光化学反应仪曝光及显影制程术语手册

第第页光化学反应仪曝光及显影制程术语手册光化学反应仪重要用于讨论气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、反应容器是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有供给分析反应产物和自由基的样品，测定反应动力学常数，测定量子产率等功能，广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等讨论领域光化学、干膜、曝光及显影制程术语手册1、Absorption领受，吸入指被领受物会进入主体的内部，是一种化学式的吸入步履。如光化反映中的光能领受，或板材与绿漆对溶剂的吸入等。还有一貌似词Adsorption则是指吸附而言，只附着在主体的概略，是一种物理式的亲和吸附。2、ActinicLight（orIntensity，orRadiation）有用光指用以完成光化反映各类光线中，其Z有用波长规模的光而言。例如在360～420nm波长规模的光，对偶氮棕片、浅显吵嘴底片及重铬酸盐感光膜等，其等反映均Z快Z且功用Z大，谓之有用光。3、Acutance解像尖锐度是指各类由感光编制所取得的图像，其线条边缘的尖锐景象抽象（Sharpness），此与解像度Resolution不合。后者是指在必定宽度距离中，可以了了的显像（Develope）解出若干良多多少组“线对”而言（LinePair，系指一条线路及一个空间的组合），普简易称只说解出机条“线”而已。4、AdhesionPromotor附出力增长剂多指干膜中所添加的某些化学品，能促使其与铜面发生“化学键”，而增长其与底材间之附出力者皆谓之。5、Binder粘结剂各类积层板中的接着树脂部份，或干膜之阻剂中，所添加用以“成形”而不致太“散”的接着及构成剂类。6、BlurEdge（Circle）恍惚边带，恍惚边圈多层板各内层孔环与孔位之间在做瞄准度搜检时，可把持X光透视法为之。由于X光之光源与其机组均非平行光之机关，故所得圆垫（Pad）之削减回忆，其边缘之解像其实不明锐了了，称为BlurEdge。7、BreakPoint出像点，显像点指制程中已有干膜贴附的“在制板”，于自动保送线显像室上下喷液中遏制显像时，抵达其完成冲洗而出现出了了图形的“旅程点”，谓之“BreakPoint”。所经过过的冲洗旅程，以占显像室长度的50～75%之间为好，如斯可以使剩下旅途中的清水冲洗，更能加强断根残膜的成果。8、CarbonArcLamp碳弧灯晚期电路板底片的翻制或版膜的分娩时，为其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之间，施加高电压而发生弧光的拆卸。9、CleanRoom无尘室、干净室是一个遭到卖力经管及精采把握的房间，其温度、湿度、压力都可加以调剂，且气氛中的尘埃及臭气已予以消弭，为半导体及细线电路板分娩制造必需的景象抽象。浅显“干净度”的表达，是以每“立方呎”的气氛中，含有大于0.5μm以上的尘粒数目，做为分级的尺度，又为俭仆成本起见，常只在使命台面上设置部门无尘的景象抽象，以尝试必需的使命，称CleanBenches。10、CollimatedLight平行光以感光法遏制回忆转移时，为添加底片与板面间，在图案上的变形走样起见，应接受平行光遏制曝光制程。这类平行光是经由屡次反射折射，而取得低热量且貌似平行的光源，称为CollimatedLight，为细线路建筑必需的装备。由于垂直于板面的平行光，对板面或景象抽象中的少许尘埃都很是缓慢，常会忠诚的暗示在所晒出的回忆上，构成很多额定的漏洞错误，反不如浅显散射或漫射光源可以或许自彼此补而消弥，故接受平行光时，必需还要无尘室的合营才行。