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文档简介
人教版高一化学必修第二册课时作业
第三节无机非金属材料
一、选择题(本题15小题,每小题只有一个选项符合题意)
1、下列关于硅酸盐及新型无机非金属材料的说法正确的是()
A.汉代烧制出“明如镜、声如磬”的瓷器,其主要原料为黏土
B.SiOz具有导电性且硬度大,所以可用于制作光导纤维和光电池
C.传统无机非金属材料是指光导纤维、玻璃、水泥、陶瓷等硅酸盐材
料
D.新型无机非金属材料虽然克服了传统无机非金属材料的缺点,但强
度比较差
2、下列关于物质的叙述不正确的是()
A.水泥是传统的硅酸盐产品
B.氯气是一种黄绿色、有毒的气体
C.玛瑙的主要成分是硅
D.硅在电子工业中,是最重要的半导体材料
3、下列有关说法错误的是()
A.普通玻璃和钢化玻璃的成分不一样,钢化玻璃中加了玻璃钢
B.水泥的主要成分是硅酸二钙、硅酸三钙和铝酸三钙
C.水泥具有水硬性,因此在保存和运输过程中要注意防水防潮
D.陶瓷的釉料在烧制时,若空气过量,一般显示的是高价态的
金属的颜色
4、有“水晶之乡”美称的江苏东海县盛产水晶,现存于国家地质博
物馆的水晶大王就出自东海县。水晶是较纯净的透明的石英晶体,下
列有关石英的叙述正确的是()
A.石英都是无色透明的晶体,可作装饰品,也可以制作光学仪器
B.石英晶体中每个Si周围结合2个0,每个0周围结合4个Si
C.石英制作的光导纤维在强碱性条件下易发生“断”路
D.石英不可以用来制取高纯硅,可以制光导纤维
5、下列有关物质组成、性质和用途的说法中,正确的是()
A.硅酸可由二氧化硅溶于水得到
B.氮化硅、光导纤维、氧化铝陶瓷、玻璃等都属于新型无机非
金属材料
C.木材、织物浸过水玻璃后具有防腐性能且不易燃烧
D.光导纤维的主要成分是硅,可广泛用于通信和医疗领域
6、在一定条件下,下列物质不能与二氧化硅反应的是()
①焦炭②纯碱③氢氟酸④硝酸⑤氢氧化钠
A,③⑤B.④⑤
C.①③⑤D.④
7、过量的泥沙、纯碱、生石灰熔化后生成下列几种物质,其中正确
的是()
①水泥②玻璃③瓷器④混凝土⑤一种硅酸盐产品
A.①和④B.②和⑤
C.③D.②
8、宋代五大名窑分别为:钧窑、汝窑、官窑、定窑、哥窑。其中钧窑
以“入窑一色,出窑万彩”的神奇窑变著称。下列关于陶瓷的说法不
正确的是()
A.窑变是高温下釉料中的金属化合物发生氧化还原反应导致的颜色
变化
B.氧化铝陶瓷属于新型无机非金属材料
C.高品质的瓷器晶莹剔透,属于纯净物
D.陶瓷属于硅酸盐材料,耐酸碱腐蚀
9、科学家用金属钠还原CCL和SiCL制得一种一维SiC纳米棒,相关
反应的化学方程式为8Na+CCl4+SiCl4=SiC+8NaClo下列说法不正确
的是()
A.SiC和Si。?中硅元素的化合价相同
B.上述反应中SiC既是氧化产物又是还原产物
C.SiOz制备单质Si、单质Si制备SiCL均涉及氧化还原反应
D.一维SiC纳米棒比表面积大,对微小粒子有较强的吸附能力
10、二氧化硅广泛存在于自然界中,在日常生活、生产、科研及新型
材料等方面有着重要的用途。a〜e是对①〜⑤反应中Si02所表现的
化学性质或作用进行的判断,其中正确的是()
①SiOz+2NaOH=Na2SiO3+H20②SiO2+2CSi+2C0t
(3)SiO2+4HF=SiF4t+2H20
@Na2C03+Si02=^=Na2Si03+C02t@SiO2+3C^^=SiC+2COt
a.反应①中Si。?作为玻璃的成分被消耗,用于刻蚀玻璃
b.反应②中Si(L表现出氧化性
c.反应③中Si。?表现了酸性氧化物的通性
d.反应④符合用难挥发性的酸酎制取易挥发性的酸酎的道理
e.反应⑤中SiOz未参加氧化还原反应
A.aceB.bdeC.cdeD.ab
11、我国研制的新型“连续纤维增韧”航空材料宇航服,其主要成分
由碳化硅陶瓷和碳纤维复合而成,下列叙述正确的是()
A.它耐高温、抗氧化性强
B.它比钢铁密度小、硬度大,但质地较脆
C.它有固定的熔、沸点
D.它是一种新型有机高分子材料
12、光缆的主要成分为Si。?。
.5G
