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文档简介
19/22超导材料的新型合成方法第一部分超导材料概述:定义、特性及应用。 2第二部分传统合成方法:高温高压法、化学气相沉积法等。 3第三部分新型合成方法需求:经济高效、环境友好。 6第四部分物理气相沉积法:原理、工艺及应用。 8第五部分分子束外延法:原理、工艺及应用。 11第六部分液相法:原理、工艺及应用。 13第七部分固相法:原理、工艺及应用。 16第八部分其他新型合成方法:离子束辅助沉积法、激光分子束外延法等。 19
第一部分超导材料概述:定义、特性及应用。关键词关键要点【超导材料概述】:
1.超导性是指某些材料在温度降低到一定临界温度(Tc)时,电阻突然消失的现象。
2.超导材料具有零电阻、完全抗磁和完美的导电性等特性。
3.超导材料可以应用于电力传输、医疗器械、粒子加速器和核磁共振成像等领域。
【超导材料的分类】:
超导材料概述:定义、特性及应用
1.超导材料定义:
超导材料是指在低于某个临界温度时,其电阻率突然降为零,同时具有完全抗磁性的材料。超导现象是一种非常重要的物理现象,它为理解物质的电磁特性和开发新型电子器件提供了新的思路。
2.超导材料的特性:
*电阻率为零:超导材料在临界温度以下,其电阻率突然降为零,这意味着电荷可以通过超导材料بدون损失地流动。
*完全抗磁性:超导材料在临界温度以下,其内部的磁场被完全排斥在外,这种现象称为完全抗磁性。
*超导相变:超导材料在临界温度以下时,从正常态转变为超导态的过程称为超导相变。超导相变通常是二阶相变,即在临界温度处,热容、磁化率等物理量连续地变化。
*同位素效应:超导材料的临界温度与组成材料的同位素有关。对于相同的化学元素,不同同位素的超导材料的临界温度会有所不同。
*磁场效应:超导材料的临界温度受磁场的影响。当外加磁场强度超过某个临界值时,超导材料会发生相变,从超导态转变为正常态。
3.超导材料的应用:
*电力传输:超导材料可以用于制造超导电缆,将电力传输的损耗降到最低。
*磁共振成像(MRI):超导材料被广泛应用于磁共振成像(MRI)设备中,用于产生强磁场。
*粒子加速器:超导材料被用于制造粒子加速器的超导线圈,使粒子能够在加速器中达到更高的能量。
*超导计算机:超导材料被用于制造超导计算机,其运算速度远高于传统计算机。
*核聚变反应堆:超导材料被用于制造核聚变反应堆的超导线圈,以控制等离子体的运动。
4.超导材料的发展前景:
超导材料的研究和应用前景广阔。随着超导材料的不断发展,其在电力传输、医疗、工业、国防等领域的应用将更加广泛。未来,超导材料有望在能源、交通、通信等领域发挥更大的作用,极大地改变我们的生活和生产方式。第二部分传统合成方法:高温高压法、化学气相沉积法等。关键词关键要点传统合成方法:高温高压法
1.高温高压法是将原料粉末混合均匀,在高温高压下反应生成超导材料的方法。通常需要用到高压容器,并将原料混合物加热至极高温度。这种方法可以产生高纯度和致密的超导材料,但工艺复杂,成本较高。
2.高温高压法常用于合成具有复杂结构和高临界温度的超导材料。例如,钇钡铜氧(YBCO)超导材料通常采用高温高压法合成。YBCO超导材料具有很高的临界温度,使其成为一种有前景的超导材料。
3.高温高压法也用于合成其他类型的超导材料,如铁基超导材料和铜氧化物超导材料。这些材料具有不同的特性和应用,但都具有较高的临界温度和较强的超导性能。
化学气相沉积法
1.化学气相沉积法(CVD)是将气态前驱物通过化学反应生成超导材料的方法。这种方法通常用于生产薄膜超导材料,例如YBCO薄膜。CVD法工艺相对简单,成本较低,但对反应条件和薄膜质量控制要求较高。