此时底片与待曝光的板面之间，已无需再做抽真空的密接（CloseContact），而可间接使用较严重的SoftContact或OffContact了。11、Conformity吻合性，服贴性完成零件坏配的板子，为使整片板子外形遭到卖力的呵护起见，再以绝缘性的涂料予以封护涂装，使有更好的信任性。浅显或较高条理的拆卸板，才会用到这类外形贴护层。12、DeclinationAngle斜射角由光源所间接射下的光线，或经各类折射反射过程后，再行射下的光线中，凡出现不垂直射在受光面上，而与“垂直法线”呈某一斜角者（即图中之a角）该斜角即称DeclinationAngle。当此斜光打在干膜阻剂边缘所构成的“小孔相机”并经Mylar折光下，会泛起另外一“平行光”之半角（CollimationHalfAngle，CHA）。但凡“细线路”曝光所邃密精彩的“高平行度”的曝光机时，其所呈的“斜射角”应小于1.5度，其“平行半角”也须小于1.5度。13、Definition边缘传神度在以感光法或印刷法遏制图形或回忆转移时，所取得的下一代图案，其线路或各导体的边缘，是不是能泛起齐直而又忠于原底片之外形，称为“边缘齐直性”或传神度“Definition”。14、Densitomer透光度计是一种对吵嘴底片之透光度（Dmin）或遮光度（Dmax）遏制丈量之仪器，以搜检该底片之劣化水平若何。其常常使用的品牌如X—Rite369等于。15、Developer显像液，显影液，显像机用以冲洗掉未感光聚合的膜层，而留下已感光聚合的阻剂层图案，其所用的化学品溶液称为显像液,如干膜制程所用的碳酸钠（1％）溶液等于。16、Developing显像，显影是指感光回忆转移过程中，由母片翻制子片时称为显影。但对下一代像片或干膜图案的出现作业，则应称为“显像”。既然是由底片上的“影”转移成为板面的“像”，虽然就该当称为“显像”，而不宜再续称底片阶段的“显影”，这是浅而易见的事理。可是业界积非成是习用已久，一时兴不苟且更正。日文则称此为“现像”。17、DiazoFilm偶氮棕片是一种有棕色阻光膜的底片，为干膜回忆转移时，在紫外光中公用的曝光用具（Phototool）。这类偶氮片即使在棕色的遮光区,也能在“可见光”中透视现实片下的板面景象抽象，比吵嘴底片要便当的多。18、DryFilm干膜是一种做为电路板回忆转移用的干性感光薄膜阻剂,还有PE及PET两层皮膜将之夹心呵护。现场施工时可将PE的隔离层撕掉，让中心的感光阻剂膜压贴在板子的铜面上,在经由底片感光后即可再撕掉PET的表护膜，遏制冲洗显像而构成线路图形的部门阻剂，进而可再尝试蚀刻（内层）或电镀（外层）制程，Z初在蚀铜及剥膜后，即取得有裸铜线路的板面。19、EmulsionSide药膜面吵嘴底片或Diazo棕色底片，在Mylar通明片基（常常使用者有4mil与7mil两种）的一个概略上涂有薄的感光乳胶（Emulsion）层，做为回忆转移的前言对象。当从已有图案的母片要翻照出“光性”相反的子片时，必需谨遵“药面贴药面”（EmulsiontoEmulsion）的基来历根抵则，以消弭因片基厚度而泛起的折光，添加更生画面的变形走样。20、Exposure曝光把持紫外线（UV）的能量，使干膜或印墨中的光敏物资遏制光化学反映，以抵达遴选性部门架桥软化的成果，完成回忆转移的手段称为曝光。21、Foot残足指干膜在显像今后部份决计留下阻剂，其根部与铜面接触的死角处，在显像时不苟且冲洗干净而残留的余角（Fillet），称为Foot或Cove。当干膜太厚或曝光能量贫乏时，常会泛起残足，将对线宽构成影响。22、Halation环晕指曝光制程中领受光照之图案概略，其外缘常构成明暗之间的环晕。成因是光线穿过半通明之被照体而抵达另外一面，受反射折光回到背面来，即泛起混沌不清的边缘地带。23、HalfAngle半角此词的正式称号是CollimationHalfAngle“平行光半角”。