• 现行
  • 正在执行有效
  • 2024-11-06 颁布
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【正版授权-英语版】 ISO 20263:2024 EN Microbeam analysis - Analytical electron microscopy - Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materi_第1页
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基本信息:

  • 标准号:ISO 20263:2024 EN
  • 标准名称:微束分析——分析电子显微学——层状材料层界面位置测定方法(微束分析)——横截面图像中层状材料层界面位置测定方法(电子显微学)
  • 英文名称:Microbeam analysis — Analytical electron microscopy — Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials
  • 标准状态:现行
  • 发布日期:2024-11-06

文档简介

1.定义和术语:标准中详细解释了微束分析、分析电子显微术、层状材料、层界面等术语的含义。

2.方法和过程:这部分详细描述了如何进行微束分析和电子显微术,包括样品准备、扫描电子显微镜的操作、图像处理等步骤。

3.层界面位置的确定:提供了确定层状材料层界面位置的方法,包括选择适当的观察角度、识别层界面、测量层界面的位置等步骤。

4.仪器和设备:描述了进行微束分析和电子显微术所需的仪器和设备,包括扫描电子显微镜、探针、软件等。

5.安全和防护:强调了在操作微束分析和电子显微镜时需要注意的安全和防护措施,包括个人防护装备、实验室安全规定等。

6.数据准确性和可靠性:强调了数据准确性和可靠性在微束分析和电子显微术中的重要性,并提供了一些质量控制和保证措施。

以上是ISO20263:2024EN微束分析—分析电子显微术—层状材料层界面位置确定的方法标准的详细内容解释。该标准对于从事材料科学研究、电子显微术研究、材料制备等领域的人员具有重要的参考价值。

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