2.CVD法可以产生高纯度和致密的超导薄膜,并能精确控制薄膜的厚度和组成。这种方法常用于制备超导电子器件,如超导量子比特和超导微波谐振器。
3.CVD法也用于合成其他类型的超导薄膜,如铁基超导薄膜和铜氧化物超导薄膜。这些薄膜具有不同的特性和应用,但都具有较高的临界温度和较强的超导性能。传统合成方法
#高温高压法
高温高压法是一种传统的超导材料合成方法,它利用高温和高压来促进材料的形成。在该方法中,原料粉末被装入一个高压釜中,然后将高压釜加热到很高的温度(通常在1000℃以上)并施加高压(通常在10GPa以上)。在这样的条件下,原料粉末会发生反应并形成超导材料。
高温高压法可以合成各种类型的超导材料,包括金属超导体、陶瓷超导体和有机超导体。然而,该方法也有其局限性。首先,它需要昂贵的高压设备。其次,该方法很难控制反应条件,这可能导致难以获得高质量的超导材料。
#化学气相沉积法
化学气相沉积法(CVD)是一种将气态前驱体转化为固态材料的薄膜沉积技术。在该方法中,气态前驱体被引入到反应腔中,然后在高温下分解成固态材料并沉积在基板上。
CVD法可以合成各种类型的超导材料,包括金属超导体、陶瓷超导体和有机超导体。该方法的优点是它可以精确控制薄膜的厚度和组成,并且可以制备出高质量的超导材料。然而,该方法的缺点是它需要昂贵的设备和复杂的工艺。
#分子束外延法
分子束外延法(MBE)是一种将原子或分子逐层沉积在基板上以形成薄膜的薄膜生长技术。在该方法中,原子或分子源被加热到很高的温度,然后蒸发出的原子或分子在基板上沉积。
MBE法可以合成各种类型的超导材料,包括金属超导体、陶瓷超导体和有机超导体。该方法的优点是它可以精确控制薄膜的厚度和组成,并且可以制备出高质量的超导材料。然而,该方法的缺点是它需要昂贵的设备和复杂的工艺。
#溶胶-凝胶法
溶胶-凝胶法是一种将金属有机化合物转化为氧化物薄膜的薄膜沉积技术。在该方法中,金属有机化合物与溶剂和凝胶剂混合形成溶胶。然后,溶胶被涂覆在基板上并加热,使溶剂和凝胶剂蒸发,留下氧化物薄膜。
溶胶-凝胶法可以合成各种类型的超导材料,包括金属超导体、陶瓷超导体和有机超导体。该方法的优点是它可以精确控制薄膜的厚度和组成,并且可以制备出高质量的超导材料。然而,该方法的缺点是它需要昂贵的设备和复杂的工艺。第三部分新型合成方法需求:经济高效、环境友好。关键词关键要点经济高效
1.降低合成成本:新型超导材料合成方法应该具有较低的原材料成本和工艺能耗,以降低总体生产成本,利于规模化生产。
2.合成工艺优化:通过优化合成工艺参数和步骤,如温度、压力、时间和催化剂用量,可以减少合成时间、降低能耗,提高产率,从而降低合成成本。
3.合成时间缩短:缩短合成时间有利于提高生产效率,降低运营成本。研究更快的合成方法,如微波合成、超声波合成等,探索更有效的催化剂或反应条件,以缩短合成时间。
环境友好
1.减少有毒化学品的应用:传统的超导材料合成方法通常涉及有毒化学品,如氰化物、砷化物和挥发性有机化合物(VOCs)。寻求使用更安全的替代品,如水溶液、无机盐和生物材料,以减少对环境和人类健康的危害。
2.减少能源消耗:超导材料的合成通常需要高温、高压和高能耗。探索低温、常压和低能耗的合成方法,如溶胶-凝胶法、电沉积法和化学气相沉积法,以降低能源消耗和碳足迹。
3.废物减少和回收利用:超导材料合成过程中产生的废物应得到妥善处理和回收利用。开发循环利用废物的绿色合成方法,如水热合成、离子液体合成等,以减少环境污染。新型合成方法需求:经济高效、环境友好
1.经济效益
超导材料的合成通常需要昂贵的原料和复杂的工艺,导致其成本居高不下。为了实现超导材料的广泛应用,亟需开发经济高效的合成方法。这不仅可以降低生产成本,还可提高超导材料的市场竞争力。
2.环境友好性
