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文档简介
放射物理放射源主要有三类:
①α、β、γ射线;②χ线;③电子束、质子束、中子束、负π介子束,以及其他粒子束等。照射方式:①体外远距离照射,简称外照射;②近距离治疗;③内用同位素治疗体内、外照射的区别
①体内照射治疗距离短;②体外照射只有少部分能量达到组织,体内照射则相反;③体外照射需选择不同能量的射线和复静照射技术;④体内照射某区剂量分布的均匀性运动比外照射差。
X
线
治
疗
机
T为电子的动能(Mev),Z为靶物质的原子序数(钨靶Z=74)
钴
-
60
治
疗
机
结构:①放射源②源客器及防护机头③遮线照装置④准直器⑤支持系统及其附属电子设备钴-60γ线的特点:
与深部x线机(200~400kv)相比的优点:①穿透力强②保护皮肤③骨和软组织有同等的吸收剂量④旁向散射小⑤经济可靠钴
-
60
半
影
问
题
医
用
加
速
器
高
LET
射
线
低LET射线:深部x线、钴-60γ线、加速器的x线、电子及其特点是在组织中治着次级粒子经迹上的线性能量传递(简称LET)较小,一般称之为低LET射线。(对乏氧细胞和Go期细胞作用小)。高LET射线:指快中子、质子、π负介子以及氦、碳、氮、氧、氖等重粒子。Bragg峰
放射敏感性╱OER—高LET<低LET(对含氧状态的依赖性)OER—高LET<低LET(对含氧状态的依赖性)╲SLD修复—高LET<低LET(乏氧细胞)快中子、X线放射敏感性随机细胞周期的变化
照射野及有关名词定义
放射源(S):一般规定为放射前表面的中心,或产生辐射的靶面中心。射野中心轴:表示射线束的中心对称轴线。临床上一般用放射源S穿过照射野中心的连线作为射野中心轴。
参考点(P):规定模体表面下射野中心轴上某一点为剂量计算或测量参考的点,表面到参考点的浓度称为d。400kv以下X线,参考点取在模体表面(=0),对高能X线或γ射线点取直模体表面下射野中心轴上最大剂量点位置(d0=dm),该位置随能量确定。照射野(A):表示射线束经准直器后垂直通过模体的范围,它与模体表面的截面大小表示照射野的面积。临床剂量学中规定模体内50%同等剂量曲线的延长线交于模体表面的区域定义为照射野的大小。校准点(C):在中心轴上指定的测量深度。模体表面到校准点深度称dc。源皮距(SSD):表示射线源到模体表面照射野中心的距离。源瘤距(STD):表示射线源沿射线中心轴到肿瘤内所考虑点的距离。源轴距(SAD):表示射线源到要机器等中心的距离。
百
分
深
度
剂
量
定义:PDD定义为射野中心轴上某一深度d厘米处的吸收剂量Dd与参考点深度d0处剂量Dd0之比的百分数:对≤400kvX线:PDD=Dd×100Ds对高能X(γ)射线:PDD=Dd×100Dm剂量建成区的物理原因
(1)当高能x(γ)线入射到人体成或体模时,从体表或皮下组织产生高能次级电子;(2)这些高能次级电子要穿过一定的组织深度耗尽能量后才停止;(3)由于(1)(2)两个原因,造成在最在电子射程范围内,由局能次级电子产生的吸收剂量随组织深度增加而增加,并能在电子最大射程附近达到最大。但是由于高能X(γ)线的强度随组织深度增加而按指数和反平方定律减少,造成产生的高能次级电子数随深度增加而减少,其总效果,在一定深度(建成区深度)以内,总吸收剂量随深度而增加。
电子束的基本特性
Ds:入射线表面剂量,以表面下0.5mm处的剂量表示。Dm:最大剂量点剂量Dx:X射线剂量Tt(R85):治疗深度,即确定为治疗剂量的特定值,如85%Dm值,该点的深度。R50:半峰值深度(HVD)Rp:电子束的射程Rq:定义为深度剂量曲线上,过剂量跌落最陡点切线与Dm水平线交点的深度。
剂量建成区剂量分布剂量跌落区X射线污染区临床剂量学原则
(1)肿瘤剂量要求准确(2)治疗的肿瘤区域内,剂量分布要均匀,剂量变化梯度不能超过10%,即要达到90%的剂量分布。(3)射野设计要尽是提高治疗区域内剂量,降低照射区正常组织受量。(4)保护肿瘤周围重要器官免受照射,至少不能使它们接受超过其耐药量的范围。
治疗比:正常组织耐受量和肿瘤致死之比。如精原细胞瘤:肠管耐受量5000cay精原细胞瘤致死剂量2500cay治疗比>1畸型瘤致死量10000cay,治疗比<1
实验证明,肿瘤剂量若有近似10%的增加,肿瘤控制率(TCP)几乎有5倍的增加(从15%增加到75%)肿瘤致死量(TCD):将达到95%的肿瘤控制率所需要的剂量(TCD95)定义为肿瘤致死量。TD5/5:最小的器官损伤剂量,指在所有用标准治疗条件的肿瘤病人中,治疗后5年,因放射造成严重放射损伤的病人不超过5%。TD50/5:最大的器官损伤定义为TD50/5,表明在所有用标准治疗条件的肿瘤病人中,治疗后5年,因放射造成严重放射损伤的病人不超过50%。外照射靶区剂量分布的规定
肿瘤区(GTV)靶区(CTV)计划区(PTV):90%治疗区(TV):80%照射区(IV):50%
外照射技
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