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第三章31(a)画出晶体管在平衡时以及在正向有源工作模式下的能带图。(b)画出晶体管的示意图并表示出所有的电流成分,写出各级电流表达式。(c)画出发射区、基区、集电区少子分布示意图。32考虑一个硅晶体管,具有这样一些参数:,在均匀掺杂基区。若集电结被反向偏置,计算在发射结基区一边的过量电子密度、发射结电压以及基区输运因子。33 在32的晶体管中,假设发射极的掺杂浓度为,发射结空间电荷区中,。计算在时的发射效率和。34 一NPN晶体管具有以下规格:发射区面积=1平方密耳,基区面积=10平方密耳,发射区宽度= ,基区宽度= ,发射区薄层电阻为,基区薄层电阻为,集电极电阻率=,发射区空穴寿命=,基区电子寿命=100,假设发射极的复合电流为常数并等于。还假设为突变结和均匀掺杂。计算、以及时的。用半对数坐标画出曲线。中间电流范围的控制因素是什么?3-5(a)根据式(3-19)或式(3-20),证明对于任意的值公式(3-41)和(3-43)变成 (b)证明,若I且,证明上式化为, 其中3-8一个用离子注入制造的晶体管,其中性区内浅杂质浓度为,中。(a)求宽度为的中性区内单位面积的杂质总量;(b)求出中性区内的平均杂质浓度;(c)若,基区内少子平均寿命为,基区的平均扩散系数和(b)中的 杂质浓度相应,求共发射极电流增益。解:(a) =。()(b) =.(c) 用,=给出(查图)则 代入数据即可。39若在式中假设,则可在集电极电流I 曲线计算出根梅尔数。求出34中晶体管中的根梅尔数。采用、以及。310(a)证明对于均匀掺杂的基区,式式简化为(b)若基区杂质为指数分布,即,推导出基区输运因子的表示式。若基区杂质分布为,推导出基区输运因子的表达式。3-11 基区直流扩展电阻对集电极电流的影响可表示为,用公式以及示于图312的数据估算出3-12(a)推导出均匀掺杂基区晶体管的基区渡越时间表达式。假设1。 (b)若基区杂质分布为,重复(a)3-13考虑晶体管具有示于图316的杂质分布,令发射极和基极面积相等(10平方密尔)且,发射极电流,集电结的反偏电压为,计算在300K时截止频率。3-14若实际晶体管的基极电流增益为e/(1+j/),证明,式中是共发射极电流增益模量为1时的频率。3-15(a)求出图323中输出短路时的表达式。(b)求出,它相应于的数值下降到3的情况。(c)推导式(385)3-16.若图316中平方密耳突变结,估算晶体管的复合模型参数。注:双扩散晶体管用3-17证明平面型双扩散晶体管的穿透电压可用下式表示:式中为根梅尔数。3-18用两个晶体管模拟的方法导出阳极电流做栅电流
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