标准解读
《YS/T 895-2013 高纯铼化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法》是一项针对高纯铼材料中痕量杂质元素进行测定的标准。该标准采用辉光放电质谱(Glow Discharge Mass Spectrometry, GDMS)技术作为主要检测手段,适用于分析包括但不限于铁、镍、铜等在内的多种金属及非金属元素在铼中的含量。通过此方法能够实现对铼样品中低至ppb级别的杂质浓度进行精确测量。
标准详细规定了从样品制备到数据分析整个过程的操作步骤和技术要求,其中包括:
- 样品准备:需要确保被测样品表面清洁无污染,并且形状尺寸符合仪器使用需求。
- 测量条件设置:根据待测元素种类调整GDMS设备参数,如功率、压力等,以获得最佳信号强度和分辨率。
- 数据处理与校正:利用内标法或外标法对原始数据进行归一化处理,消除基体效应带来的影响;同时还需要考虑可能存在的多原子离子干扰问题,采取适当措施予以排除或修正。
此外,《YS/T 895-2013》还特别强调了实验过程中质量控制的重要性,建议定期使用已知成分的标准物质来验证方法的有效性和准确性。对于初次建立该测试体系的实验室来说,还需按照相关指南完成方法确认工作,确保其符合预期性能指标。
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- 现行
- 正在执行有效
- 2013-10-17 颁布
- 2014-03-01 实施
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文档简介
ICS7712099 H 63 . . 中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T8952013 高纯铼化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 Methodsforchemicalanalysisofhighpurityrhenium Determinationoftraceimpurityelementcontent Glowdischargemassspectrometry2013-10-17发布 2014-03-01实施 中华人民共和国工业和信息化部 发 布 YS/T8952013 前 言 本标准按照 给出的规则起草 GB/T1.12009 。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会 归口 (SAC/TC243) 。 本标准起草单位 北京有色金属研究总院 金川集团股份有限公司 东方电气集团峨嵋半导体材料 : 、 、有限公司 。 本标准主要起草人 李继东 秦芳林 王攀峰 孙泽明 刘英 王长华 童坚 臧慕文 文英 邱平 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 。 YS/T8952013 高纯铼化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法1 范围 本标准规定了高纯铼中痕量元素含量的测定方法 测定元素见表 , 1。 本标准适用于高纯铼中痕量元素含量的测定 各元素测定范围如下 硫 硒和汞元素的测定范围为 。 : 、 其余元素的测定范围为50g/kg5000g/kg, 5g/kg5000g/kg。2 方法原理 试料作为阴极进行辉光放电 其表面原子被溅射而脱离试样进入辉光放电等离子体中 在等离子体 , , 中离子化后被导入质谱仪 在每一元素同位素质量数处以预设的扫描点数和积分时间对相应谱峰积 。 分 所得面积即为谱峰强度 元素含量用式 求出 无标准样品时 计算机根据仪器软件中的 典型相 , , (1) 。 , “ 对灵敏度因子 自动计算出各元素的质量分数 有标准样品时 需通过在与被测样品相同的分析条件 离 ” ; , 、 子源结构以及测试条件下对标准样品进行独立测定获得相对灵敏度因子 应用该相对灵敏度因子计算 , 出各元素的质量分数 。 IX A w X = X Re w ( ) RSF( /Re)I AX (Re) (1 ) Re 式中 : w X 待测元素质量分数 单位为微克每千克 ( ) , (g/kg); X 在特定辉光放电条件下测定 中 X 元素的校正系数 RSF( /Re) Re ; IX 待测元素 X 的同位素谱峰强度 ,cps; I 元素的同位素谱峰强度 Re Re ,cps; AX 待测元素 X 的同位素丰度 ; A 元素的同位素丰度 Re Re ; w 的质量分数定义为 9 (Re) Re 1.0010 g/kg。3 试剂与材料 除非另有说明 本标准所用的试剂均为优级纯 所用的水为一级水 , , 。31 硝酸 . (1+1)。32 铼标准样品 被测元素质量分数在 之间 . , 50g/kg500g/kg 。33 仪器背景监控样品 被测元素质量分数低于被测试样的 倍以上 . , 10 。34 氩气 . ( 99.999%)。35 氮气 . (
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