下列叙述正确的是()
A.CO?与SiOz都能跟H.0反应生成相应的酸
B.Si。?与CO?都不能与酸反应
C.Si。?与C02(干冰)都能够与氢氧化钠溶液反应
D.水晶的主要成分是SiC
13、下列说法正确的是()
A.普通玻璃的主要成分可以表示为Na20•CaO•6SiO2,说明普通
玻璃为纯净物
B.制玻璃的过程中发生反应Na2«)3+SiO2遏暹NazSiOs+CO2t,说
明酸性H2SiO3>H2CO3
C.水晶玻璃、普通玻璃均属于硅酸盐产品
D.青花瓷胎体的原料为高岭土[AbSizCUOH)」,用氧化物形式可
表示为AI2O3・2s示2・2H2。
14、Si。?是一种化工原料,可以制备一系列物质。下列说法正确的是(
Si(单晶硅)
HC1
A.图中所有反应都不属于氧化还原反应
B.硅酸盐的化学性质稳定,常用于制造光导纤维
C.可用盐酸除去石英砂(主要成分为SiO2)中少量的碳酸钙
D.普通玻璃是由纯碱、黏土和石英砂制成的,具有固定的熔点
15、氮化碳结构如图所示,其硬度超过金刚石晶体,成为首屈一指的超
硬新材料。下列有关氮化碳的说法不正确的是()
A.氮化碳属于化合物
B.氮化碳中碳显-4价,氮显+3价
C.氮化碳的化学式为C.M
D.每个碳原子与四个氮原子相连,每个氮原子与三个碳原子相连
二、非选择题(本题4小题)
16、氮化硅是一种高温陶瓷材料,它的硬度大、熔点高、耐磨损、化
学性质稳定、抗冷热冲击,工业上曾普遍采用高纯硅与纯氮气在1300
℃反应获得。
⑴根据性质,推测氮化硅陶瓷的用途是(填序号)。
A.制汽轮机叶片B.制有色玻璃
C.制永久性模具D.制造柴油机
(2)根据元素周期律知识,请写出氮化硅的化学式o
⑶氮化硅陶瓷抗腐蚀能力强,除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应。
试推测该陶瓷被氢氟酸腐蚀的化学方程式。
(4)现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,可得较
高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为o
17、硅是带来人类文明的重要元素之一,在传统材料发展到信息材料
的过程中创造了一个又一个奇迹。已知SisM与氢氟酸反应。
(1)一种用工业硅(含少量铁、铜的单质及化合物)和氮气(含少量氧气)
合成氮化硅的工艺主要流程如下:
硅块—►粉碎-----稀酸X蒸溜水
N?健麻H氮.炉片康卜康H后里理
600七1200~1400七I
18-36h—接真空装置氮化硅
已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅。
①弗净化时,铜屑的作用是;
②在氮化炉中反应为3Si(s)+2N2(g)=Si3NKs),该反应放热,开始时
须严格控制氮气的流速以控制温度的原因是0
③X可能是(选填“盐酸”“硝酸”“硫酸”或“氢氟
酸”)。
⑵SiHCh遇水剧烈反应,该反应的化学方程式为
18、单质Z是一种常见的半导体材料,可由X通过如图所示的路线制
备。其中X为Z的氧化物;Y为氢化物,分子结构与甲烷相似。回答下
歹U问题:
X^Mg2Z-Y-Z
⑴由X制备Mg2Z的化学方程式为。
⑵由Mg2Z生成Y的化学方程式为,Y分子的电子式为
_________________________O
(3)Z、X中共价键的类型分别是、o
19、单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二
氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四
氯化硅(反应温度450〜500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得
高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
一
连
接
足
“
处
理
装
置
一
AD
相关信息如下:
a.四氯化硅接触水会发生化学反应;b.硼、铝、铁、磷在高温下