传统超导材料的合成往往涉及有毒有害的化学物质,对环境造成严重污染。为了实现可持续发展,必须开发绿色环保的合成方法。近年来,绿色化学理念逐渐被引入超导材料的合成领域,催生了一系列低毒无害、节能减排的新型合成方法。
3.原材料可及性
一些超导材料所需的原料稀缺或价格昂贵,严重制约了其大规模应用。因此,开发能够利用廉价易得的原料合成超导材料的方法至关重要。这不仅可以降低生产成本,还可确保超导材料的稳定供应。
新型合成方法的探索与发展
近年来,研究人员不断探索和开发新型超导材料的合成方法,取得了许多重要进展。这些新型合成方法主要包括:
1.化学气相沉积法
化学气相沉积法(CVD)是一种通过化学反应在基底上沉积薄膜的方法。CVD法合成超导材料具有成本低、工艺简单、薄膜质量高等优点。目前,CVD法已成功合成出多种超导材料,如YBCO、BSCCO、LSCO等。
2.分子束外延法
分子束外延法(MBE)是一种通过蒸发源产生分子束,并使分子束沉积在基底上形成薄膜的方法。MBE法合成超导材料具有成膜速率高、薄膜质量好等优点。目前,MBE法已成功合成出多种超导材料,如YBCO、BSCCO、LSCO等。
3.溶胶-凝胶法
溶胶-凝胶法是一种通过溶胶-凝胶转变过程合成材料的方法。溶胶-凝胶法合成超导材料具有成本低、工艺简单、材料纯度高等优点。目前,溶胶-凝胶法已成功合成出多种超导材料,如YBCO、BSCCO、LSCO等。
4.水热/溶剂热法
水热/溶剂热法是一种在高温高压条件下,利用水或有机溶剂作为反应介质,合成材料的方法。水热/溶剂热法合成超导材料具有反应温度低、工艺简单、材料纯度高等优点。目前,水热/溶剂热法已成功合成出多种超导材料,如YBCO、BSCCO、LSCO等。
5.机械合金化法
机械合金化法是一种通过机械能的作用,将两种或多种金属或合金粉末混合在一起,形成均匀合金粉末的方法。机械合金化法合成超导材料具有成本低、工艺简单、材料纯度高等优点。目前,机械合金化法已成功合成出多种超导材料,如YBCO、BSCCO、LSCO等。
这些新型合成方法的开发,极大地促进了超导材料的合成与应用研究,为超导材料的产业化发展奠定了基础。第四部分物理气相沉积法:原理、工艺及应用。关键词关键要点【物理气相沉积法:原理】
1.物理气相沉积法(PVD)的基本原理是通过物理手段将材料从源蒸发或溅射出来,并沉积(凝聚)在基底表面上,形成薄膜。
2.PVD法主要分为真空蒸发法和溅射法。真空蒸发法利用热能或电子束将材料蒸发,并沉积在基底上形成薄膜;溅射法则利用离子轰击目标材料,使之溅射并沉积在基底上。
3.PVD法可以沉积各种材料的薄膜,包括金属、半导体、绝缘体和合金等,薄膜的厚度可以从几纳米到几微米。
【物理气相沉积法:工艺】
物理气相沉积法(PVD)是一种薄膜沉积技术,利用物理手段将材料从固态或气态源转移到基板上,形成薄膜。PVD法具有沉积速率高、薄膜致密、纯度高、可控性强等优点,广泛应用于微电子器件、光学器件、传感器、太阳能电池等领域。
1.原理
PVD法是利用物理手段将材料从固态或气态源转移到基板上,形成薄膜。PVD法的基本原理是:将材料源加热或溅射,使材料原子或分子气化,并在基板上沉积,形成薄膜。
2.工艺
PVD法的主要工艺步骤如下:
(1)基板预处理:将基板清洗干净,去除表面的杂质,以提高薄膜的附着力和质量。
(2)真空抽气:将沉积腔抽成真空,以降低气体分子的浓度,减少杂质对薄膜的污染。
(3)材料源加热或溅射:将材料源加热或溅射,使材料原子或分子气化。
(4)薄膜沉积:材料原子或分子在基板上沉积,形成薄膜。
(5)薄膜退火:在沉积过程中或沉积后,对薄膜进行退火处理,以提高薄膜的晶体质量和电学性能。
3.应用
PVD法广泛应用于微电子器件、光学器件、传感器、太阳能电池等领域。