是指曝光机所射下的“斜光”，抵达底片上回忆图案的边缘，由此“边缘”所发生“小孔拍照机”效应，而将“斜光”扩大成“发散光”其扩大角度的一半，谓之“平行光半角”（CHA），简称“半角”。24、HoldingTime停置时辰当干膜在板子铜面上完成压膜步履后，需停置15～30分钟，使膜层与铜面之间发生更强的附出力；而经曝光后也要再停置15～30分钟，让已感光的部份膜体，延续遏制的架桥聚合反映，以便耐得住显像液的冲洗，此两者皆谓之“停置时辰”。25、Illuminance照度指照射到物体概略的全部“光能量”而言。26、ImageTransfer回忆转移，图像转移在电路板工业中是指将底片上的线路图形，以“间接光阻”的编制或“间接印刷”的编制转移到板面上，使板子成为零件的互连配线及拆卸的载体，而得以阐扬功用。回忆转移是电路板制程中要的一站。27、Laminator压膜机当阻剂干膜或防焊干膜以热压编制贴附在板子铜面上时，所使用的加热辗压式压膜机，称之Laminator。28、LightIntegrator光能堆集器、光能积分器是在某一时段内，对物体概略合计其全部所取得光能量的一种仪器。此仪器中含滤光器，可用以除去浅显待测波长之外的光线。当此仪另与计时器合营后，可合计物体概略在按时中所领遭到的总能量。浅显干膜曝光机中都加装有这类“积分器”，使曝光作业加倍切确。29、LightIntensity光强度单元时辰内（秒）抵达物体概略的光能量谓之“光强度”。其单元为Watt/cm2,延续一时段中所累计者即为合计光能量，其单元为Joule（Watt？Sec）。30、Luminance发光强度，耀度指由发光物体概略所发出或某些物体所反射出的光通量而言。貌似的字词尚有“光能量”LuminousEnergy。31、Negative—ActingResist负性传染激动之阻剂，负型阻剂是指感光后能发生聚合反映的化学物资，以其所配制的湿膜或干膜，经曝光、显像后，可将未感光未聚合的皮膜洗掉，而只在板面上留下已聚合的阻剂图形，的原始图案相反，这类感光阻剂称之为“负性传染激动阻剂”，也称为NegativeWorkingResist。反之，能发生感光分化反映，板面的阻剂图案与底片不异者，则称为PositiveActingResis。电路板因解像度（Resolution，陆地用语为“分辩率”）的要求不高，但凡接受“负性传染激动”的阻剂即可，且也较低价。至于半导体IC、混成电路（Hybrid）、液晶线路（LCD）等则采解像度较好的“正型”阻剂，的其代价也很是贵。32、MercuryVaperLamp汞气灯是一种不延续光谱的光源，其要的四五个强峰位置,是调集在波长365～560nm之间。其当光源强度之揭露与能量的施加,在时辰上会稍有后进。且光源熄灭后若需再时，还需求经由一段冷却的时辰。是以这类光源一旦策动后就要延续使用，不宜开开关关。在不用时可采“光栅”的编制做为阻断把握，避开开关次数太多而损及光源的寿命。33、NewtonRing牛顿环当光线经由过程不合密度的介质，而其间的距离（Gap，例如气氛）又薄时，则入射光会与此薄的气氛间隙发生传染激动，而泛起五彩状齐心圆的环状现象，由因此牛顿所察觉的故称为“牛顿环”。干膜之曝光因系在“不平行”或散射光源下遏制的，为添加母片与子片间因光线斜射而构成失真或不忠诚现象，故必需将两者之间的间距尽可以或许予以加添，即在抽真空下密接（CloseContact），使完成药面接药面（ImulsionSidetoImulsionSide）之紧贴，以抵达的回忆转移。凡当两者之间尚有残剩气氛时，即暗示抽真空水平贫乏。此种未密接之回忆，必定会发生曝光不良而激发的解像劣化，乃至没法解像的景象抽象。而此残剩气氛所出现的牛顿环，若用手指去压挤时还会泛起移动现象，成为一种真空水平是