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文档简介
1第8章
集成电路版图设计与工具2第8章
集成电路版图设计与工具
8.1 工艺流程的定义8.2版图几何设计规则8.3
版图图元8.4版图设计准则8.5电学设计规则与布线8.6 基于Cadence平台的全定制IC设计8.7 芯片的版图布局8.8 版图设计的注意事项3CMOS集成电路中的元件8.3.1MOS晶体管8.3.2集成电阻8.3.3集成电容8.3.4寄生二极管与三极管8.3.5连线与互连4MOS晶体管NMOS晶体管的版图和结构DSBGNMOS晶体管符号NMOS晶体管剖面图NMOS晶体管版图N管源漏区N+N+N+P+FOXDGSBLWDGSB5MOS晶体管PMOS晶体管的版图和结构DSBGPMOS晶体管符号PMOS晶体管剖面图PMOS晶体管版图P-substrateN-阱P管源漏区P+P+N-阱FOXN+DGSBLWDGSB6MOS晶体管•MOS晶体管的隔离
在集成电路中,两个无关的晶体管都是用场氧隔离的将MOS1和MOS2隔离开VddGndoutinP-substrateN-NP+P+N+N+N-阱P+FOX剖面图N+MOS1MOS2BSGDDSBG7MOS晶体管•MOS晶体管的串联和并联*串联和并联的物理实现P1P2N1N2P1和P2并联,N1和N2串联P1P2N2N18CMOS集成电路中的元件8.3.1MOS晶体管8.3.2集成电阻8.3.3集成电容8.3.4寄生二极管与三极管8.3.5连线与互连9集成电阻
高阻
多晶硅•多晶硅电阻P型衬底
场氧
多晶硅*多晶硅电阻做在场区上.
其方块电阻较大,因此可以作为电阻。如在作电阻的多晶硅处注入杂质,使其方块电阻变大,可制作阻值很大的电阻。R=R□poly-Si•L/W*典型值:R□poly-Si=0.5k10集成电阻•NWELL电阻P型衬底
场氧N+N+N阱*因为阱是低掺杂的,方块电阻较大,因此大阻值的电阻亦可以用阱来做R=R□well•L/W*典型值:R□well=0.85kN阱
金属N+implantactive11CMOS集成电路中的元件8.3.1MOS晶体管8.3.2集成电阻8.3.3集成电容8.3.4寄生二极管与三极管8.3.5连线与互连12集成电容•多晶硅-扩散区电容*电容作在扩散区上,它的上极板是第一层多晶硅,下极板是扩散区,中间的介质是氧化层*需要额外加一层版P型衬底N+
多晶硅1
多晶硅1N+N+implantforcapactive13集成电容•多晶硅-多晶硅电容:*电容作在场区上,它的两个电极分别是两层多晶硅,中间的介质是氧化层*线性特性和底板寄生与多晶硅-扩散区电容相近*典型值:0.7fF/um*umP型衬底
场氧
多晶硅1
多晶硅2P型衬底
多晶硅2
多晶硅114集成电容•MOS电容:
*结构和MOS晶体管一样,是一个感应沟道电容,当栅上加电压形成沟道时电容存在.一极是栅,另一极是沟道,沟道这一极由S(D)端引出.*电容的大小取决于面积,
氧化层的厚度及介电数.CchRsP型衬底N+N+Vc+-沟道*单位面积电容最大的电容*沟道电阻问题15集成电容•MOS电容:
*非线性电容适用于电源滤波
*沟道长度需权衡考虑:L大了,R变大VcCchMOS电容C/V特性减小沟道电阻的方法16集成电容•“夹心”电容
*线性电容
*电容值为:
*底板寄生电容大约为
(50~60%C)P型衬底C1C2C3C4CpC=C1+C2+C3+C4多晶硅金属1金属2金属3金属417CMOS集成电路中的元件8.3.1MOS晶体管8.3.2集成电阻8.3.3集成电容8.3.4寄生二极管与三极管8.3.5连线与互连18衬底BJT•PNPBJT的版图和结构P型衬底
场氧N+N阱N阱P型衬底P+P+BECECB特点:1)集电极C电压受到限制,须接地2)基区宽度WB没有很好控制,电流增益差别较大3)结构上的两个主要参数:基区宽度WB和BE结面积AWB19二极管•PSD/NWELLDiode的版图和结构P型衬底
场氧N+N阱N阱P型衬底P+CA特点:1)存在寄生PNPBJT问题,电流容易漏到衬底,BJT的beta范围可从<0.1到>102)有较大的串联寄生电阻3)结构上的主要参数:结面积A20二极管•NSD/P-epiDiode的版图和结构P型衬底
场氧N+P型衬底P+CA特点:1)C端的电压要低于衬底电压才能正向导通2)在ESD中用于抑制负的尖峰电压2)结构上的主要参数:结面积A21CMOS集成电路中的元件8.3.1MOS晶体管8.3.2集成电阻8.3.3集成电容8.3.4寄生二极管与三极管8.3.5连线与互连22连线•连线寄生模型*串联寄生电阻*并联寄生电容RRRRRRRRRRCCCCCCCCC简单的长导线寄生模型23图(a)多晶硅和第一层金属(b)第一和第二层金属(c)第二和第三层金属连接的俯视图
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