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文档简介
1、光伏发电原理,绪论,能源是现代社会存在和发展的基石。随着全球经济社会的不断发展,能源消费也相应的持续增长。随着时间的推移,化石能源的稀缺性越来越突显,且这种稀缺性也逐渐在能源商品的价格上反应出来。在化石能源供应日趋紧张的背景下,大规模的开发和利用可再生能源已成为未来各国能源战略中的重要组成部分。 太阳能是人类取之不尽用之不竭的可再生能源,具有充分的清洁性、绝对的安全性、相对的广泛性、确实的长寿命和免维护性、资源的充足性及潜在的经济性等优点,在长期的能源战略中具有重要地位,太阳能的应用,就目前来说,人类直接利用太阳能还处于初级阶段,主要有太阳能集热、 太阳能热水系统 、太阳能暖房、太阳能发电等方
2、式。 太阳能集热器(solar collector)在太阳能热系统中,接受太阳辐射并向传热工质传递热量的装置。按传热工质可分为液体集热器和空气集热器。按采光方式可分为聚光型集热器和吸热型集热器两种。一个好的太阳能集热器应该能用2030年,太阳能热水系统,早期最广泛的太阳能应用即用于将水加热,现今全世界已有数百万太阳能热水装置。太阳能热水系统主要元件包括收集器、储存装置及循环管路三部分。此外,可能还有辅助的能源装置(如电热器等)以供应无日照时使用,另外尚可能有强制循环用的水,以控制水位或控制电动部份或温度的装置以及接到负载的管路等。依循环方式太阳能热水系统可分两种:自然循环式和强制循环式,太阳能
3、暖房,太阳能暖房系统是由太阳能收集器、热储存装置、辅助能源系统,及室内暖房风扇系统所组成,其过程乃太阳辐射热传导,经收集器内的工作流体将热能储存,再供热至房间。至辅助热源则可装置在储热装置内、直接装设在房间内或装设于储存装置及房间之间等不同设计,太阳能发电,即直接将太阳能转变成电能,直接使用或者将电能存储在电容器中,以备需要时使用,光伏发电系统的分类,光伏发电系统可分为独立太阳能光伏发电系统和并网太阳能光伏发电系统:独立太阳能光伏发电是指太阳能光伏发电不与电网连接的发电方式,典型特征为需要蓄电池来存储能量,在民用范围内主要用于边远的乡村,如家庭系统、村级太阳能光伏电站;在工业范围内主要用于电讯
4、、卫星广播电视、太阳能水泵,在具备风力发电和小水电的地区还可以组成混合发电系统等。并网太阳能光伏发电是指太阳能光伏发电连接到国家电网的发电的方式,成为电网的补充,独立太阳能光伏发电(太阳能离网发电系统,太阳能离网发电系统包括1、太阳能控制器 对所发的电能进行调节和控制,一方面把调整后的能量送往直流负载或交流负载,另一方面把多余的能量送往蓄电池组储存,当所发的电不能满足负载需要时,太阳能控制器又把蓄电池的电能送往负载。2、太阳能蓄电池 组的任务是贮能,以便在夜间或阴雨天保证负载用电。3、太阳能逆变器 负责把直流电转换为交流电,供交流负荷使用,太阳能并网发电系统,太阳能并网发电系统是将光伏阵列产生
5、的可再生能源不经过蓄电池储能,通过并网逆变器直接反向馈入电网的发电系统,太阳能光伏发电系统原理,光伏发电系统是利用半导体界面的光生伏特效应而将光能直接转变为电能的一种技术。这种技术的关键元件是太阳能电池。太阳能电池经过串联后进行封装保护可形成大面积的太阳电池组件,再配合上功率控制器等部件就形成了光伏发电系统装置,3.1光电效应概述,光照射到某些物质上,引起物质的电性质发生变化,也就是光能量转换成电能。这类光致电变的现象被人们统称为光电效应(photoelectric effect)。 光生伏打效应概述及应用 光生伏打效应 是指物体由于吸收光子而产生电动势的现象,是当物体受光照时,物体内的电荷分
6、布状态发生变化而产生电动势和电流的一种效应。 光生伏打效应应用 光生伏打效应主要是应用在半导体的pn结上,把辐射能转换成电能。大量研究集中在太阳能的转换效率上。理论预期的效率为24。由于半导体pn结器件在阳光下的光电转换效率最高,所以通常把这类光伏器件称为太阳能电池,也称光电池或太阳电池,太阳能电池及其太阳能组件,太阳能电池的工作原理 太阳光照在半导体p-n结上,形成新的空穴-电子对,在p-n结电场的作用下,空穴由n区流向p区,电子由p区流向n区,接通电路后就形成电流。这就是光电效应太阳能电池的工作原理。 太阳能电池的生产流程 通常的晶体硅太阳能电池是在厚度350450m的高质量硅片上制成的,
7、这种硅片从提拉或浇铸的硅锭上锯割而成。如图1,太阳能电池的生产流程,太阳能电池的制造技术,晶体硅太阳能电池的制造工艺流程如图2。提高太阳能电池的转换效率和降低成本是太阳能电池技术发展的主流,具体的制造工艺技术说明如下,1)切片:采用多线切割,将硅棒切割成正方形的硅片。(2)清洗:用常规的硅片清洗方法清洗,然后用酸(或碱)溶液将硅片表面切割损伤层除去3050um。(3)制备绒面:用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。(4)磷扩散:采用涂布源(或液态源,或固态氮化磷片状源)进行扩散, 制成pn结,结深一般为0.30.5um。(5)周边刻蚀:扩散时在硅片周边表面形成的扩散层,会使电池上下电极短路,用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层,6)去除背面pn结。常用湿法腐蚀或磨片法除去背面pn结。(7)制作上下电极:用真空蒸镀、化学镀镍或铝浆印刷烧结等工艺。先制作下电极,然后制作上电极。铝浆印刷是大量采用的工艺方法。(8)制作减反射膜:为了减少入反射损失,要在硅片表面上覆盖一层减反射膜。制作减反射膜的材料有mgf2 ,s
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