均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下
表:
物质SiCLBCLAlClaFeCLPC15
沸点/℃57.712.8——315—
熔点/℃-70.0-107.2————
升华温度/℃——一180300162
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的化学方程式:,口中
发生反应的化学方程式:_______________________________
(2)A中g管的作用是,装置C中的试剂是,作用是
(3)装置E中的h瓶需要冷却的理由是o
(4)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精储(类似多次蒸储)得到高
纯度四氯化硅,精僧后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元
素是(填写元素符号)。
⑸过量的氯气可以用石灰乳来处理,请写出该反应的化学方程式:
答案与解析
1、A
解析:工业上以黏土为原料烧制瓷器,A正确;二氧化硅对光具有良好
的全反射作用,故用于制作光导纤维,而Si为半导体材料,可作光电
池材料,B错误;光导纤维是新型无机非金属材料,C错误;新型无机非
金属材料具有高强度,D错误。
2、C
解析:A.水泥、玻璃、陶瓷是传统的硅酸盐产品,A正确;B.氯气是一
种黄绿色、有毒的气体,B正确;C.玛瑙的主要成分是二氧化硅,C错
误;D.硅在电子工业中可以作半导体,是最重要的半导体材料,D正确。
3、A
解析:钢化玻璃是将普通玻璃加热软化后,迅速冷却后得到的,成分
与普通玻璃一样,故A错误;水泥的主要成分是硅酸二钙、硅酸三钙
和铝酸三钙,故B正确;水泥具有水硬性,因此在保存和运输过程中
要注意防水防潮,故C正确;陶瓷的釉料在烧制时一,若空气过量,金
属被氧化生成高价态物质,显示的是高价态的金属的颜色,故D正确。
4、C
解析:有些石英晶体有颜色也不透明,如玛瑙,A错误;石英晶体中
每个Si周围结合4个0,每个。周围结合2个Si,B错误;石英是
制光导纤维的材料,二氧化碳是酸性氧化物,与碱反应,所以光导纤
维在强碱性条件下易发生“断”路,C正确;通过石英与碳反应可以
得到粗硅,然后粗硅再与Ck反应生成SiCL”SiCL与比反应得到纯
净的Si,D错误。
5、C
解析:二氧化硅不能与水反应,A项错误;氮化硅、光导纤维、氧化
铝陶瓷都属于新型无机非金属材料,玻璃属于传统无机非金属材料,
B项错误;水玻璃是硅酸钠的水溶液,不燃烧也不易被腐蚀,具有防
腐性,木材、织物浸过水玻璃后具有防腐性能且不易燃烧,C项正确;
光导纤维的主要成分是二氧化硅,可广泛用于通信和医疗领域,D项
错误。
6、D
解析:二氧化硅能被碳还原生成硅单质和一氧化碳,故①错误;二氧化
硅能与碳酸钠反应生成硅酸钠和二氧化碳,故②错误;二氧化硅能与
氢氟酸反应生成四氟化硅气体,故③错误;二氧化硅是酸性氧化物,不
能与硝酸反应,故④正确;二氧化硅能与氢氧化钠反应生成硅酸钠,故
⑤错误。
7、B
解析:本题主要考查玻璃的生产原理及学生思维的严密性。泥沙的主
要成分是SiOz,与Na2cO3、CaO在高温熔化过程中发生如下反应:
高温
SiO2+Na2CO3^=Na2SiO;5+CO2t,
局温
Si02+CaO=CaSi03,
生成的NazSiOs、CaSiOs与SiO?熔合在一起形成一种玻璃态物质,
即我们通常说的普通玻璃,玻璃是一种硅酸盐产品。
8、C
解析:不同的金属氧化物颜色可能不同,在高温下,釉料中的金属化合
物发生氧化还原反应导致的颜色变化称为窑变,A正确;氧化铝陶瓷属
于新型无机非金属材料,B正确;瓷器的原料主要是黏土,还含有其他
物质,是混合物,C错误;陶瓷属于硅酸盐材料,耐酸碱腐蚀,D正确。
9、B
解析:SiC和Si。?中硅元素的化合价均为+4,A正确;SiC是还原产
物,NaCl是氧化产物,B错误;SiOz制备单质Si需加入还原剂,单质Si
制备SiCl4需加入氧化剂,C正确;一维粒子上下表面均能与其他物质