(1)微电子器件:PVD法用于沉积金属薄膜、介质薄膜和半导体薄膜,这些薄膜是微电子器件的重要组成部分。
(2)光学器件:PVD法用于沉积光学薄膜,如抗反射膜、反射膜、滤光膜等。这些薄膜可用于提高光学器件的性能。
(3)传感器:PVD法用于沉积传感器薄膜,如气体传感器薄膜、生物传感器薄膜等。这些薄膜可用于检测各种气体和生物分子。
(4)太阳能电池:PVD法用于沉积太阳能电池薄膜,如光伏薄膜、导电薄膜等。这些薄膜可用于提高太阳能电池的效率。
4.优缺点
PVD法的优点包括:
(1)沉积速率高;
(2)薄膜致密、纯度高;
(3)可控性强;
(4)适用于各种材料的沉积。
PVD法的缺点包括:
(1)需要真空环境,设备比较复杂;
(2)沉积过程中需要加热或溅射,对基板的热稳定性有一定的要求;
(3)薄膜的厚度均匀性受沉积工艺条件的影响。
5.发展趋势
随着微电子器件、光学器件、传感器和太阳能电池等领域的发展,PVD法也在不断发展和改进,主要表现在以下几个方面:
(1)开发新的材料源,以提高薄膜的性能;
(2)开发新的沉积工艺,以提高薄膜的均匀性和质量;
(3)开发新的设备,以降低沉积成本和提高生产效率。第五部分分子束外延法:原理、工艺及应用。关键词关键要点【分子束外延法概述】:
1.分子束外延法(MBE)是一种用于生长高纯度、均匀性和异质结构半导体材料的薄膜生长技术。
2.MBE采用分子束源产生的原子或分子流,逐层沉积在衬底上,实现逐层生长薄膜的工艺。
3.MBE可以精确控制薄膜的成分、厚度和掺杂浓度,并通过改变生长条件实现不同异质结构的生长。
【分子束外延法工艺流程】:
分子束外延法:原理、工艺及应用
#原理
分子束外延(MBE)是一种薄膜生长技术,通过将单个元素或化合物以分子或原子束的形式沉积到基底上,从而形成薄膜。MBE的原理是利用分子或原子束在基底表面上的吸附、扩散和反应过程,来实现薄膜的生长。
#工艺
MBE工艺通常在超高真空(UHV)环境中进行,以避免杂质的污染。MBE系统主要由以下几个部分组成:
-分子束源:分子束源是产生分子或原子束的装置。常用的分子束源有热蒸发源、电子束蒸发源、溅射源和分子束外延源等。
-基底:基底是薄膜生长的衬底,通常采用单晶衬底,如硅、砷化镓、蓝宝石等。
-生长室:生长室是薄膜生长的真空腔室,通常采用不锈钢或玻璃制成。
-真空系统:真空系统用于维持生长室内的超高真空环境。
-监测系统:监测系统用于监测薄膜的生长情况,包括膜厚、生长速率、表面形貌等。
#应用
MBE技术广泛应用于薄膜材料的生长和器件制造,包括:
-半导体器件:MBE技术可用于生长各种半导体材料,如砷化镓、磷化铟、氮化镓等,用于制造高性能的半导体器件,如场效应晶体管、激光器、太阳能电池等。
-超导材料:MBE技术可用于生长各种超导材料,如铜氧化物超导体、铁基超导体等,用于制造超导线材、超导磁体等。
-磁性材料:MBE技术可用于生长各种磁性材料,如金属磁性薄膜、铁氧体薄膜等,用于制造磁性传感器、磁存储器件等。
-光电材料:MBE技术可用于生长各种光电材料,如氮化镓、氧化锌等,用于制造发光二极管、太阳能电池等。
#优点
MBE技术具有以下优点:
-高纯度:由于MBE工艺在超高真空环境中进行,因此薄膜的纯度很高,杂质含量很低。
-精确控制:MBE技术可以精确控制薄膜的厚度、成分和掺杂浓度,从而实现对薄膜性能的精确控制。
-生长速度快:MBE技术的生长速度相对较快,可以快速地生长高质量的薄膜。
-良好的晶体质量:MBE生长的薄膜具有良好的晶体质量,缺陷密度低,适用于高性能器件的制造。
#缺点
MBE技术也存在一些缺点:
-成本高:MBE设备和工艺成本相对较高,需要专门的设施和技术人员。
-工艺复杂:MBE工艺复杂,需要严格控制生长条件,对操作人员的技术要求较高。
