PECVD工艺规程.doc

QB/JX/GY 006-2006PECVD工艺规程1. 适用范围适用于ROTH&RAU公司PECVD的生产。2. 工艺参数具体参数根据工艺要求设置。3. 准备工作3.1 准备好已去磷硅玻璃的硅片：进行流程卡、生产批号、数量、待生产工序等内容的核对工作。对有疑问的待产品停止生产，并向有关人员进行反映。3.2 检查和确认设备的动力条件：排风、压缩气、氮气、冷却水等已经正常开启，然后按照PECVD设备操作规程的操作方法开启PECVD设备，升温时间为30分钟左右。3.3 检查硅烷管道用吹扫氮气是否在正常范围内【（3.51.5）l/min】，做好安全记录。3.4 检查燃烧桶用氮气流量【（0.60.2）m3/h】和压缩气流量【（31）m3/h】正常范围内，做好安全记录。3.5 打开真空泵，打开硅烷、氨气、氮气。4. 工艺操作4.1 开机准备：根据生产电池片的规格，选择相应规格的石墨框和十片左右的假片。4.2 按照PECVD设备操作规程选择（工艺）程序，确认设备正常后开始试生产。工艺参数根据工艺要求进行设置。4.3 膜厚试生产（刚开机后必须做，正常生产过程中不需要做）： 4.3.1 在石墨框中间放置一片正片（从上道工序流下来的清洁硅片），其周围放置假片。4.3.2 关闭系统盖子。预抽真空，使得淀积腔内的真空压力达到8.6E-3mbar。淀积氮化硅减反射膜。4.3.3 测试膜厚：厚度范围是7080nm。对应的膜的颜色应该是均匀的深兰色、兰色、淡兰色，若有偏差，调整传输速率，如果颜色不均匀，调整微波功率。4.4 整框均匀性试生产（刚开机后必须做，正常生产过程中不需要做）：4.4.1 在试片的膜厚正常后，再做一个石墨框的正片，进行整个石墨框均匀性的试生产。在石墨框一侧放置一行正片，其外侧放置一行假片，淀积氮化硅膜。4.4.2 对试生产出来的硅片进行均匀性检查，如果发现颜色不均匀，则通过微量调整微波功率和传输速率达到颜色均匀。如果膜的颜色出现整体偏淡（膜厚偏厚），可以增加传输速率；如果膜的颜色出现整体偏红（膜厚偏薄），则降低传输速率。如果一侧膜的颜色偏淡，则增加这一侧的微波Toff时间；反之则减少。如果中间的硅片的颜色有变化，则同时改变所有的Toff。以上述方法进行设备的调整，所有的调整幅度为1个单位，并且保证不超过允许的范围。4.4.3 确认整个石墨框均匀性合格后才能进行正式生产。4.5 开始正式生产：将硅片依次放入到石墨框中，要保证扩散面向下，既沿着承片盒的开口取片并按原方向放入托石墨框中。4.6 按照试片的条件进行正片生产。4.7 生产过程中，当上一个石墨框离开淀积区后再投入下一个石墨框。4.8 卸片：卸片员工使用真空吸笔，逐个将镀膜后的硅片吸起，同时将该片翻转，检验镀膜质量。合格品镀膜面向下放入传递盒内，每个传递盒放满后，放另一个传递盒。每批结束后填写好流程卡及碎片数，转送到丝网印刷工序。4.9 检验：不合格片包括：较大的色斑；较多的水点印；颜色明显不均匀；与深兰色相差较大等。不合格片统一保存，进行返工，具体返工的操作见PECVD不合格片返工流程。5. 关机：按照PECVD设备操作规程关闭PECVD系统。6. 注意事项6.1 硅烷是一种易燃、易爆的特种气体，氨气是一种带有腐蚀性的特种气体，因此在使用前、使用中一定要做好特气安全检查工作。6.2 每二个班进行一次设备内部清洗，用吸尘器吸尘，用钢针清除NH3和SiH4进气口的堆积物。6.3 根据石英管的使用时间（约32-40小时）确定是否需要更换石英管。更换石英管时使用专用工具。6.4 装片和卸片时小心操作，避免硅片碎裂和损伤硅片的绒面。6.5 在一个托石墨框上需要放不同批次的时候，在一批结束的后面放一片假片，说明该石墨框上有二个批次存在，取片时必须严格分开。或者每批的零头单独淀积。6.6 所有的工艺参数需经技术员确认才可修