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文档简介
半导体物理习题解答
1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量民(k)分别
为:
h2k2/("ZD
E&k)=-------+---------------
6加0mo
曲为电子惯性质量,ki=l/2a;a=0.314nm»试求:
①禁带宽度;
②导带底电子有效质量;
③价带顶电子有效质量;
④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
[解]①禁带宽度Eg
根据空出2=2hk+2”(kkJ=0;可求出对应导带能量极小值E,”“的在值:
dk3m。
3
k111n=—kt,
41
为
由题中艮式可得:EBin=Ec(K)|k=k.in=----k;
4mo
由题中E、式可看出,对应价带能量极大值Emax的k值为:人=0;
并且E„in=EY(k)Ik=kw=%";/.Eg=Emin—£^=h2k^_h2
6mo12mo48叫。2
___________(6.62xIQ-27)2
=0.64eV
48x9.1xl0-28x(3.14xl0-8)2xl.6xl0-11
②导带底电子有效质量m.
2
d2E_2h22h防2m产-噌=%。
c------1------=------;
dk28°
dk3mom03m0
③价带顶电子有效质量巾'
辑=_纥牛」
22
dkm()dk6
④准动量的改变量
33/z
hAk=h(knin-kmax)~—/zAj=--------
48a
[毕]
1-2.(P33)晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加l()2v/m,I0,V/m的电场时,试分别计算电子自能带底
运动到能带顶所需的时间。
dkh
[解]设电场强度为E,・・・F=h——二qE(取绝对值)Adt=——dk
dtqE
f'Jhh1
,t=dt=\2a—dk=-----代入数据得:
JoJoqEqE2a
________6.62xIO"__________8,3xIQ-6
2xl.6xlO-|9x2.5xlO-1°xE'E~
当E=l()2v/m时,t=8.3Xl()-8(s).E=I(rv/m时,t=8.3Xl()r3(s)。[毕]
3-7.(Pw)①在室温下,错的有效状态密度Nc=L05X10%ms,Nv=5.7X10'W3,试求错的载流子有效
质量rn;和mp*。计算77k时的Nc和Nv。己知300k时,Eg=0.67eV。77k时Eg=O.76eV。求这两个温度时褚
的本征载流子浓度。②77k,褚的电子浓度为10“cmT,假定浓度为零,而Ec-ED=0.01eV,求错中施主浓度N”
为多少?
[解]①室温下,T=300k(27℃),ko=1.38OXlO_23J/K,h=6.625X10-34J•S,
对于错:Nc=1.05X1019cm-3,Nv=5.7X10IBcm-3:
#求300k时的Nc和Nv:
根据(3—18)式:
342105x109
力2(竺户(6.625x1O-)(-,)3
2(2万.成人。
nm=——2_=-----------------2------=5.0968x10-31.根据
下'2万•岛T2x3.14xl.38xl0-23x300
(3—23)式:
32z^Vv|s-34,2/5.7xl0”:
2(2〃.〃温TP*力(2(6625x10)()
------2一n机“=——2—=----------------1=3.39173xIO-31Kg#求77k
3p
hIn-k0T2x3.14x1.38x10-23x300----------------°
时的Nc和Nv:
同理:
#求300k时的ni:
求77k时的rii:
八久।।八T9
19l8:X-7
n,.=(NcNvVexp(——^-)=(1.05xl0x5.7xl0)exp(——~23——)=1.094xl0②
2女0T2x1.38x10x77
77k时,由(3-46)式得到:
Ec-Eu=0.OleV=0.01X1.6X1015;T=77k;k0=1.38X10依;必=10";Nc=1.365X10%m";
』(EC_ED2cr,N7/0.01x1.6x10-19
L[nNoe*()]x2[10xexp(------------)]x2
N--------翌----=-----*2xl.38x%——=6.6x101%
Nc1.365x1019
[毕]
3-8.(P82)利用题7所给的Nc和Nv数值及Eg=0.67eV,求温度为300k和500k时,含施主浓度ND=5
,53
X10cm-.受主浓度NA=2X109cm-3的错中电子及空穴浓度为多少?
1533
[解Jl)T=300k时,对于错:ND=5X10cm-,NA=2X109cm:
%=(NcNvYexp(-毫;)=1.96x1013cm3;
〃o=ND-NA5X10I5-2X109»5X1015;
n0»n,.;
n;_(1.96x1()13)2
Po®7.7xlOlo
%一5xl015;
2)T=300k时:
Eg(500)=Eg(0)-=0.7437--74x10xSOCT“Q58132eV
6T+/3500+235
查图3-7(PR可得:%«2.2xl016,属于过渡区,
(N“-3)+[(7%-凹)2+4〃门2
=2.464x10,%
2
p0="=1.964x10"
«o
(此题中,也可以用另外的方法得到
N;=(M、)*x5002;N;=(M>)啜一x5002.%=(NCNV/exp(—^-)求得n。
300230022%裹
[毕1
3-11.(P«2)若楮中杂质电离能△氏=0.01eV,施主杂质浓度分别为N“=10"cmT及1017cm-3,计算(1)99%电
离,(2)90%电离,(3)50%电离时温度各为多少?
[解]未电离杂质占的百分比为:
\E^DNC
D小也=>D
Nck0Tk/2ND
求得:
\E0.01
Dxl.6xl0-19=116;
Ij7-1.38x1023
3
116,DNc,/DX2X10,5XT21015-
’——=In—=—=ln()=ln(0/2)
T2NDND
:1
(1)ND=10"cm,99%电离,即D=l-99%=0.01
即:—=-lnr-2.3
T2
将ND=1OI7CHT3,D_=0.01代入得:
1163,T
即:----=—In7-9.2
T2
⑵90%时,D_=0.1
1163,.