-生长面积小:MBE生长的薄膜面积通常较小,不适合大规模生产。第六部分液相法:原理、工艺及应用。关键词关键要点【液相法:原理】:
1.液相法是将超导材料的原料或前驱物溶解在适宜的溶剂中,通过一定的工艺条件,使溶液中的离子或分子发生反应,生成超导相的合成方法。
2.液相法具有工艺简单、原料利用率高、产品纯度高、易于实现大规模生产等优点。
3.液相法常用于制备高温超导材料、低温超导材料、有机超导材料等。
【液相法:工艺】
液相法:原理、工艺及应用
#原理
液相法是一种通过在高温下将金属或金属化合物溶解在液体溶剂中,然后缓慢冷却溶液,使超导材料从溶液中析出的方法。这种方法可以合成各种类型的超导材料,包括元素超导体、合金超导体和化合物超导体。
液相法的基本原理是,当金属或金属化合物溶解在液体溶剂中时,金属或金属化合物原子会与溶剂分子形成络合物。络合物的形成使金属或金属化合物原子之间的相互作用减弱,从而降低了材料的熔点。当溶液温度升高时,络合物会分解,金属或金属化合物原子就会重新结合,形成超导材料。
液相法的工艺过程通常包括以下几个步骤:
1.将金属或金属化合物与液体溶剂混合,形成溶液。
2.将溶液加热到一定温度,使金属或金属化合物溶解。
3.将溶液缓慢冷却,使超导材料从溶液中析出。
4.将超导材料与溶剂分离,并进行后续处理。
#工艺
液相法合成超导材料的工艺过程相对简单,但对工艺条件的要求很高。为了获得高质量的超导材料,需要严格控制溶液的组成、温度、冷却速率等工艺参数。
液相法合成超导材料的工艺参数主要包括:
1.溶液组成:溶液的组成决定了超导材料的成分和性能。一般来说,溶液中金属或金属化合物的浓度越高,超导材料的性能越好。但如果浓度过高,溶液的粘度会增加,不利于超导材料的析出。
2.温度:温度是液相法合成超导材料的关键工艺参数之一。温度过低,金属或金属化合物无法溶解在溶剂中;温度过高,金属或金属化合物会分解,无法形成超导材料。因此,需要根据金属或金属化合物与溶剂的相图来确定合适的温度范围。
3.冷却速率:冷却速率决定了超导材料的晶体结构和性能。冷却速率太快,超导材料会形成非晶态结构,性能较差;冷却速率太慢,超导材料会形成大晶粒结构,不利于超导电流的流动。因此,需要根据超导材料的性质来选择合适的冷却速率。
#应用
液相法是合成超导材料的重要方法之一,它可以合成各种类型的超导材料,包括元素超导体、合金超导体和化合物超导体。液相法合成的超导材料具有以下优点:
*纯度高:液相法合成的超导材料纯度高,杂质含量低,这有利于提高超导材料的性能。
*晶体结构好:液相法合成的超导材料晶体结构好,晶粒细小,这有利于超导电流的流动。
*性能优异:液相法合成的超导材料性能优异,临界温度高,临界电流密度大,这使得它们在实际应用中具有很大的潜力。
液相法合成的超导材料被广泛应用于各种领域,包括:
*能源领域:液相法合成的超导材料可用于制造超导电缆、超导发电机和超导变压器等,这些设备可以大大提高电能的传输和利用效率。
*电子领域:液相法合成的超导材料可用于制造超导芯片、超导存储器和超导器件等,这些器件具有很高的速度和性能,可以用于高性能计算机、通信和医疗等领域。
*医疗领域:液相法合成的超导材料可用于制造核磁共振成像(MRI)设备,MRI设备可以提供人体内部器官和组织的高分辨率图像,对疾病的诊断和治疗具有重要意义。
随着超导材料性能的不断提高,液相法合成超导材料的应用范围将进一步扩大,在未来,液相法合成的超导材料将成为改变人类社会的重要技术之一。第七部分固相法:原理、工艺及应用。关键词关键要点【主题名称】固相反应法的原理:
1.固相反应合成超导材料的基本原理是通过固态原料之间的固态反应来生成超导化合物。固相反应通常在高温下进行,反应物在固态下相互扩散,形成新的相。
