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文档简介

2020年中国光刻机行业前景分析报告产业竞争现状与未来商机分析

提示：光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，是半导体产业中最关键设备。光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗，一般可以分为无掩模光刻机和有掩模光刻机。

光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，是半导体产业中最关键设备。光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗，一般可以分为无掩模光刻机和有掩模光刻机。

光刻机行业分类

数据来源：公开资料整理

从细分市场来看，市面上销售的光刻机主要为EUV光刻机、ArF

lm光刻机、ArF

Dry光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。从2019年这五类光刻机的销量情况来看，i-line光刻机的销量最高，为116台，其中Canon公司贡献了50%以上。

2019年光刻机头部企业销售数量情况

数据来源：企业公报

目前，全球光刻机市场的主要企业即ASML，尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家，从市场份额分布来看，2019年三家企业的合计市场份额就占到了全球光刻机市场的90%以上。其中，ASML凭借技术领先优势，垄断了EUV光刻机，独占75%的市场份额，Nikon与Canon分别占据13%和6%的市场份额。

2019年全球光刻机市场竞争格局

数据来源：公开资料整理

而从国内市场发展现状来看，我国光刻机技术长期落后于发达国家，在工业现代化进程中短板劣势凸显。不过，近几年在国家政策扶持以及一批龙头企业带领下，我国光刻机技术飞速发展，例如长春光机所的“极紫外光刻(EUVL)关键技术研究”项目顺利完成了验收前现场测试。但是在光刻机制造方面与世界头部企业相比仍有一定的差距，行业研发进度有待加快。

我国光刻机相关领先企业技术进展情况光刻机设备领先企业已具备技术(nm)光刻机上海微电子90-130nm光刻机工作台华卓精科65-130nm涂布显影芯源微45-130nm去胶/清洗屹唐半导体5-130nm数据来源：公

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