接触,比表面积大,对微小粒子有较强的吸附能力,D正确。
10、B
解析:通常用氢氟酸来刻蚀玻璃,与之对应的反应是③,因此a、c
判断错误;反应②是一个置换反应,其中二氧化硅被还原,表现出氧
化性,b判断正确;反应④是一个复分解反应,用难挥发的二氧化硅
制取易挥发的二氧化碳,d判断正确;反应⑤中碳的化合价由0价变
为-4和+2价,硅的化合价和氧的化合价都没有改变,因此二氧化
硅没有参加氧化还原反应,e判断正确。
11、A
解析:碳化硅陶瓷具备耐高温、抗氧化性强的特点,A正确;“连续纤
维增韧”航空材料比钢铁密度小,硬度大,且韧性好,B错误;“连续纤
维增韧”航空材料宇航服,其主要成分由碳化硅陶瓷和碳纤维复合而
成,属于混合物,没有固定的熔、沸点,C错误;新型“连续纤维增韧”
航空材料是一种新型无机非金属材料,D错误。
12、C
解析:A项,CO?与水反应,SiOz不与水反应,也不溶于水;B项,Si。2为酸
性氧化物,能与HF反应,但CO?不与酸反应;C项,Si02、C02均能与NaOH
溶液反应:SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2。,CO2+2NaOH=Na2CO3+H2O;D1^,
晶是纯净的Si02,SiC俗称金刚砂。
13、D
解析:普通玻璃的主要成分可以表示为Na2O-CaO・6SiO2,但普通玻
璃属于混合物,A错误;反应Na2cOs+SiOz圜遢NazSiOs+CO2t能发生
是因为生成的CO?不断逸出,且该反应不是在溶液中发生的,不能作
为判断碳酸和硅酸酸性强弱的依据,事实上碳酸的酸性强于硅酸的酸
性,B错误;水晶玻璃的主要成分是二氧化硅,不属于硅酸盐产品,
C错误。
14、C
解析:化学反应前后有元素化合价变化的一定是氧化还原反应,二氧
化硅与碳反应生成硅单质的反应有元素化合价的变化,属于氧化还原
反应,故A错误;光导纤维的成分是二氧化硅,不是硅酸盐,故B错误;
碳酸钙溶于盐酸生成氯化钙和水以及二氧化碳,二氧化硅和盐酸不反
应,可以用盐酸除去石英砂(主要成分为Si02)中混有的少量碳酸钙,
故C正确;玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,玻璃属于混合物,
没有固定的熔点,故D错误。
15、B
解析:碳氮原子间以共价键结合,由于氮原子的得电子能力大于碳原
子,共用电子对偏向氮原子而使其显负价,根据最外层电子数可得碳
显+4价,氮显-3价,据此也可得出其化学式为C3N.bA、C正确、B错误;
由题图分析得每一个碳原子与四个氮原子相连,每个氮原子与三个碳
原子相连,D正确。
16、解析:(1)氮化硅陶瓷硬度大、耐磨损、抗腐蚀、抗冷热冲击,
所以可用来制造汽轮机叶片、永久性模具以及柴油机等。(2)氮化硅
中,氮的非金属性强,应显-3价,硅的还原性强,且+4价稳定,故应显
+4价。由此可得氮化硅的化学式:SisN」。
答案:(1)ACD
⑵SisN」
(3)Si3N.4+12HF=3SiF.1+4NH3
(4)3SiC14+2N2+6H2—Si3K,+12HC1
17、解析:(1)①氮气中含有少量氧气,需将氮气净化,用Cu除去氧气。
②氮化炉温度为1200~1400℃,硅的熔点为1420℃,该反应是放
热反应,严格控制氮气流速,以控制温度为1200—1400℃,防止硅
熔化成团,阻碍硅与氮气充分接触。③SisN」与氢氟酸反应,而硝酸不反
应,且稀硝酸可将硅块中的Fe、Cu杂质溶解而除去。(2)SiHCh与乩0
反应生成IhSiOs、盐酸和比。
答案:(1)①除去原料气中的氧气
②因为反应放热,防止局部过热,导致硅熔化成团,阻碍与M的充分接
触③硝酸
(2)SiHCl3+3H20=H2Si03+3HCl+H2f
18、解析:Z是半导体材料,则Z为Si,氧化物X为Si。?。
⑴根据反应的流程图可知,二氧化硅与Mg反应生成
电Si,SiO2+4Mg—2Mg0+Mg2Sio
⑵NfeSi与盐酸反应生成的Y为氢化物,则
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