2.固态反应法可以简单地将反应物混合在一起,然后加热到反应温度,直到反应完成。这种方法简单易行,成本低。然而,固相反应的速度通常很慢,反应时间可能很长。
3.为了提高固相反应的速度,可以采用一些方法。例如,可以将反应物研磨成细粉,以增加反应物的接触面积。还可以添加催化剂,以降低反应温度。
【主题名称】固相反应法的工艺:
固相法
固相法是一种在固态下合成超导材料的方法。这种方法通常涉及将两种或多种元素或化合物混合在一起,然后在高温下加热以形成超导化合物。固相法可以用于合成各种类型的超导材料,包括铜氧化物超导体、铁基超导体和有机超导体。
固相法的原理
固相法的基本原理是利用高温使两种或多种元素或化合物相互扩散,从而形成超导化合物。在固相法中,通常将两种或多种元素或化合物混合在一起,然后在高温下加热。加热过程中,两种或多种元素或化合物相互扩散,形成均匀的固溶体。随着温度的升高,固溶体的成分逐渐发生变化,最终形成超导化合物。
固相法的工艺
固相法的工艺过程通常包括以下几个步骤:
1.将两种或多种元素或化合物混合在一起。
2.将混合物加热到高温。
3.保持高温一段时间,使两种或多种元素或化合物相互扩散,形成均匀的固溶体。
4.缓慢冷却固溶体,使超导化合物析出。
5.对超导化合物进行后处理,以提高其性能。
固相法的应用
固相法已被广泛用于合成各种类型的超导材料,包括铜氧化物超导体、铁基超导体和有机超导体。固相法合成的超导材料具有许多优点,包括:
*高临界温度:固相法合成的超导材料通常具有较高的临界温度,这使得它们更适合于实际应用。
*高电流密度:固相法合成的超导材料通常具有较高的电流密度,这使得它们能够承受更大的电流。
*良好的机械性能:固相法合成的超导材料通常具有良好的机械性能,这使得它们更适合于实际应用。
固相法的挑战
固相法也面临着一些挑战,包括:
*合成过程复杂:固相法合成的超导材料通常需要经过复杂的合成过程,这使得它们的生产成本较高。
*合成的超导材料质量不稳定:固相法合成的超导材料的质量通常不稳定,这使得它们难以应用于实际应用。
固相法的研究进展
近年来,固相法合成超导材料的研究取得了很大进展。研究人员已经开发出新的合成方法,这些方法可以提高超导材料的质量和稳定性。此外,研究人员还开发出新的后处理方法,这些方法可以进一步提高超导材料的性能。
固相法是一种合成超导材料的重要方法。这种方法具有许多优点,但同时也面临着一些挑战。近年来,固相法合成超导材料的研究取得了很大进展。研究人员已经开发出新的合成方法和后处理方法,这些方法可以提高超导材料的质量和稳定性。随着固相法研究的不断深入,这种方法有望在未来得到更广泛的应用。第八部分其他新型合成方法:离子束辅助沉积法、激光分子束外延法等。关键词关键要点【离子束辅助沉积法】:
1.利用离子束轰击目标材料表面,产生溅射效应,将目标材料原子溅射出来,并在衬底上沉积形成薄膜。
2.离子束辅助沉积法可以制备多种超导材料薄膜,如YBCO、BSCCO、MgB2等。
3.离子束辅助沉积法可以实现超导薄膜的成分、结构和形貌的精确控制,从而获得高质量的超导薄膜。
【激光分子束外延法】:
离子束辅助沉积法(IBAD)
离子束辅助沉积法(IBAD)是一种物理气相沉积技术,利用离子束轰击沉积表面,促进沉积材料的生长。IBAD法具有以下优点:
*能够沉积高致密、高质量的薄膜。
*能够控制薄膜的成分和结构。
*能够在较低的温度下沉积薄膜。
IBAD法主要用于制备超导薄膜、半导体材料和光电材料等。
#工作原理
离子束辅助沉积法的基本原理是利用离子束轰击沉积表面,使沉积表面产生缺陷,从而促
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