件套的部件氧化物氧化物形成方法形成方法如CN101615582A；US7804231B2等如CN102064109A;JP2010278412A等如CN101488459A;US8017513B等37 从多晶硅从多晶硅TFT专利技术来看，国外的申请专利技术来看，国外的申请人研发方向具有前瞻性。人研发方向具有前瞻性。 从氧化物从氧化物TFT专利技术来看，国外的产学专利技术来看，国外的产学研结合较为紧密。研结合较为紧密。专利引进专利引进交叉许可交叉许可专利诉讼专利诉讼丰田、昭和丰田、昭和电工、摩托电工、摩托罗拉等罗拉等三洋电机、三洋电机、Tohoku Device、富士、日本精、富士、日本精机、机、Rohm、Denso、OPTEX、 Emagin、LiteArray、永信、