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文档简介

在相控阵技术中，延时法则是必不可少的。通过采用每个阵元合理的延时，我们可以实现电子扫查、声束偏转、声束聚焦。本文将着重介绍聚焦。聚焦，顾名思义，让声场的能量聚焦在很小的点上。这提高了侧向分辨力，因此能够分辨两个彼此靠近的指示。通过对指示处发射更多的能量，也能提高信噪比。但是，聚焦在正确的位置是非常重要的。为了帮助操作人员处理大多数情况，M2M相控阵仪器提供了三种聚焦选项，从而不需要使用外部的软件计算延时和/或导入聚焦法则：深度聚焦声程聚焦投影聚焦深度聚焦是最著名的聚焦类型，也是大多数相控阵仪器使用的最典型的聚焦。操作人员只需要规定聚焦的深度。下图显示的就是ASMT2491标准中的试块，试块上加工有1mm的一排横通孔，孔深10mm。声程聚焦：Gekko仪器能让声束聚焦在相同的声程。ASTM2491试块中加工了两个阵列的横通孔，分布在R25mm和R50mm的圆弧上。采用扇扫，将声程聚焦在R25mm和R50mm，获得横通孔的影像。我们可以看到聚焦对横通孔的影像。如果聚焦点设置不合理，信噪比相对很差。投影聚焦：操作员可以规定距离参考点特定的距离和角度，使得声束进行聚焦。我们可以看到ASTM2491标准中试块上加工的斜向分布的一排横通孔。它能很好地聚焦在工件中任意一条线，如坡口面上。所有的延时法则对线阵列探头、矩阵列探头和双线阵、双面阵探头都适用，它允许操作者在检测时优化和调节聚焦参数。同

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