即:----=—InT
T2
11z:o
ND=10%nr3得:——=—lnT-31nlO
T2
即:—--lnT-6.9;
T2
(3)50%电离不能再用上式
.._+_ND
即:NDND
】+3xP(号)】+2exP"号)
£d£f££f
...exp(~)=4exp(-°~)
k°Tk*
即:EF=ED-k^\n2
取对数后得:
整理得下式:
kJ2NckJNc
AE,Nc
即:一生D=ln——
k°T必
当ND=10W时,
得江="7+3
T2
当N,.=1017cm3时L^=」lnT—3.9
T2
此对数方程可用图解法或迭代法解出。
[毕1
3-14.(P82)计算含有施主杂质浓度ND=9XlO/m-3及受主杂质浓度为IJX1016cm-3的硅在300k时的电子
和空穴浓度以及费米能级的位置。
l531633
[解]对于硅材料:ND=9X10cm-;NA=l.lX10cm-;T=300k时ni=1.5XlO'W:
p0=NA-ND=2X105-3;
Po=S—N"且Po=Nv•exp(J
K()/
NA~N口(Ev-EF
N-N02x1()16
E=EV-kTIn」——左=Ev-0.026In------(eV)=Ev-0.224eV
「F°nNvl.lxlO19
阐
3-18.(P82)掺磷的n型硅,已知磷的电离能为0.04eV,求室温下杂质一般甩离时费米能级的位置和磷的
浓度。
[解]n型硅,△Ec>=0.044eV,依题意得:
ND
=0.5N。
£
l+2exp(-^~75-)
.*.1+2e*(--——)=2=>exp(--~~—)=—
kaT物kJ2
ED-E卜.=—In—=&0TIn2E口——E卜,~In2
・・・AED=EC-ED=0.044
一即
EF=ECTin2—0.044=>-£c=-A:0Tln2-0.044=0.062eV
[毕]
3-19.(P82)求室温下掺睇的n型硅,使EF=(EC+ED)/2时的睇的浓度。己知睇的电离能为0.039eV。
[解]由=丝土殳可知,EF>ED,VEF标志电子的填充水平,故ED上几乎全被电子占据,又...在室温
2
下,故此n型Si应为高掺杂,而且己经简并了。
•••\ED=EC-ED=0.039eV
即0<%一辱<2;故此n型Si应为弱简并情况。
+ND心
…。=--------^7=----------AET
l+2exp(F芦)i+2exp(京)
2NcEc—EnEP—Er
ND忑口+2expy产x?亏)
半[1+2exp」;/)exp)]xF,(辱/)
V冗k/2k/
2Ng,.00195、/0.039、].-0.0195,
1+2exp(----------)exp(-------)xF,(-----------)
4TT0.0260.026:0.026
2x2.8x10'-[1+2exp(0-0195)]xF,(~°,0195)«6.6X1019(C//Z-3)
品0.02610,026
其中工(一0.75)=0.4
2
阐
3-20.(P82)制造晶体管一般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、
磷而成。①设n型硅单晶衬底是掺睇的,睇的电离能为0.039eV,300k时的EF位于导带底下面0.026eV处,
计算睇的浓度和导带中电子浓度。
[解]①根据第19题讨论,此时Ti为高掺杂,未完全电离:
OvEc—Ep=0.026<0.052=2kaT,即此时为弱简并
l+2exp(^^)
k/
其中"(-1)=0.3
2
阐
4-1.(P1l3)300K时,Ge的本征电阻率为47Q•cm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/V•S和
1900cm2/V•S,试求本征Ge的载流子浓度。
22
[解]T=300K,P=47Q•cm,u„=3900cm/V•S,uP=1900cm/V•S
p—-------------nn;=-------------=----------------------T-:--------------------2.29x10l3c/??3[毕]
〃/(〃“+/)'的(〃“+/)47x1.602x10-|9(3900+1900)
4-2.(P“3)试计算本征Si在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1350cm2/V•S和500cm2/V•S。
当掺入百万分之一的As后,设杂质全部电离,试计算其电导率。比本征Si的电导率增大了多少倍?
[解]T=300K,,u„=1350cm2/V•S,u„=500cm2/V•S
掺入As浓度为ND=5.00X1022X1O$=5.OOX1016cm3
杂质全部电离,N,>>>n;,查P89页,图4—14可查此时u“=900cm2/V•S
阐
4-13.(Pll4)掺有1.1X101653硼原子和9X10”cm。磷原子的Si样品,试计算室温时多数载流子和少数
载流子浓度及样品的电阻率。
[解]NA=1.1X10'6cm3,ND=9X1015cm3
可查图4—15得到夕=7Q•cm
(根据N.+N。=2xl()i6cmT,查图4—14得p,然后计算可得。)
[毕]
4-15.(Ptl4)施主浓度分别为1013和10"cm-3的两个Si样品,设杂质全部电离,分别计算:①室温时的电
导率。
[解]ni=10”cm-3,T=300K,
n2=10"cm-3时,查图可得〃“=800Q-cm
[毕]
5-5.(P%)n型硅中,掺杂浓度ND=10/nr3,光注入的非平衡载流子浓度An=△p=10%m'计算无光
照和有光照时的电导率。
[解]
l63
n-Si,ND=10cm-,An=Ap=10'W\查表4-14得到:«1200,//p=40():
无光照:=册〃/“=1()I6XL602X10T9X1200«1.92(S/c/n)
An=Ap«ND.为小注入:
有光照:
[毕]
5-7.(Pu4)掺施主杂质的ND=10/nr3n型硅,由于光的照射产生了非平衡载流子An=Ap=10“cm3。试
计算这种情况下准费米能级的位置,并和原来的费米能级做比较。
[解]
n-Si,ND=10l5cm-3,An=Ap=10"cm'\
光
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